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掺杂纳米

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  • 百及纳米ParcanNano 单离子注入系弘SII(纳米级定位单离子注入系统SII) 单离子注入系统(纳米级定位单离子注入系统SII)产品简介公司中德技术团队家研发了一款基于新型扫描探针精准定位的离子注入 系统,能有效控制注入半导体器件的杂质种类、数量和位置,实现多种离 子(如 H、N、O、Si、P、B、As、Te、Ar 等)的精准定位定量掺杂注入。该 系统可以满足量子比特阵列,金刚石中的氮空位中心(NV 色心)以及单原子 器件的工艺精度要求,研制的设备可用于探索纳米结构器件、量子比特系 统和量子信息处理器电路的开发。 公司的一项革 命性发明专利,解决了注入离子由于晶格散射带来的位置 不确定性问题,颠覆性地将注入离子在晶体中位置的误差缩减到 10nm 以 下,实现纳米级精确定位注入掺杂离子。技术特点:• 精准确定位定量离子注入• 针尖悬臂上的小孔小于50nm• 锥形电场稀释和准直离子束• 横向电场形成离子闸门应用领域:• 功能材料定位掺杂• 纳米尺度功能器件制备• 固态量子信息技术相关图片
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  • CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色:• 体积小巧,容易存放,桌面型;• 轻微复制微米和纳米级结构;• 热压印温度高达200℃;• 可选的高温模块,适用于250℃;• UV纳米压印,365nm曝光;• 可选的UV模块,适用于405nm曝光;• 真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);• 纳米压印压力高达11bar;• 温度分布均匀、读数精准;• 笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,完全灵活控制,自动记录数据;• 直径最大210mm(圆形)腔室;• 腔室高度为20mm;• 即插即用• 使用简单直观• 专为研发而设计• 提供安装和操作教程视频 在过去的五年中,基于石墨烯的气体传感器引起了极大的兴趣,显示出了单分子检测的优势。 最近的研究表明,与未构图的层相比,构图石墨烯可大大提高灵敏度.通过标准程序生长CVD石墨烯,然后转移到Si/SiO 2模板上进行进一步处理。 如(Mackenzie,2D Materials,[]中所述,使用物理阴影掩模和激光烧蚀来定义接触和器件区域。使用软压印在CNI v2.0中进行热纳米压印光刻,将mr-I7010E压印抗蚀剂在130℃,6bar压力下压印10分钟,压力在70℃下释放。通过反应离子蚀刻将边缘到边缘间隔为120-150nm的大面积图案的孔转移到石墨烯中,并且用丙酮除去残留的抗蚀剂。发现器件具有大约的载流子迁移率发现器件在加工前具有约2000cm2/Vs的载流子迁移率,之后具有400cm2/Vs的载流子迁移率处理,同时保持整体低掺杂水平。
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  • 一,ER30-4/125掺铒单模光纤高掺铒光纤适用于从1530到1610 nm波长区域(C和L波段)的光纤激光器和放大器。这些光纤覆盖了广泛的应用领域,从通讯放大器(掺铒光纤放大器)到高功率无源光网络/有线电视助推器,以及用于仪表、工业、医疗的超短脉冲放大器。这些高掺杂的的光纤具有标准的 Ø 125 µ m的包层直径。我们这款深截至波长的掺铒光纤在L波段有超过50%的转换效率,是普通光纤20米的一个转换效果。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 ER30-4/125掺铒单模光纤,ER30-4/125掺铒单模光纤产品特点● 针对于发射波长从1530到1610 nm,泵浦波长为980 nm和1480 nm● 几何特性使双折射效应很低,并且有出色的熔接特性● 对于泵浦激光单模光纤的典型熔接损耗小于0.1 dB● 对于SMF-28e+光纤的典型熔接损耗小于0.15 dB产品应用● C-和L-波段密集波分复用、Metro、有线电视和无源光网络● 受激自发辐射来源● 连续和脉冲激光器和放大器技术参数产品类别掺杂光纤光纤类型EDF40-F吸收峰值1532nm1(Max.[1530–1535 nm])范围30±3dB/m吸收峰值1532nm1(Max.[1530–1534 nm])典型值36 dB/m250m光纤长度上的吸收峰值波动≤2.5 %背景损耗 (Min.[1100–1300 nm])最大值≤ 10 dB/km背景损耗 (Min.[1100–1300 nm])典型值≤ 6 dB/km弯曲敏感度 (100 m, 15 mm弯曲半径, λ 1620 nm)≤ 0.1 dB截至波长890±90nm模场直径1550 nm6.5 ± 0.5μm数值孔径0.2熔接衰减 (with G.652 at 1300 & 1700 nm)≤ 0.2 dB偏振模色散 (100 m)≤ 0.25 ps包层直径125 ±1 μm涂覆层直径250 ±7 μm芯/包层同心度≤0.7 μm包/涂覆层同心度≤ 12.5 μm光纤强度1.5 % (150 KPSI)商业段长(±5 m)250, 500, 1000 m存储温度- 40°C to +75°C工作温度- 5°C to +75°C存储湿度(非凝露)5 % to 95%工作湿度(非凝露)5 % to 95 %对掺铒光纤ER30-4/125(长约5米)进行了群延迟、色散和差分群延迟检测;结果如下:群延迟以下是ER30-4/125掺铒光纤在三种不同的泵浦功率下群延迟(GD)关于波长的函数曲线。群延迟的概念是信号(例如,调制波前的特殊点)中的信息传输光学路径长度所需要的时间。色散以下是ER30-4/125掺鉺光纤在三种不同的泵浦功率下色散(CD)关于波长的函数曲线。色散是群延迟与波长关系图的局部坡度。差分群延迟以下是掺铒光纤ER30-4/125在三种不同的泵浦功率下差分群延迟(DGD)关于波长的函数曲线。差分群延迟被定义为所有偏振态的最大群延迟变化二,ER40-6/125高掺杂EDF掺铒光纤稀土掺杂光纤通常用于光纤激光器和放大器和ASE光源.Microphotons提供受激辐射波段在1000-1100 nm间掺镱(Yb)光纤、辐射在C和L通讯波段(1530 - 1610 nm)的掺铒(Er)光纤和辐射波段在1.9-2.1 µ m的掺铥(Tm)光纤。掺铒、镱、铥的光纤有单模和大模场区域(LMA)可选,掺镱和铥还可以选择保偏光纤(PM)。筱晓光子提供全系列掺铒光纤产品,可满足苛刻的光放大器设计要求,放大范围覆盖C波段和L波段。应用1480nm或980nm泵浦技术,掺铒光纤可实现35nm的放大带宽,并在带宽范围内保持增益平坦,可获得理想的功率转换效率。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 ER40-6/125高掺杂EDF掺铒光纤,ER40-6/125高掺杂EDF掺铒光纤产品特点● 优异的光纤均匀性● 高功率转换效率和低噪声设计● 业界领先的光纤几何性能● 低PMD特性● DLPC9双层涂覆确保优异的光纤机械性能● 良好的抗氢损特性● 低熔接损耗特性产品应用● DWDM放大器● CATV放大器● 980nm或1480nm泵浦● 陆地或水下通信● 国防、军工及航空航天领域技术参数产品类别掺杂光纤光纤类型EDF40-F吸收峰值1532nm1(Max.[1530–1535 nm])范围[35-40] dB/m吸收峰值1532nm1(Max.[1530–1534 nm])典型值36 dB/m250m光纤长度上的吸收峰值波动≤2.5 %背景损耗 (Min.[1100–1300 nm])最大值≤ 10 dB/km背景损耗 (Min.[1100–1300 nm])典型值≤ 6 dB/km弯曲敏感度 (100 m, 15 mm弯曲半径, λ 1620 nm)≤ 0.1 dB截至波长2≤ 1300 nm模场直径1550 nm5.4 ± 0.7μm数值孔径0.23 ± 0.02熔接衰减 (with G.652 at 1300 & 1700 nm)≤ 0.2 dB偏振模色散 (100 m)≤ 0.25 ps包层直径125 ±1 μm涂覆层直径250 ±7 μm芯/包层同心度≤0.6 μm包/涂覆层同心度≤ 12.5 μm光纤强度1.5 % (150 KPSI)商业段长(±5 m)250, 500, 1000 m存储温度- 40°C to +75°C工作温度- 5°C to +75°C存储湿度(非凝露)5 % to 95%工作湿度(非凝露)5 % to 95 %备注:1.其他波长吸收峰值可根据要求提供2.截至波长小于980 nm光纤可选低熔接差损吸收波段重复性三,Coractive ER30/ER35/ER40/ER50/Er80 保偏掺铒光纤这种掺铒单包层保偏光纤具有高吸收率和高双折射率,使该产品成为设计眼睛安全的保偏光纤激光器和放大器的理想解决方案,广泛应用在1.5µ m波段。ER35-7-PM 保偏掺铒光纤 <1450nm,ER35-7-PM 保偏掺铒光纤 <1450nm技术参数产品特点:高吸收-减少非线性效应高双折射率-最小化应力提供高效的能量传输,最小化泵的功率需求低背景损耗产品应用:超快光纤激光器和放大器激光雷达倍频效应医疗科学实验技术参数:光学参数纤芯吸收 @1530 nm – Nominal (dB/m)35 ± 7纤芯数值孔径0.22截止波长(nm)1450 ± 50模场直径 1550 nm (µ m)6.5 ± 0.5双折射≥ 1.4E-04几何和机械参数纤芯直径(µ m)5.8 ± 0.5包层直径(µ m)125 ± 2芯层同心度误差(µ m) 1.0涂层直径(µ m)245 ± 10拉力测试(kpsi)≥ 100 四 , nLIGHT Liekki 高掺杂EDF掺铒光纤/高掺杂铒增益光纤 890/1530nmLIEKKI&trade Er80-4/125-HD-PM光纤光纤是一种高掺杂的,专为光纤设计的保偏铒光纤激光。纤芯折射率分布专为正常色散高于标准阶跃折射率光纤。高铒浓度提供了强大的增益和减少所需的应用长度,以最大限度地减少非线性效应。这使得这种纤维特别适用于超短脉冲应用包含多型号 Er16-8/125 Er30-4/125(HC) Er40-4/125 Er80-8/125 Er110-4/125Er80-4/125-HD-PM保偏铒高掺杂光纤 800-980nm,Er80-4/125-HD-PM保偏铒高掺杂光纤 800-980nm技术参数产品特性优秀的吸收和光谱形状一致性高掺杂浓度使得所需光纤较短,从而降低非线性效应很好的温度稳定性低熔接损耗应用范围脉冲激光器和放大器中级功率的低非线性效应应用领域激光雷达医疗领域光纤传感适用于980nm或1480nm泵浦超短脉冲(femtosecond)放大器,激光器参数特点模场直径 @1550nm6.5 ± 0.5 um纤芯吸收峰值@1530nm80 ± 8 dB/m纤芯数值孔径0.2截止波长800-980 nm纤芯/包层偏差 0.7 um包层直径125 ± 2 um包层形状圆形涂覆层直径245 ± 15 um涂覆层材料高折射率丙烯酸酯压力测试水平 100 Kpsi包层物理结构圆,熊猫型色散值 at 1550 nm(nominal) 1-22ps/(nm*km)双折射,≥1E-04常见参数问题: 掺铒光纤nLIGHT掺铒光纤的吸收和发射截面是多少?请联系nLIGHT光纤代表以接收nLIGHT掺铒光纤吸收和发射截面的代表性数据。nLIGHT标准掺铒光纤的色散是多少?我们的掺铒光纤的色散参数敏感地取决于纤芯直径和纤芯数值孔径。根据假设标称芯径和NA的模拟,可以预期色散参数在以下范围内:光纤几何结构标称色散[ps/(nm*km)]Erxxx-4/125-12-18Erxxx-8/125 10。。。16*适用于1500 nm至1600 nm的波长范围nLIGHT的掺铒光纤的有效核心面积是多少?掺铒光纤的有效纤芯面积取决于纤芯直径和纤芯数值孔径。根据假设标称芯直径和NA的模拟,可以预期芯的有效面积在以下范围内:纤维几何结构标称有效面积[(m² )]Erxxx-4/125 26。。。32Erxxx-8/125 60。。。70*适用于1500 nm至1600 nm的波长范围nLIGHT的掺铒光纤的非线性系数是多少?根据光纤几何结构,可以预期以下标称非线性折射率:光纤几何结构标称非线性折射率n2[(cm² /W)]Erxxx-4/125 2.0&bull 10.0-16。。。2.2 &bull 10.0-16Erxxx-8/125 2.4&bull 10.0-16。。。2.5 &bull 10.0-16*适用于1500 nm至1600 nm的波长范围nLIGHT掺铒光纤的铒离子密度是多少?考虑到基本模式与纤芯的重叠,并根据光纤类型,可以预期以下铒离子密度:纤维型铒离子密度[(m-3)]Er16-8/125 6.8&bull 10.024Er30-4/125 2.1&bull 10.025Er40-4/125 3.5&bull 10.025Er80-8/125 3.9&bull 10.025Er110-4/125 8.4&bull 10.025*适用于1500 nm至1600 nm的波长范围你们提供与你们的掺铒光纤相匹配的无源光纤吗?我们不为我们的掺铒光纤提供专门的色散工程匹配无源光纤。标准电信光纤通常与我们的铒产品兼容。您的掺铒光纤在1300nm处的背景损耗是多少?请联系nLIGHT光纤代表,以获取光纤在1300 nm处的测量背景损耗。请在询价时提供您光纤的光纤代码。nLIGHT掺铒光纤的纤芯直径和掺铒直径是多少?标称芯径和掺铒直径如下:光纤型标称纤芯和掺铒直径[(m)]Erxxx-4/125 3.5Erxxx-8/125 7.6nLIGHT掺铒光纤的自发辐射寿命是多少?对于我们所有的掺铒光纤,自发辐射寿命可以假定为9 ms左右。nLIGHT掺铒光纤中淬火离子(铒团簇)的比例是多少?淬火离子的分数(铒团簇)如下所示:淬火离子的纤维型分数Er30 xxx 4.80%Er40 xxx 7.0%Er80 xxx 14.0%Er110 xxx 16.0%您建议您的掺铒光纤使用什么长度的光纤?光纤的最佳长度取决于应用,理想情况下应根据模拟确定,并考虑到精确的设计。当假设C波段(L波段)应用的总吸收为70 dB(600 dB)时,可获得初始估计值。因此,光纤长度为:1530nm[dB/m]下的光纤类型标称吸收光纤型号1530nm下的标称吸收[dB/m]C波段应用长度[(m)]L波段应用长度[(m]Er16-8/125164.538Er30-4/125(HC)302.320Er40-4/125401.815Er80-8/125800.97.5Er110-4/1251100.67.5 五,MetroGain 掺铒光纤(C+L波段) Fibercore M-12(980/125)掺饵光纤属于Fibercore公司的掺铒MetroGain系列光纤。该系列光纤专门为低成本或者小型的单级EDFA而设计的。其具有高光转换效率,从而可以仅利用较短的光纤长度即可实现EDFA。该系列光纤拥有多种包层大小规格,从而可以满足不同EDFA的需求。MetroGain系列光纤提供了三款基于980nm泵浦的产品和一款基于1480nm泵浦的产品,可实现C波段(1530~1565nm)和L波段(1565~1625nm)的光纤放大器。M-12(980/125)是一款基于980nm泵浦的光纤,泵浦吸收率高,因此作为增益光纤其所需长度短。该范围设计用于高效率“Metro-style”掺铒光纤放大器(EDFA)配置、单级放大器、放大自发辐射(ASE)光源和单通道或少通道EDFA。M-5(980/125)提供了相对较低的掺杂水平,通过降低放大器输出对精确增益长度的灵敏度来简化EDFA制造过程。M-12(980/125)具有高吸收水平,可以缩短增益长度,降低材料成本。M-12(980/80)是一种80µ M变体,受益于标准M-12(980/125)的更高吸收率,但在用于小线圈直径时允许显著更长的机械寿命,对于小型EDFA设计(如小型EDFA和微型EDFA)尤其重要。M-3(1480/125)设计用于1480nm的泵浦,其泵浦转换效率高于980nm的泵浦。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 MetroGain 掺铒光纤(C+L波段),MetroGain 掺铒光纤(C+L波段)通用参数产品特性高吸收,可用于窄增益界面或短激光腔高转换效率高转换效率出色的熔接特性 针对泵浦光波长为 980 纳米和 1480 纳米,发射波长为 C 或 L 波段优化 应用范围EDFA光纤放大器 ASE光源单通道光纤放大器微型光纤放大器技术参数:M-3(1480/125)M-5(980/125)M-12(980/125)(980/80)截止波长 (nm)1300-1450900- 970数值孔径0.21 -0.24模场直径 (um)5.1-5.9@1550nm5.5-6.3@1550nm5.7-6.6@1550nm泵浦吸收率Absorption (dB/m)2.8-3.8@1480nm6.5-10.1@1531nm4.5-5.5 @980nm5.4-7.1@1531nm11.0-13.0 @980nm16.0- 20.0 @1531nm拉力测试(%)1(100kpsi)Attenuation 衰减 (dB/km)≤10@1200nmPolarization Mode Dispersion (ps/m)0.005包层直径(um)125±180±1纤芯偏离度(um)≤0.3裸光纤直径 (um)245±15170±10涂覆层材料双丙烯酸酯典型吸收和发射光谱七 ,PS-ESF-3/125 掺铒光敏光纤 1530-1625nm相干高性能PS-ESF-3/125是分布反馈(DFB)和分布布拉格反射(DBR)激光器的理想光纤。这些光纤被设计成固有的光敏性,使器件长度变短,并具有良好的泵转换效率。如有要求,可根据客户要求提供光纤或更高感光性的产品。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 PS-ESF-3/125 掺铒光敏光纤 1530-1625nm,PS-ESF-3/125 掺铒光敏光纤 1530-1625nm通用参数特点和优点具有中等Er掺杂浓度的固有光敏性使得具有叠加光纤光栅结构的短长度器件成为可能高效率的泵信号转换良好完全匹配的无源光纤有助于构建基于光纤的组件和尾纤,具有低的泵浦和信号耦合损耗。典型应用超短甚窄线宽全光DFB和DBR激光器参数:参数单位指标型号PS-ESF-3/125工作波长nm1530-1625数值孔径NA0.280模场直径MFD @ 1550nmum5.5±1.0截止波长nm920±50峰值吸收近1530nmdB/m8.5±1.0包层直径um125.0 ±1.0纤芯直径um3.0涂覆层直径um245.0 ±15.0纤芯/包层同心度偏差um≤0.5包层/涂覆层偏差um5涂覆层材料Acrylate工作温度℃-40 ~ +85强度测试水平kpsi≥100 (0.7GN/m2)
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  • 产品介绍:纳米级静电纺丝机LSNE-3000是一种利用高压电将高分子聚合物或者熔体在强电场中进行喷射纺丝,最终得到纳米级直径的聚合物细丝。所制备的纳米纤维膜在生物医药学、滤器、复合材料传感器等领域具有广泛应用。纳米级静电纺丝机LSNE-3000产品规格参数:该仪器配备有高压电源,双喷头系统以及滚筒收集器,喷头和收集器关联系统,可独立控制的计量泵,喷头和收集器参数由控制系统控制,参数可调,满足不同实验的需求。可用于制备直径为几十纳米超细纤维,其具有非常高的比表面积,超细的直径以及极大的孔隙率。多种聚合物都可由该设备制备纳米纤维,例如PVA、PVP、PAN和PS等,还包括掺杂有其他金属离子的聚合物等。双喷头系统双喷头分别位于滚筒收集器的两侧,采用医用针头,可更换不同直径的针头,通过不同直径针头和计量泵参数的设置,可获得不同成分的复合纤维膜,满足不同实验的要求;两通道计量泵:采用连续化计量泵,使用方便,数字显示,流动速度、注射量均可以精确控制。两通道可以独立控制,设定不同的推进速度,可以和不同规格的注射器配合使用标配注射器直径0.7 mm注射液泵标配针管容积5 mL高压电源0-21 kV,数字显示、过流保护、过压保护收集筒转速铜滚筒转速0-3000 rpm,精确可调且一体成型,运行平稳产品尺寸80 cm*69 cm*69 cm 纳米级静电纺丝机LSNE-3000技术优势:高压电源0~21 kV,数字显示,过流保护,过压保护;双喷头系统分别位于滚筒收集器的两侧,采用医用针头,可更换不同直径的针头,通过不同直径针头和计量泵参数的设置,可获得不同成分的复合纤维膜,满足不同实验的要求;两通道计量泵:采用连续化计量泵,使用方便,数字显示,流动速度、注射量均可以精确控制。两通道可以独立控制,设定不同的推进速度,可以和不同规格的注射器配合使用;滚筒收集器:铜滚筒转速0~3000 rpm,精确可调且一体成型,运行平稳不晃动。纳米级静电纺丝机LSNE-3000产品特点:全方位的安全保障,设计紧凑,直观便捷;具有双喷头,单独控制,可同时进行两种成分的电纺丝,在制备复合材料方面具有很大应用;喷头端可以前后左右调节,控制针头的位置;适用于不同物理性能的喷射材料。
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  • 总览ZBLAN光纤是由ZrF4、BaF2、LaF3、AlF3和NaF等重金属氟化物组成的复合玻璃光纤。与广泛应用的石英光纤相比,ZBLAN光纤具有传输波长范围宽(0.35μm~4μm)和掺杂稀土离子发射效率高等特点。对于光纤激光器和放大器的应用,为了优化其效率,通过一种独te的光纤制造技术,筱晓光子推出低成本生产出高质量(特别是低损耗)的氟化物纤维双包层光纤,具有特定的d型芯可以设计和制造定制光纤的激光和放大器Mid-IR supercontinuumLVF非线性单模光纤由于其优良的性能,可以实现非常平坦和宽带的输出光谱。(中红外超连续介质激光器)中红外光谱和光学测量VF提出了用于光学安装的标准单模和多模光纤连接电缆。荧光LVE制造用于荧光研究的定制稀土掺杂氟化物玻璃块。晓光子提供全系列ZBLAN光纤产品,可定制波长0.04μm~0.35μm,纤芯与包层从50μm~1000μm可定制,也可定制红外线解决方案。稀土 Ho钬/Pr镨掺杂 ZBLAN双包层氟化物裸光纤,稀土 Ho钬/Pr镨掺杂 ZBLAN双包层氟化物裸光纤 通用参数产品应用光纤激光器光纤放大器类型掺稀土双包层光纤光纤类型双包层氟化物光纤掺杂元素Pr,Nd,Ho,Er,Dy,Tm,Yb,其它掺杂浓度(ppm mol)500-50000包层形状圆,八角形,长方形纤芯数值孔径0.16,0.21,0.26涂覆层数值孔径0.5截止波长(um)2.5芯径(um)2涂覆层直径(um)圆形:123/200/500(直径)八角形:123/200/500(对角线长度)矩形:123/200/500(对角线长度)包层直径(um)460,480,600第二层涂覆层厚度(um)30第二层涂覆层材料氟树脂包层材料UV固化丙烯酸脂实验测试半径1.25cm,2cm,6cm标准型号参考型号稀土掺杂稀土浓度(摩尔ppm)芯径(μm)Core NACutoff(nm)第一层包层直径(μm)包层形状第二层包层直径(μm)CladdingNA包层吸收(dB/m)ZDF-16/250-10E-CEr10,00016±20.12±0.02@ 3500 nm 2850250±13圆形460±300.50±0.02@1000nm0.3-0.8@ 980 nmZDF-18/250-60E-CEr60,00018±20.12±0.02@ 2700 nm 3400250±13圆形460±300.50±0.02@1000nm2-3@ 980 nmZDF-30/300-60E-CEr60,00030±20.12±0.02@ 2700 nm 5350300±15圆形460±300.50±0.02@1000nm4-5@ 980 nmZDF-7.5/125-40T-CTm(铥)40,0007.5±1.50.14±0.02@ 2000 nm 1700120±3圆形210±200.50±0.02@1000nm1-2@ 800 nmZDF-8.5/125-2H40T-CHo(钬)Tm2,00040,0008.5±2.00.14±0.02@ 2000 nm 2000123±4圆形195±150.50±0.02@1000nm1-2@ 800 nmZDF-10/125-30H2.5P-CHoPr(镨)30,0002,50010±10.17±0.02@ 3000 nm 2400123±3圆形210±100.50±0.02@1000nm1-2@ 1150 nmZDF-20/250-40E2.5D-CEyDy 镝40,0002,50020±30.13±0.02@ 3000 nm 4100250±13圆形460±300.50±0.02@1000nm1-2@ 980 nmZBLAN玻璃的折射率(芯,典型)HBLAN玻璃的折射率(用于包层,典型)ZBLAN玻璃的材料分散性(芯,典型)HBLAN玻璃的材料分散性(用于包层,典型)背景损耗和发射波长通过选择稀土元素和激发波长,得到不同波长的光发射。虽然芯在长波长区域具有较低的损耗,但在第一包层中的传播光在1.7um处造成更大的损耗,而由于吸收用于第二包层的氟基UV树脂而导致更多波长损耗。DCFF配置订购信息例如:DCFF-2/125-P-30-0.21-0.52/125------2=芯径 125=涂覆层直径P ----------P=掺杂稀土元素30 ---------30=第二层涂覆层厚度0.21--------0.21=纤芯数值孔径0.5 --------0.5=涂覆层数值孔径
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  • 一, 铒/镱共掺双包层光纤这款铒镱共掺光纤适用于1.5μm波段应用,具有高掺杂浓度和高能量转换能量转换。由于其高吸收率,该产品是设计光纤放大器高功率光学放大器(5w)的理想选择,广泛应用在不同的应用市场,如电信的CATV及低功率激光雷达等应用领域。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 铒/镱共掺双包层光纤,铒/镱共掺双包层光纤通用参数产品特点高掺杂浓度-提供高效的能量转换,zui小化泵浦功率需求高吸收率–zui小化纤维长度并减少非线性效应优化的铒/镱共掺合成芯–减少1µ m处的寄生发射产品应用大功率电信放大器低功率光纤激光器和光纤放大器传感器:激光雷达和光谱学参数光学数据纤芯吸收 @ 915nm (dB/m):2.4 ± 0.4纤芯吸收 @ 1535nm ( 标称值 ) (dB/m):85 ± 25核心数值孔径:0.20 ± 0.02背景损耗 @ 1200 nm (dB/km): 150.0几何与力学特性芯径 (µ m):10 ± 1包层直径 (µ m):128 ± 3纤芯/包层同心度误差 (µ m): 1.0涂层直径 (µ m):260 ± 15使用环境工作湿度(%)5-85工作温度(C&ring )0-70储存湿度(%)5-85储存温度(C&ring )-40-85熊猫型保偏掺镱光纤筱晓保偏掺镱光纤系列采用熊猫型应力元设计,以提高双折射率,具有较高的保偏性能,产品分普通涂层的单模光纤和双包层大模场光纤两大类可供选择,具有转换效率高,增益大的特点,可实现高功率高光束质量偏振光输出。适用于超快光纤激光器,以及要求偏振光输出的光纤激光器和放大器。熊猫型保偏掺镱光纤,熊猫型保偏掺镱光纤截止波长880±80nm技术参数产品特点高精度几何尺寸控制截面几何对称性良好光学性能优异应用领域材料加工、科学研究和医疗高精度测量光学检测超快光纤激光器和放大器 规格参数PN#Yb85-6/125-PMYb85-20/400-PMYb85-30/250-PM(纤芯吸收)Core Absorption at 915nm(nominal)85dB/m//模场直径Mode Field Diameter at 1060 nm (1)6.0 ± 0.520.0 ± 1.530.0 ± 0.5包层吸收Cladding Absorption at 920 nm/0.52.3核心数值孔径Core Numerical Aperture (nominal)0.110.0650.060截止波长Cut-off wavelength (2)880 ± 80nm880 ± 80nm880 ± 80nm包层数值孔径Cladding Numerical Aperture, ≥Core background loss at 1200 nm, ≤≤15db/km≤15db/km≤30db/km双折射Birefringence, ≥(1E-04)2.541.5芯包同心度Core Concentricity Error, ≤1.0um5um4um包层直径Cladding Diameter (flat-to-flat)125 ± 2um400 ± 10um250 ± 5.0um包层几何形状Cladding GeometryRound, PANDARound, PANDARound, PANDA涂层直径Coating Diameter245 ± 15um 550 ± 15um400 ± 15um涂层材料Coating MaterialDual coated low index acrylate双涂层低指数丙烯酸酯Dual coated low index acrylateDual coated low index acrylate验证试验Proof Test, ≥100kpsi100kpsi100kpsi二,LIEKKI Yb1200-10/125‒ 大模场双包层掺镱光纤LIEKKI Yb1200-10/125 光纤是高度掺杂的大模面积光纤,适用于中等功率光纤激光器和放大器应用。高包层吸收、低光暗化损耗和高光束质量的结合使它们成为紧凑型光纤功率放大器的理想选择。 LIEKKI Yb1200-10/125 光纤可用作双包层 (Yb1200-10/125DC) 和双包层保偏 (Yb1200-10/125DC-PM) 光纤。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 LIEKKI Yb1200-10/125‒ 大模场双包层掺镱光纤,LIEKKI Yb1200-10/125‒ 大模场双包层掺镱光纤通用参数 特征行业领xian的纤维沉积工艺——直接纳米颗粒沉积realNA — 精确的光纤纤芯 NA,可实现出色的光纤性能可预测性和zui小的熔接损耗适用于低非线性和高光束质量应用的大型、低 NA 纤芯结合高泵浦吸收和低光暗化损失丙烯酸酯涂层使光纤能够在极端环境条件下应用:经证明可在高达 120&ring C 和极端湿度下工作。匹配无源光纤,经过优化设计,可将熔接损耗降至zui低应用中等功率放大器和激光器脉冲和连续波应用用于倍频的红外源 工业、医疗和科学应用参数FiberLIEKKI Yb1200-10/125DCLIEKKI Yb1200-10/125DC-PMOpticalUnits976 nm时的峰值包层吸收(标称)dB/m(7.4)(7.4)920 nm时的包层吸收dB/m1.7 ± 0.31.7 ± 0.3模场直径(1)(标称)um(11.1)(11.1)核心数值孔径(realNA)0.080 ± 0.0050.080 ± 0.005包层数值孔径,≥0.480.48Core background loss at 1200 nm, ≤1200 nm时的堆芯背景损耗,≤dB/km2525Birefringence, ≥双折射,≥1E-04-1.4几何和机械属性纤芯直径um10.0 ± 1.010.0 ± 1.0纤芯同心度误差,≤um1.01.0Cladding Diameter (flat-to-flat)包层直径(平到平)um125 ± 2125 ± 2包层几何形状OctagonalRound, PANDA涂层直径245 ± 15245 ± 15涂层材料Dual coated low index acrylate双涂层低指数丙烯酸酯Dual coated low index acrylate验证试验,≥kpsi100100单模掺镱纤芯泵浦光纤 1030-1100nm (用于低功率光纤激光器)DF1100单模掺镱纤芯泵浦光纤用于低功率光纤激光器。它在977 nm处提供900 dB的高峰值吸收,并且提供了900到1064 nm的宽泵浦范围。 SM掺镱光纤(DF1100)是一种高掺杂的掺镱单模光纤 为低功率光纤激光器和放大自发辐射(ASE)光源设计的电平。 DF1100设计用于915nm或980nm左右的堆芯泵送。高吸收率允许短时间 用于飞秒锁模环形激光器或前置放大器的增益长度。 可以通过改变光纤的长度来调节光纤的发射光谱,发射 DF1100可实现1030nm至1100nm。核心泵送设计 1060、1085 和 1550nm 发射 ,与熔接锥形接头兼容的接头 ,低泵阈值设计光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 单模掺镱纤芯泵浦光纤 1030-1100nm (用于低功率光纤激光器),单模掺镱纤芯泵浦光纤 1030-1100nm (用于低功率光纤激光器)通用参数产品特点核心泵送设计1060、1085 和 1550nm 发射与熔接锥形接头兼容的接头低泵阈值设计典型应用:光纤激光器放大自发发射 (ASE) 光源掺铒光纤放大器 (EDFA)有线电视 (CATV)教育工具包参数工作波长(nm)1030 - 1100截止波长(nm)800- 900数值孔径0.14-0.17模场直径(m)5.1-6.3 @1085nm衰减(dB/km)50 @1200nm验证实验(%)1 (100 kpsi)包层直径(um)125 ±1 µ m纤芯包层同心度(um)0.5涂层直径(um)245 ± 7涂层类型Dual Layer Acrylate工作温度(C)-55至+85泵浦吸收峰值(dB/m)1500(标称)@977nm掺杂剂镱 Ytterbium (Yb)
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  • 一,氟化物单模掺铥ZBLAN光纤 ( 0.3-4.50μm)ZFG光纤重金属氟化物组成的复合玻璃光纤。与广泛应用的石英光纤相比,ZFG光纤具有传输波长范围宽0.03μm~4.5μm具有掺杂稀土离子发射效率高等特点。在光纤激光器和放大器的应用领域,为了优化其效率,通过一种独te的光纤制造技术,筱晓光子特推出低成本生产出高质量(特别是低损耗)的氟化物纤维单模光纤,具有特定的D型芯可以设计和制造定制光纤的激光和放大器Mid-IR supercontinuumLVF非线性单模光纤由于其优良的性能,可以实现非常平坦和宽带的输出光谱。(中红外超连续介质激光器)中红外光谱和光学测量。筱晓光子提供全系列ZFG光纤产品,可满足苛刻的光纤激光器的需求,可定制截止波长,纤芯直径,包层直径等,筱晓光子为您提供全方位红的外线解决方案。 光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 氟化物单模掺铥ZBLAN光纤 ( 0.3-4.50μm),氟化物单模掺铥ZBLAN光纤 ( 0.3-4.50μm) 通用参数型号ZFG SM [0.95](Tm3 5000) 3/125 纤芯直径3μm包层直径125μm第二包层直径N/A数值孔径0.23掺杂离子TmF3浓度(mol)5000ppm截止波长0.9μm短期弯曲半径≥15mm长期弯曲半径≥45mm衰减曲线三,稀土钬/铥掺杂 ZBLAN双包层氟化物裸光纤( FL ZDF系列)ZBLAN氟化物光纤的特点之一是各种稀土掺杂物,比如Tm、Pr和Er的高效率光发射。光纤用掺稀土的单模ZBLAN光纤抽芯光放大器、ASE光源和光纤激光器作为增益介质。稀土钬/铥掺杂 ZBLAN双包层氟化物裸光纤( FL ZDF系列),稀土钬/铥掺杂 ZBLAN双包层氟化物裸光纤( FL ZDF系列) 通用参数产品应用光纤激光器光纤放大器类型掺稀土双包层光纤光纤类型双包层氟化物光纤掺杂元素Pr,Nd,Ho,Er,Dy,Tm,Yb,其它掺杂浓度(ppm mol)500-50000包层形状圆,八角形,长方形纤芯数值孔径0.16,0.21,0.26涂覆层数值孔径0.5截止波长(um)2.5芯径(um)2涂覆层直径(um)圆形:123/200/500(直径)八角形:123/200/500(对角线长度)矩形:123/200/500(对角线长度)包层直径(um)460,480,600第二层涂覆层厚度(um)30第二层涂覆层材料氟树脂包层材料UV固化丙烯酸脂实验测试半径1.25cm,2cm,6cm标准型号参考型号稀土掺杂稀土浓度(摩尔ppm)芯径(μm)Core NACutoff(nm)第一层包层直径(μm)包层形状第二层包层直径(μm)CladdingNA包层吸收(dB/m)ZDF-16/250-10E-CEr10,00016±20.12±0.02@ 3500 nm 2850250±13圆形460±300.50±0.02@1000nm0.3-0.8@ 980 nmZDF-18/250-60E-CEr60,00018±20.12±0.02@ 2700 nm 3400250±13圆形460±300.50±0.02@1000nm2-3@ 980 nmZDF-30/300-60E-CEr60,00030±20.12±0.02@ 2700 nm 5350300±15圆形460±300.50±0.02@1000nm4-5@ 980 nmZDF-7.5/125-40T-CTm(铥)40,0007.5±1.50.14±0.02@ 2000 nm 1700120±3圆形210±200.50±0.02@1000nm1-2@ 800 nmZDF-8.5/125-2H40T-CHo(钬)Tm2,00040,0008.5±2.00.14±0.02@ 2000 nm 2000123±4圆形195±150.50±0.02@1000nm1-2@ 800 nmZDF-10/125-30H2.5P-CHoPr(镨)30,0002,50010±10.17±0.02@ 3000 nm 2400123±3圆形210±100.50±0.02@1000nm1-2@ 1150 nmZDF-20/250-40E2.5D-CEyDy 镝40,0002,50020±30.13±0.02@ 3000 nm 4100250±13圆形460±300.50±0.02@1000nm1-2@ 980 nmZBLAN玻璃的折射率(芯,典型)HBLAN玻璃的折射率(用于包层,典型)ZBLAN玻璃的材料分散性(芯,典型)HBLAN玻璃的材料分散性(用于包层,典型)背景损耗和发射波长通过选择稀土元素和激发波长,得到不同波长的光发射。虽然芯在长波长区域具有较低的损耗,但在第一包层中的传播光在1.7um处造成更大的损耗,而由于吸收用于第二包层的氟基UV树脂而导致更多波长损耗。DCFF配置订购信息例如:DCFF-2/125-P-30-0.21-0.52/125------2=芯径 125=涂覆层直径P ----------P=掺杂稀土元素30 ---------30=第二层涂覆层厚度0.21--------0.21=纤芯数值孔径0.5 --------0.5=涂覆层数值孔径
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  • 应用于高空间分辨率下同位素和痕量元素分析的SIMSNanoSIMS 50L是一款独特的离子探针,在高横向分辨率下优化了SIMS分析性能。该仪器的开发借鉴了一次离子束和二次离子提取的同轴光学设计以及具有多接收功能的原始扇形磁质量分析仪。NanoSIMS 50L能同时提供关键性能,而使用任何其他已知的仪器或技术只能部分提供这些性能: 高分析空间分辨率(低至50纳米) 高灵敏度(元素成像中的ppm) 高质量分辨率(M/dM) 并行采集七种不同质荷比离子 快速采集(直流模式,不发生脉冲) 能够分析电绝缘样品 经改良,现在可实现千分之十几的同位素比值再现性。 应用领域:微生物学: NanoSIMS 50L为环境中混合微生物群落研究中的单细胞系统发育特征(使用FISH或El-FISH)和代谢功能(使用稳定同位素标记)的结合开辟了新的可能性。 细胞生物学: NanoSIMS 50L具备50纳米分辨率和测定同位素比值功能,可实现对细胞内带有稳定同位素标记的分子的积累和传输的测量。 地质学和空间科学: NanoSIMS 50L可以对行星际尘埃颗粒、陨石和矿物部分的亚微米区域、晶粒或包裹体进行精确的同位素和元素测量。该仪器在多个法拉第杯配置下工作,并具有几微米的光斑尺寸,可以提供同位素比值测量,具有极高精确度以及低至千分之十几的的外部再现性。 材料研究: 凭借高质量分辨率下的高灵敏度(无质量干扰),即使在电绝缘材料中,NanoSIMS 50L也可以在50纳米SIMS横向分辨率下进行痕量元素(掺杂物)成像和定量分析。除稀有气体以外的所有元素(从氢到钚)均可测量。 NanoSIMS 最初由法国巴黎第十一大学的G. Slodzian教授设计。
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  • 总览ZBLAN氟化物光纤的特点之一是各种稀土掺杂物,比如Tm、Pr和Er的高效率光发射。光纤用掺稀土的单模ZBLAN光纤抽芯光放大器、ASE光源和光纤激光器作为增益介质。稀土Ey/Dy镝掺杂 ZBLAN双包层氟化物裸光纤( FL ZDF系列),稀土Ey/Dy镝掺杂 ZBLAN双包层氟化物裸光纤( FL ZDF系列) 通用参数产品应用光纤激光器光纤放大器类型掺稀土双包层光纤光纤类型双包层氟化物光纤掺杂元素Pr,Nd,Ho,Er,Dy,Tm,Yb,其它掺杂浓度(ppm mol)500-50000包层形状圆,八角形,长方形纤芯数值孔径0.16,0.21,0.26涂覆层数值孔径0.5截止波长(um)2.5芯径(um)2涂覆层直径(um)圆形:123/200/500(直径)八角形:123/200/500(对角线长度)矩形:123/200/500(对角线长度)包层直径(um)460,480,600第二层涂覆层厚度(um)30第二层涂覆层材料氟树脂包层材料UV固化丙烯酸脂实验测试半径1.25cm,2cm,6cm标准型号参考型号稀土掺杂稀土浓度(摩尔ppm)芯径(μm)Core NACutoff(nm)第一层包层直径(μm)包层形状第二层包层直径(μm)CladdingNA包层吸收(dB/m)ZDF-16/250-10E-CEr10,00016±20.12±0.02@ 3500 nm 2850250±13圆形460±300.50±0.02@1000nm0.3-0.8@ 980 nmZDF-18/250-60E-CEr60,00018±20.12±0.02@ 2700 nm 3400250±13圆形460±300.50±0.02@1000nm2-3@ 980 nmZDF-30/300-60E-CEr60,00030±20.12±0.02@ 2700 nm 5350300±15圆形460±300.50±0.02@1000nm4-5@ 980 nmZDF-7.5/125-40T-CTm(铥)40,0007.5±1.50.14±0.02@ 2000 nm 1700120±3圆形210±200.50±0.02@1000nm1-2@ 800 nmZDF-8.5/125-2H40T-CHo(钬)Tm2,00040,0008.5±2.00.14±0.02@ 2000 nm 2000123±4圆形195±150.50±0.02@1000nm1-2@ 800 nmZDF-10/125-30H2.5P-CHoPr(镨)30,0002,50010±10.17±0.02@ 3000 nm 2400123±3圆形210±100.50±0.02@1000nm1-2@ 1150 nmZDF-20/250-40E2.5D-CEyDy 镝40,0002,50020±30.13±0.02@ 3000 nm 4100250±13圆形460±300.50±0.02@1000nm1-2@ 980 nmZBLAN玻璃的折射率(芯,典型)HBLAN玻璃的折射率(用于包层,典型)ZBLAN玻璃的材料分散性(芯,典型)HBLAN玻璃的材料分散性(用于包层,典型)背景损耗和发射波长通过选择稀土元素和激发波长,得到不同波长的光发射。虽然芯在长波长区域具有较低的损耗,但在第一包层中的传播光在1.7um处造成更大的损耗,而由于吸收用于第二包层的氟基UV树脂而导致更多波长损耗。DCFF配置订购信息例如:DCFF-2/125-P-30-0.21-0.52/125------2=芯径 125=涂覆层直径P ----------P=掺杂稀土元素30 ---------30=第二层涂覆层厚度0.21--------0.21=纤芯数值孔径0.5 --------0.5=涂覆层数值孔径技术参数光纤损耗谱
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  • Imina公司的miBotTM是世界上最紧凑的机器人,具有4个自由度及纳米定位分辨率,专为FIB/SEM电性测量及分析开发。与传统纳米机械手不同,miBotTM是一种自由移动机械手,几乎不受限制,能够在载台表面自由移动。由于采用非固定安装,miBotTM可以定位任意位置同时能够测量各种外形样品。miBotTM采用压电陶瓷驱动,运动范围达厘米级,定位分辨率从微米到纳米不等,步进模式能够快速移动探针指感兴趣区域,而扫描模式能够快速落针。miBotTM具备高刚度手臂使其抗震性好,其无与伦比的稳定性确保了即使在最小的样品上也能长时间保持稳定接触。miBots移动均在本身方向进行,无需传统旋转和平移耦合控制,因而操控非常直观。用户很快可掌握,大大减小损坏样品的风险,用户也更为直观实现各类电学测量分析。功能丰富且容易满足各类样品需求优化的操作设计确保操作简单、测量安全可靠、数据传输快兼容低加速电压和短工作距离分析,同时支持磁性镜筒的高分辨率成像55°倾斜角度下依然能长时间稳定定位和电学接触,满足FIB原位分析厘米级移动范围,高达15μm范围高精度纳米级精细运动控制适配小工作距离适配磁性镜筒平台适配FIB大倾转分析标准纳米钨针光纤机械手配置灵活方便可选配置:1. 变温载台温度范围:-30℃~+150℃,可连续精准控温温度稳定性:0.05℃可折叠散热器满足小腔体SEM安装Peltier半导体制冷无震动 2. EFA电性失效分析专为EBIC、EBAC/RCI和EBIRCh的高效精确缺陷定位设计实时成像,缩短数据传输时间自动路径规划简化操作流程各种故障案例进行高性能分析 3. XYZ子样品台在电镜载台运动外增加样品独立XYZ调节降低探针落针时间及满足批量测量行程范围:5mm(X/Y),330μm(Z)分辨率:2nm(X/Y),7nm(Z) 4. 软件模块化纳米分析工作流程预设分步式流程,降低学习曲线并减少数据处理时间快速设置工作流程,轻松完成落针配备预定义的测量配方管理测量数据库,轻松进行曲线对比及结果导出 5. 大样品载台双层架空设计最大支持2英寸晶圆以及先进封装和横截面样品测试不同高度支架选择满足各种高度样品分析 6. 标准失效分析设备设计可选标准19寸机柜,可容纳各类控制器及标准可参数分析仪标准工具和配件工具箱预装软件工作站及配套显示器应用场景:1. 纳米分析失效分析和可靠性分析集成电路安全评估芯片设计及逆向工程 2. EBAC/RCI分析开路、电阻或短路缺陷定位分析制造和长期问题诊断低电阻梯度分析 3. 半导体器件分析单个晶体管/二极管的I-V曲线测量SRAM位单元特性分析通孔电阻率测量 4. 电性测量MEMS和传感器驱动和分析光电子器件测试:MicroLED、太阳能电池材料表征:纳米线、石墨烯、薄膜、纳米颗粒 5. EBIC分析PN结区可视化及缺陷定位偏压下样品电荷成像分析掺杂可视化及分析 6. 纳米操纵纳米颗粒分离和定位TEM样品制备微纳组装
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  • 纳米颗粒制备仪 桌面式喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外:贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾,并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点:实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制,通信通过rs232玻璃纤维过滤器:干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。
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  • 五谷杂粮全自动不锈钢磨粉机海璐智能纳米粉碎机智产600目至2万目智能制造:全自动纳米粉碎机 精密美观执行规定:GB4706.1 GB4706.30设备类型:高速气流粉碎机产品特点:低温 超细 食品级 全自动产品型号:CN65639 2019-2039产品材质:SUS304不锈钢 净重2690g产品功率:300W 电压110V/220V电机转速:28000r/min 产能>400g/次入料干燥:>99% 不含油不含胶 硬度<46HRC出料粒度:3层机智产600目至20000目自动清理:入新料前掀盖 开机 瞬间自动清理干净操作提示:亲 请开机时注意离手产品质保:按说明书使用免工费维护10年用户体验:按说明书使用2层机600目3层机2万目4层机26万目5层机40万目(12纳米)产品祝福语:全自动智能纳米粉碎机的研发成功,是人类品质生活的源泉。将为人类生活提供更佳的享受与体验,给予人类思维方式的更新以及生活方式的现代化。全自动智能纳米粉碎机,助予科研更成功,助予男性更健壮、助予女性更美丽、助予长辈更幸福、助予孩童更聪明。全自动智能纳米粉碎机,助于您关爱生命,健康幸福!
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  • 纳米颗粒制备仪 大型实验室喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外:贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾,并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-M是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-M设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点:实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制,通信通过rs232玻璃纤维过滤器:干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。
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  • 低温mK纳米精度位移台德国attocube公司是上著名的端环境纳米精度位移器制造公司。拥有20多年的高精度低温纳米位移台的研发和生产经验。公司已经为全科学家提供了5000多套位移系统,用户遍及全球著名的研究所和大学。它生产的位移器设计紧凑,体积小,种类包括线性XYZ线性位移器、大角度倾角位移器、360度旋转位移器和扫描器。德国attocube公司的位移器以稳定而优异的性能,原子的定位精度,纳米位移步长和厘米位移范围受到科学家的肯定和赞誉。产品广泛应用于普通大气环境和端环境中,包括超高环境(5E-11mbar)、低温环境(10mK)和强磁场中(31Tesla)。德国attocube公司一直以来保持与科学家的亲密合作关系,不断为量子光学领域提供新的实验平台来保证科学家们进行具有突破性的研究。近期重磅推出了适用于低温mK温区的铍铜材质纳米位移台。mK位移台应用领域表面科学磁/电学输运测量微腔光学量子光学适用于稀释制冷机的终解放方案mK位移台技术优势 当步进到制定位置后,施加在压电陶瓷上的电压变为0V,因此不存在由于外加电信号而产生噪音或飘逸问题; 驱动定位器所需要的电压一般较低(60V或150V),因此不需要进行高压屏蔽,很多低压中使用的电缆和接口都可以在这里使用; Attocube位移器可以同时作为粗逼近装置和精细扫描头使用,因此大的提高了设备的稳定性和结构的紧凑性 Attocube mK位移器采用铍铜(BeCu)材质,在端温度下会有更高的热导性和稳定性而且不会产生额外的磁场影响测量信号mK位移台基本参数 工作温度范围:10mK - 373K 工作磁场环境:0 - 31Tesla 工作环境:大气 - 5E-11mbar 闭环位移控制精度:1nm 负载重量:大可到2Kg 大位移范围:50mm 位移器小尺寸:11X11mm应用案例■ Attocube mK纳米位移台在分数量子霍尔效应区的非线性光学中的应用关键词:量子霍尔效应;四波混频;化激元设计光学光子之间的强相互作用是量子科学的一项重要挑战。来自瑞士苏黎世联邦理工学院(Institute of Quantum Electronics, ETH Zürich, Zürich,)的研究团队报告了在光学腔中嵌入一个二维电子系统的时间分辨四波混频实验,证明当电子初始处于分数量子霍尔态时,化激元间的相互作用会显著增强。此外,激子-电子相互作用导致化子-化激元的生成,还对增强系统非线性光学响应发挥重要作用。该研究有助于促进强相互作用光子系统的实现。(https://doi.org/10.1038/s41586-019-1356-3)值得指出的是,该实验在温度低于100mK的环境下进行,使用了德国attocube公司的低温mK环境适用纳米精度位移台来实现物镜的移动和聚焦。参考文献Knüppel, P., Ravets, S., Kroner, M. et al. Nonlinear optics in the fractional quantum Hall regime. Nature 572, 91–94 (2019). ■ Attocube mK纳米位移台在二维铁磁材料研究中的应用关键词:二维铁磁材料; 低温纳米精度位移台; 反铁磁态;二次谐波近年来,二维磁性材料在国际上成为备受关注的研究热点。近日,中国与美国的研究团队合作,在二维磁性材料双层三碘化铬中观测到源于层间反铁磁结构的非互易二次谐波非线性光学响应,并揭示了三碘化铬中层间反铁磁耦合与范德瓦尔斯堆叠结构的关联。研究团队同时发现,双层反铁磁三碘化铬的二次谐波信号相比于过去已知的磁致二次谐波信号(例如氧化铬Cr2O3),在响应系数上有三个以上数量的提升,比常规铁磁界面产生的二次谐波更是高出十个数量。利用这一强烈的二次谐波信号,团队得以揭示双层三碘化铬的原胞层堆叠结构的对称性。运用光学二次谐波这一方法来探测二维磁性材料的磁结构与相关特性是此实验的关键。团队利用自主研发搭建了的无液氦可变温强磁场显微光学扫描成像系统,完成了关键数据的探测。(https://doi.org/10.1038/s41586-019-1445-3)值得指出的是,该无液氦可变温强磁场显微光学扫描成像系统采用的是德国attocube公司的低温强磁场纳米精度位移台和低温扫描台来来实现样品的位移和扫描。德国attocube公司是上著名的端环境纳米精度位移器制造商。公司已经为全科学家生产了4000多套位移系统,用户遍及全球著名的研究所和大学。它生产的位移器设计紧凑,体积小,种类包括线性XYZ线性位移器、大角度倾角位移器、360度旋转位移器和纳米精度扫描器。参考文献Sun, Z., Yi, Y., Song, T. et al. Giant nonreciprocal second-harmonic generation from antiferromagnetic bilayer CrI3. Nature 572, 497–501 (2019). ■ Attocube mK旋转台在石墨烯摩尔超晶格可调超导特性研究中的应用关键词:石墨烯;超晶格;高温超导高温超导性机制是凝聚态物理领域世纪性的课题。这种超导性被认为会在以Hubbard模型描述的掺杂莫特缘体中出现。近期,来自美国和中国的国际科研团队合作在nature上发表文章报道了在ABC-三层石墨烯(TLG)以及六方氮化硼(hBN)摩尔超晶格中发现可调超导性特征。研究人员通过施加垂直位移场,发现ABC-TLG/hBN超晶格在20开尔文的温度下表现出莫特缘态。进一步冷却操作发现,在温度低于1K的时候,该异质结的超导的特特性开始出现。通过进一步调控垂直位移场,研究人员还成功实现了超导体-莫特缘体-金属相的转变。电学输运工作的测量是在进行仔细的信号筛选后,在本底温度为40mK的稀释制冷剂内进行的。值得指出的是,样品的面内测量需要保证样品方向与磁场方向平行,这必须要求能够在低温(40mK)环境下能够良好工作工作的旋转台来移动样品,确保样品与磁场方向平行。实验中使用了德国attocube公司的mK纳米精度旋转台。Attocube公司能够提供水平和竖直方向的旋转台,实现使样品与单轴线管的超导磁场方向的夹角调整为任意角度。通过电学输运结果,证实了样品中存在的超导与Mott缘体与金属态的转变(结果如图所示),证明了三层石墨烯/氮化硼的超晶格为超导理论模型(Habbard model)以及与之相关的反常超导性质与新奇电子态的研究提供了模型系统。 ABC-TLG/hBN的超导性图左低温双轴旋转台;图右下:石墨烯/氮化硼异质节的超导性测量测试结果,样品通过attocube的mK适用旋转台旋转后方向与磁场方向平行参考文献Guorui CHEN et al, “Signatures of tunable superconductivity in a trilayer graphene moiré superlattice” Nature, 572, 215-219 (2019)■ Attocube 低温位移台在NV center在加压凝聚态系统中的量子传感中的应用关键词:NV色心;量子传感器压力引起的影响包括平面内部性质变化与量子力学相转变。由于高压仪器内产生巨大的压力梯度,例如金刚石腔,常用的光谱测量技术受到限制。为了解决这一难题,一个新奇的纳米尺度传感器被三个课题组研发,三个团队分别为巴黎十一大学,香港中文大学和加州伯克利大学。研究者把量子自旋缺陷集成到金刚石压腔中来探测端压力和温度下的微小信号,空间分辨率不受到衍射限限制。为此,加州伯克利大学团队使用与光学平台高度集成的闭循环德国attocube公司的attoDRY800低温恒温器来进行试验,attoDRY800中集成了attocube公司的低温纳米精度位移台,以此来实现快速并且控制金刚石压强的移动以及测量实验。参考文献[1] S. Hsieh et al., Science, Vol. 366, Issue 6471, pp. 1349~1354 (2019) ;[2] M. Lesik, et al., Science, Vol. 366, Issue 6471, pp. 1359~1362 (2019);[3] K. Yau Yip et al., Science, Vol. 366, Issue 6471, pp. 1355~1359 (2019).■ Attocube mK位移台在外加磁场和电场的加速化子中的应用人们普遍认为光子不能用电场或磁场操纵。尽管光子与电子化的杂化形成激子化子为在半导体微腔中进行了许多开创性的实验,这些微腔的中性玻色子性质准粒子严重限制了它们对外部规范场的响应。近,来自瑞士苏黎世联邦理工大学(ETH Zürich)Prof. Atac Imamoglu课题组展示了在非微扰耦合下的外电场和磁场加速化子和流动电子形成的新准粒子,称为化子。值得注意的是,我们还观察到化子的不同化成分可以当电子处于π1整数量子霍尔态时,能够在相反方向被加速。下图展示了其实验装置光路示意图和k | |=0处的对应光谱,x轴代表面内动量k |,y轴代表能量E,时间演化由激子腔失谐给出。 值得指出的是,值得指出的是,该实验在温度低于100mK的环境下进行,其使用了德国attocube公司的低温mK环境适用纳米精度位移台来实现样品的移动和聚焦。参考文献Chervy T , Knüppel, Patrick, Abbaspour H , et al. Accelerating Polaritons with External Electric and Magnetic Fields[J]. 2019.■ Attocube mK位移台在材料输运性质随磁场角度的变化研究中的应用 北京大学量子材料科学中心林熙课题组成功研制出基于attocube低温mK位移台研制的低温强磁场下的样品旋转台,用于测量材料的输运性质随磁场角度的变化研究。基本参数:旋转台型号: Attocube ANR101/RES系统环境温度: 20 mK电学测量温度: 22 mK旋转角度范围: -10°~90°实现角度分辨率:0.1°该系统是基于Leiden CF-CS81-600稀释制冷机系统的一个插杆,插杆的直径为81mm,attocube的mK位移台通过一个自制的转接片连接到插杆上,如图1所示,位于磁场中心的样品台的尺寸为5mm*5mm,系统磁场强度为10T。系统的制冷功率为340μW@120mK,得益于attocube低温位移台低的发热功率及工作时非常小的漏电流,使得旋转台能够很好的在<200mK的温度下工作(工作参数:60V,4Hz, 300nF)。 图1. 实现的旋转示意图和ANR101装配好的实物图图2. 侧视图,电学测量的12对双绞线从旋转台的中心孔穿过 图3中是一个GaAs/AlGaAs样品在不同角度下测试结果,每一个出现小电导率的点,代表着不同的填充因子。很好的验证了其实验方案的可行性和稳定性。图3. Shubnikov–de Haas Oscillation at T = 100 mK 参考文献Rev. Sci. Instrum. 90, 023905 (2019)发表文章[1] P. Knüppel et al. Nonlinear optics in the fractional quantum Hall regime. Nature 572, 91 (2019). [2] C.T. Nguyen et al. An integrated nanophotonic quantum register based on silicon-vacancy spins in diamond. Phys. Rev. B 100, 165428 (2019).[3] P. Wang et al. Piezo-driven sample rotation system with ultra-low electron temperature. Rev. Sci. Instrum. 90, 023905 (2019). [4] G. Chen et al. Signatures of tunable superconductivity in a trilayer graphene moiré superlattice. Nature 572, 215 (2019). [5] S. Guiducci et al. Full electrostatic control of quantum interference in an extended trenched Josephson junction. Phys. Rev. B 99, 235419 (2019).[6] S. Ravets et al. Polaron polaritons in the integer and fractional quantum Hall regimes. Phys. Rev. Lett. 120, 057401 (2018).[7] L. Bours et al. Manipulating quantum Hall edge channels in graphene through scanning gate microscopy. Phys. Rev. B 96, 195423 (2017)[8] K. Yasuda et al. Quantized chiral edge conduction on domain walls of a magnetic topological insulator. Science 358, 1311 (2017).[9] A. M. Nikitin et al. Superconducting and ferromagnetic phase diagram of UCoGe probed by thermal expansion. Phys. Rev. B 95, 115151 (2017).[10] Y. Pan et al. Rotational symmetry breaking in the topological superconductor SrxBi2Se3 probed by upper-critical field experiments. Sci. Rep. 6, 28632 (2016).[11] G. Zhang et al. Global and local superconductivity in boron-doped granular diamond. Adv. Mater. 26, 2034, (2014).[12] M. Timmermans et al. Observing vortex motion on NbSe2 with STM. Physica C 503, 154 (2014).[13] M. Timmermans et al. Dynamic visualization of nanoscale vortex orbits. ACS Nano 8, 2782 (2014).[14] M. Pelliccione et al. Design of a scanning gate microscope in a cryogen-free dilution refrigerator. Rev. Sci. Instrum. 84, 033703 (2013)用户单位attocube纳米精度位移器以其稳定的性能、高的精度和良好的用户体验得到了国内外众多科学家的认可和肯定,在全球范围内有超过了4000多位用户。attocube公司的产品在国内也得到了低温、超导、真空等研究领域著名科学家和研究组的欢迎......国内部分用户国外部分用户
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  • 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVDNanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。在与诺奖科研团队的长期合作中获得的丰富经验使该系列产品具有非常高的性能。特别是针对石墨烯、碳纳米管等不同的应用进行了针对性的优化。该系列产品操作简便,生长条件控制,生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性,这些特点使得该系列产品受到多个石墨烯研究团队的赞誉。该系列产品适合于想要制备高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。例如,埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学这些知名的高校均是nanoCVD系列的用户。nanoCVD采用全新的设计理念,可以快速、高质量地生产石墨烯或碳纳米管。与传统的简易CVD(管式炉)相比,该系统基于冷壁设计方案,具有以下主要优点:◎ 系统可以快速的升温和降温。◎ 更加的条件控制和可靠的工艺重现性。◎ 安全性设计,具有尾气稀释模块。◎ 智能化设计,全自动引导式触屏操作系统。◎ 支持自动程序的设定与储存。◎ 雄厚的技术积累,专业的技术支持。设备型号台式超高质量石墨烯快速制备CVD系统- nanoCVD 8GnanoCVD-8G系统是性能稳定的快速的石墨烯生长系统。nanoCVD-8G具有压强自动控制系统,可以的控制石墨烯生长过程中的气氛条件。系统采用低热容的样品台可在2分钟内升温至1000℃并控温。该装置采用了冷壁技术,样品生长完毕后可以快速降温。正是因为这些条件可以让用户在30分钟内即可获得高质量的石墨烯。用户通过HMI触屏进行操作,所有的硬件都是自动化的。更有内置的标准石墨烯生长示例程序供用户参考。该系统安装迅速,非常适合需要持续快速获取高质量石墨烯用于高质量学术研究的团队。埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学等很多全球著名的高校都是该系统的用户。主要特点: ◎ 合成高质量、可重复的石墨烯◎ 生长条件控制◎ 高温度:1100 °C◎ 生长时间:30 min◎ 基片尺寸大:20 × 40 mm2◎ 全自动过程控制◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4) ◎ 用户友好型触屏控制◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计,尾气稀释模块◎ 兼容超净间◎ 系统性能稳定部分数据展示:小型等离子增强大尺寸石墨烯制备CVD系统 - nanoCVD WPGnanoCVD-WPG将nanoCVD-8G高质量石墨烯生长的功能与等离子体增强技术相结合,系统可制备晶圆尺寸(3英寸或4英寸)别的样品。除此之外,利用该系统的生长控制条件可以制备多种高质量的2D材料,该系统是小型CVD系统性能上的一个重大飞跃。全新的设计方案和控制系统使该系统成为制备大面积2D样品的上佳选择。应用领域包括:石墨烯和2D材料、光伏电、触屏材料、高性能生物电子材料、传感器、储能材料。主要特点:◎ 晶圆样品尺寸: 3英寸、4英寸◎ 150 W/13.56 MHz RF 电源◎ 多个等离子体电◎ 高温度1100 °C◎ 腔体冷壁技术◎ 全自动条件控制◎ 用户友好的触屏操作◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计,尾气稀释模块◎ 兼容超净室◎ 基于成熟的NanoCVD技术生长条件:◎ 衬底:Cu、Ni等薄膜或薄片◎ 工作原料:CH4,C2H4, PMMA等◎ 保护气体:H2,Ar,N2等典型配置指标:◎ 腔体:腔壁水冷技术,热屏蔽不锈钢腔体◎ 真空系统:分子泵系统,5×10-7 mbar本底真空。◎ 样品台:大4英寸直径,高1100°C ◎ 操作控制:触摸屏/电脑接口;可手动控制或自动控制◎ 气体控制:MFC 流量计,Ar,CH4,H2为标配种类。◎ 过程控制:自动控制◎ 等离子源:150 W/13.56 MHz RF 电源,样品台附近或需要的位置产生等离子体。 ◎ 安全性:冷却与真空锁系统,气体稀释模块。台式超碳纳米管快速制备CVD系统 - nanoCVD 8NnanoCVD-8N与石墨烯生长系统nanoCVD-8G有诸多共同之处,并针对碳纳米管生长条件进行了优化。这些条件对于碳纳米管(CNT)样品的质量和可重复性(主要是单壁形式)是至关重要的。创新的冷壁式腔体与传统管式设备相比更易控制实验条件和快速升降温。nanoCVD-8N具有智能的控制系统和完备的安全性设计。设备易于安装,易于使用,是快速进入高质量研究的理想选择。该系统获得沃里克大学用户的高度赞誉。碳纳米管可采用Fe、Co、Ni的纳米颗粒作为催化剂生长在SiO2/Si, Si3N4以及石英等衬底上。通过衬底与催化剂的选择,可以生长的碳纳米管有:• 随机: 随机方向的相互交叠的单壁碳纳米管• 有序: 平行的单壁碳纳米管• 竖直: 竖直的单壁碳纳米管束主要特点: ◎ 合成的碳纳米管具有很高的可重复性;◎ 专门为单壁碳纳米管进行了优化;◎ 生长条件控制;◎ 高温度:1100 °C;◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4); ◎ 基片尺寸:大20 × 40 mm2;◎ 生长时间:30 min;◎ 全自动生长条件控制;◎ 用户友好型触屏;◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据;◎ 易于维护;◎ 全面安全性设计,尾气稀释模块;◎ 兼容超净间;◎ 系统性能稳定;部分数据展示: 发表文章Residual metallic contamination of transferred chemical vapor deposited grapheneLupina, G., et al. ACS Nano 2015 DOI: 10.1021/acsnano.5b01261本文作者研究了通常用于将CVD石墨烯放置到应用衬底上的湿转移工艺会导致材料的微量污染。这些纯度会对石墨烯的其他特殊特性产生不利影响,并对电子和光电应用产生影响。相关设备: nanoCVD-8G Transparent conductive graphene textile fibersNeves, A. I. S., et al. Scientific Reports 2015 DOI: 10.1038/srep09866使用nanoCVD-8G制成的石墨烯被转移到纤维上,次生产出柔韧的、完全嵌入的纺织电。石墨烯的高质量意味着电具有超低的表面电阻和高的机械稳定性。相关设备: nanoCVD-8G High quality monolayer graphene synthesized by resistive heating cold wall chemical vapor depositionBointon, T. H., et al. Advanced Materials 2015 DOI: 10.1002/adma.201501600展示了冷壁法CVD合成石墨烯的优势,并报道了使用nanoCVD – 8G制备的高质量石墨烯材料具有超高的载流子迁移率,表现出半整数量子霍尔效应,这与剥离制备的样品相当。相关设备: nanoCVD-8GMapping nanoscale electrochemistry of individual single-walled carbon nanotubesGüell, A. G., et al. Nano Letters 2014 DOI: 10.1021/nl403752e利用nanoCVD – 8N技术制备了单壁碳纳米管,并利用电化学技术对其进行了研究。高分辨率的测量可以检查单个单壁碳纳米管的特性。这一发现对未来使用SWNT电的器件设计具有重要意义。相关设备: nanoCVD-8N Nanoscale electrocatalysis: Visualizing oxygen reduction at pristine, kinked, and oxidized sites on individual carbon nanotubesByers, J. C., et al. Journal of the American Chemical Society 2014 DOI: 10.1021/ja505708y电化学技术,结合使用nanoCVD - 8N技术产生的单壁碳纳米管,被用来证明即使在没有掺杂、修饰或缺陷的情况下,碳纳米管也表现出显著的活性。相关设备: nanoCVD-8N用户单位埃克塞特大学哈德斯菲尔德大学莱顿大学亚森工业大学
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  • 综合概述 ATR7010EO是基于拉曼的食用油掺杂分析仪,可以定量检测食用油掺杂的含量。可用于食用油品企业的研发设计、工艺开发和生产等环节,通过检测食用油的拉曼图谱并作定量分析,帮助用户测试掺杂浓度,确定食用油品的掺杂的关键参数、比例,提升食用油产品质量,实现企业高效、安全、稳定的放大生产。ATR7010EO是奥谱天成顺应市场食用油掺杂检测需求全新研制推出的一款拉曼光谱仪,它采用制冷型高灵敏度CCD,使得仪器具有良好的环境适应性,可根据用户的油品实际情况按照需求进行定制,使之适合于企业生产和实验室食用油品科学研究。 ATR7010EO配备的多功能软件,可实现食用油掺杂的快速分析,支持用户快速提取掺杂所需信息,让用户能更轻松作出后续决策,提升食用油品的质量。产品特点l 定量检测:可对食用油的掺杂含量(0%~100%)进行定量检测。l 安全环保:不用进行复杂化学实验分析,避免操作员接触强腐蚀性、剧毒、易燃易爆等高危化学品,提高安全性;l 高灵敏度:采用高灵敏度的制冷型CCD,可实现低掺杂食用油品掺杂的检测;l 适用性强:仪器设计兼顾体积与性能,满足茶油、大豆油、橄榄油等食用油品的掺杂的检测;l 一键式分析:配备功能强大、界面友好的的光谱分析软件,一键式操作,意味着无论是专家还是初次使用拉曼光谱仪的用户,均可快速和准确采集食用油品数据和分析食用油掺杂。典型应用l 茶油掺杂 ● 花生油掺杂 l 大豆油掺杂 ● 葵花油掺杂 l 橄榄油掺杂 ● 菜籽油掺杂 l 玉米油掺杂ATR7010EO原理食用油作为高效的能量来源,人体每时每刻的生理活动都需要能量的支持。传统食用油掺杂检测方法主要依赖于理化法、色谱法、气质连用法,红外法等检测手段,这些检测方法往往需要繁琐的前处理过程,费时、费力且费用高,且无法确认油品的产地,这对一些企业和单位进行食用油的掺杂检测和产地鉴定造成了一定的困难。拉曼光谱是由印度科学家C. V. Raman在 1928 年发现的一种散射光谱。拉曼光谱能反映分子转动、振动信息。食用油的种类和食用油所含的饱和与不饱和脂肪酸比例有关,食用油的各个特征峰强度分别反应的是饱和与不饱和脂肪酸的含量,所以食用油的掺杂定量实际上定的是饱和与不饱和脂肪酸混合物的比例。仪器信息 仪器外观信息 表2-1 ATR7010EO技术规格
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  • 金属纳米颗粒制备 金纳米材料具有众多易于调控的特性,比如局域表面等离子共振、表面增强拉曼、光致发光、易于表面修饰和生物相容性好。这使得金纳米材料广泛应用于我们生活的多个方面。合成金纳米颗粒常用的制备方法有很多,其中,直接FSP火焰喷雾燃烧法生长法应用广泛。金属纳米颗粒制备采用火焰喷雾热解工艺,受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外:贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾,并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。纳米颗粒制备仪主要特点:1产品纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,高表面活性,松装密度低,气相法制备,克服了市场上湿化学法制备的颗粒硬团聚、难分散、纯度低等缺点;2表面存在大量的不饱和残键及不同键合状态的羟基,因表面欠氧而偏离了稳定的硅氧结构,所以具有高反应活性,粉体松装密度比较小,容易分散使用;3纳米颗粒晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好,可应用于各种塑料、橡胶、陶瓷产品的补强增韧,特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为。由于颗粒也是性能优异的远红外发射材料,作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。4公司可以进行针对性的表面处理包裹,使得纳米粉体可以稳定地分散在溶剂体系中,形成透明状或半透明状溶胶,应用在涂料、玻璃表面、电子封装等
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  • 德国WEP公司的ECV(型号为CVP21)在太阳能光伏行业的应用非常普及,市场占有率甚至达95%以上,是光伏行业电池技术研究和发展的必要工具之一,几乎知名的光伏企业都有使用。 WEP公司的ECV设备:CVP21(见图)1. ECV又名扩散浓度测试仪,结深测试仪等,即电化学CV法测扩散后的载流子浓度分布(见图);2. 相比其他方法如SRP,SIMS等,ECV具有测量使用方便,价格低的优点; 3. WEP公司的ECV具有独特技术可应用于测试电池片的绒面样片,这也是其被广泛使用的原因之一;4. CVP21所能测量的深度范围是nm---10um 5. 测量的载流子浓度范围在10e12cm-3 N 10e21cm-3之内都无需校准;6. 测量扩散样片时,样片是保持“Dry in”和“Dry out”,并无需做特别处理;7. 其所用到的化学试剂本地就能买到,价格低且用量很少买一次可以用好几年;8. 从CVP21所测得的数据能带给研发或工艺人员三方面的信息:一是表面浓度,二是浓度变化曲线,三是结深(见图);9. 表面浓度对于选择和使用适合的浆料很有帮助,如粘合性,接触电阻等的匹配问题;10. 浓度分布曲线对掌握和改进扩散工艺提供依据;11. 结深的信息对电池工艺的总体把握来说是必须的,也是扩散工艺时常需要抽测的项目之一;12. 参考:测试出的几种扩散浓度分布曲线(见图);13. 广泛的客户群:Q-CELL, NREL, ISFH, SHELL,ECN,RWE,HMI,SISE尚德,天合,晶澳,英利,交大泰阳,BYD,海润,晶科,吉阳,南玻,格林保尔… 仪器简介:电化学ECV,掺杂浓度检测(C-V Profiling)PN结深测试 电化学ECV可以用于太阳能电池、LED等产业,是化合物半导体材料研究或开发的主要工具之一。电化学ECV主要用于半导体材料的研究及开发,其原理是使用电化学电容-电压法来测量半导体材料的掺杂浓度分布。电化学ECV(CV-Profiler, C-V Profiler)也是分析或发展半导体光-电化学湿法蚀刻(PEC Etching)很好的选择。 本设备适用于在半导体生产中的外延过程的性能评估和过程控制,可以测试多种不同的材料,例如:硅, 锗, III-V 族和 III-N族材料等。CVP 21的模块化系统结构让测量半导体材料(结构,层)中的掺杂浓度分布变得高效、准确。选用合适的电解液与材料接触、腐蚀,从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软件全自动控制 。CVP21的系统特点: *坚固可靠的模块化系统结构 .光学,电子和化学部分相对独立. *精确的测量电路模块 *强力的控制软件,系统操作,使用简便 *完善的售后服务体系提供免费样品测试并提供测试报告。保修期:2年,终身维修。对用户承诺终身免费样品测试每月1次。技术参数:我们在电化学方分布测试产品方面有超过30年的经验和世界上最先进的电路系统。 全自动,特别适用于新材料,如氮化镓,碳化硅材料等。 有效检测: 外延材料、扩散 、离子注入适用材料: CVP21应用范围宽,可以用于绝大多数的半导体材料。IV族化合物半导体如:硅(Si)、锗(Ge)、碳化硅(SiC)等 III-V族化合物半导体如:砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)等 三元III-V族化合物半导体如:铝镓砷(AlGaAs)、镓铟磷(GaInP)、铝铟砷(AlInAs)等 四元III-V族化合物半导体如:铝镓铟磷(AlGaInP)等 氮化物如:氮化镓(GaN)、铝镓氮(AlGaN)、铟镓氮(InGaN)、铝铟氮(AlInN)等 II-VI族化合物半导体如:氧化锌(ZnO)、碲化镉(CdTe)、汞镉碲(HgCdTe)等 其他不常见半导体材料(可以联系我们进行样品测量)。 载流子浓度测量范围:*最大 1021/cm³ ; 最小 1011/cm³ 深度解析度: 最大无上限;最小可至1 nm (或更低)模块化系统结构: 拓扑型结构,实时监控腐蚀过程,适于微小样品及大尺寸的晶圆,全自动化系统。主要特点:CVP21电化学ECV是半导体载流子浓度分布完美的解决方案:1, CVP21应用范围宽,可以用于绝大多数的半导体材料。 * IV族化合物半导体如:硅(Si)、锗(Ge)、碳化硅(SiC)等 * III-V族化合物半导体如:砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)等 * 三元III-V族化合物半导体如:铝镓砷(AlGaAs)、镓铟磷(GaInP)、铝铟砷(AlInAs)等 * 四元III-V族化合物半导体如:铝镓铟磷(AlGaInP)等 * 氮化物如:氮化镓(GaN)、铝镓氮(AlGaN)、铟镓氮(InGaN)、铝铟氮(AlInN)等 * II-VI族化合物半导体如:氧化锌(ZnO)、碲化镉(CdTe)、汞镉碲(HgCdTe)等 * 其他不常见半导体材料(可以联系我们进行样品测量)。2, CVP21可用于不同形态的样品:多层结构的薄膜材料、基底没有限制(基底导电或绝缘均可)、标准样品尺寸从4*2mm ~ 8英寸晶圆(更小尺寸样品请预先咨询我们)。3, CVP21拥有很好的分辨率范围。 * 载流子浓度分辨率范围从 1012 cm-3 ~ 1021 cm-3 * 深度分辨率范围从1nm ~ 100um (依样品类型、样品质量决定)4, CVP21是一套完整的电化学ECV测量系统。 * 系统可靠性高(仪器的电子、机械、光学、液体传动几个主要部分均经特殊设计) * 免校准的系统(完全自校准的电子系统,电缆电容均无须用户再次校准) * 易于使用(全用户管理软件优化,在实验室环境或生产环境均易于使用) * 照相机镜头控制(过程在线由彩色照相机镜头控制;每次测量后,镜头数据均可取出。) * 实验菜单(测量菜单预定义,优先权用户可以很容易修改或改进测量菜单) * Dry-In/Dry-Out: Auto-Load/Unload/Reload (电化学样品池自动装载/卸载/再装载,优先权用户易于修改,进行样品dry-in/dry-out处理。) 全自动电化学CV分布仪 CVP21光伏太阳能领域的首选! 众多科研和半导体领域用户的的首选!上海瞬渺光电官方中国最佳全自动电化学CV分布仪光伏太阳能领域代理商!服务众多知名光伏企业!本设备适用于评估和控制在半导体生产中的外延过程并且以被使用在多种不同的材料上, 例如:Silicon, Germanium, III-V including III-Nitrides.CVP21的净室和模块化的系统设计结构使得本系统可以高效率,准确的测量半导体材料(结构,层)中的掺杂浓度分布.选用合适的电解液与材料接触,腐蚀,从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软件全自动控制CVP21的系统特点? 坚固可靠的模块化系统结构 .光学,电子和化学部分相对独立.? 精确的测量电路模块 ? 强力的控制软件,系统操作,使用简便? 完善的售后服务体系特别推荐晶硅太阳能电池研究单位使用知名用户:(Shin-Etsu SEH or ISFH)In the field of solar cell research, the CVP21 system is currently being used at many research centres. It was first used in 1999 by the Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems (ISE) in Freiburg, Germany, and since then it has been installed at the Institute for Molecules and Materials (IMM) in Nijmegen, The Netherlands, the RWE Space Solar Power GmbH in Heilbronn, Germany, the Hahn-Meitner-Institute (HMI) in Berlin, Germany, and the Institute for Solar Energy Research (ISFH) in Hamelin/Emmerthal, Germany.在德国和日本都有很多太阳能电池用户使用,鉴于商业保密需要不能公开。产品完美结合我们在电化学方分布测试方面超过30年的经验和世界上最先进的电路系统。 全自动, 特别适用于新材料, 如氮化镓, 碳化硅材料,多晶硅等等。 有效检测:?外延材料 ?扩散?离子注入适用材料: CVP21应用范围宽,可以用于绝大多数的半导体材料。IV族化合物半导体如:硅(Si)、锗(Ge)、碳化硅(SiC)等…III-V族化合物半导体如:砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)等…三元III-V族化合物半导体如:铝镓砷(AlGaAs)、镓铟磷(GaInP)、铝铟砷(AlInAs)等…四元III-V族化合物半导体如:铝镓铟磷(AlGaInP)等…氮化物如:氮化镓(GaN)、铝镓氮(AlGaN)、铟镓氮(InGaN)、铝铟氮(AlInN)等…II-VI族化合物半导体如:氧化锌(ZnO)、碲化镉(CdTe)、汞镉碲(HgCdTe)等…其他不常见半导体材料(可以联系我们进行样品测量)。 载流子浓度测量范围: ?最大 1021/cm3?最小 1011/cm3深度解析度:?最大无上限?最小可至1 nm (或更低)模块化系统结构:?拓扑型结构?实时监控腐蚀过程?适于微小样品及大尺寸的晶圆全自动化系统: ?精密的电路,电子系统?强力的软件金牌优质服务提供免费样品测试并提供测试报告。对用户承诺终身免费样品测试每月1次。保修期:2年,终身维修。电化学CV分布仪(CV测试仪)
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  • 魔技纳米DLW-Bio专为生物应用设计的加工检测一体纳米级三维激光直写设备DLW-Bio具备纳米级高精度3D加工能力,满足复杂生物结构的微纳制造需求,同时可兼有生物荧光显微功能。设备配备多种生物样品台,可根据具体需求灵活配置和定制,适应不同生物医学样品和微流控芯片等打印要求。该设备还特别配备多种生物相容性打印材料,包括无生物毒性且具备亚微米特征和高纵横比的光敏聚酯、水凝胶,均符合ISO-10993-5/USP87标准,可在生物医学领域安全应用。用户可以根据研究需要选择适合的材料,实现定制化的生物医学样品打印。从组织工程到微流控芯片,从药物递送系统到个性化医疗,DLW-RD-Bio为多样化的生物医学应用提供强大的材料支持。如需了解更多产品信息,欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍] 魔技纳米科技创立于2017年,是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验,在光学、电气、机械、软件、材料等方面,拥有完整的自主开发能力,可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品,其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统,可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势,实现了科研探索到商业化应用的跨越,有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。
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  • 德国WEP公司的ECV(型号为CVP21)在太阳能光伏行业的应用非常普及,市场占有率甚至达95%以上,是光伏行业电池技术研究和发展的必要工具之一,几乎知名的光伏企业都有使用。 WEP公司的ECV设备:CVP21(见图)1. ECV又名扩散浓度测试仪,结深测试仪等,即电化学CV法测扩散后的载流子浓度分布(见图);2. 相比其他方法如SRP,SIMS等,ECV具有测量使用方便,价格低的优点; 3. WEP公司的ECV具有独特技术可应用于测试电池片的绒面样片,这也是其被广泛使用的原因之一;4. CVP21所能测量的深度范围是nm---10um 5. 测量的载流子浓度范围在10e12cm-3 N 10e21cm-3之内都无需校准;6. 测量扩散样片时,样片是保持“Dry in”和“Dry out”,并无需做特别处理;7. 其所用到的化学试剂本地就能买到,价格低且用量很少买一次可以用好几年;8. 从CVP21所测得的数据能带给研发或工艺人员三方面的信息:一是表面浓度,二是浓度变化曲线,三是结深(见图);9. 表面浓度对于选择和使用适合的浆料很有帮助,如粘合性,接触电阻等的匹配问题;10. 浓度分布曲线对掌握和改进扩散工艺提供依据;11. 结深的信息对电池工艺的总体把握来说是必须的,也是扩散工艺时常需要抽测的项目之一;12. 参考:测试出的几种扩散浓度分布曲线(见图);13. 广泛的客户群:Q-CELL, NREL, ISFH, SHELL,ECN,RWE,HMI,SISE尚德,天合,晶澳,英利,交大泰阳,BYD,海润,晶科,吉阳,南玻,格林保尔… 仪器简介:电化学ECV,掺杂浓度检测(C-V Profiling)PN结深测试 电化学ECV可以用于太阳能电池、LED等产业,是化合物半导体材料研究或开发的主要工具之一。电化学ECV主要用于半导体材料的研究及开发,其原理是使用电化学电容-电压法来测量半导体材料的掺杂浓度分布。电化学ECV(CV-Profiler, C-V Profiler)也是分析或发展半导体光-电化学湿法蚀刻(PEC Etching)很好的选择。 本设备适用于在半导体生产中的外延过程的性能评估和过程控制,可以测试多种不同的材料,例如:硅, 锗, III-V 族和 III-N族材料等。CVP 21的模块化系统结构让测量半导体材料(结构,层)中的掺杂浓度分布变得高效、准确。选用合适的电解液与材料接触、腐蚀,从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软件全自动控制 。CVP21的系统特点: *坚固可靠的模块化系统结构 .光学,电子和化学部分相对独立. *精确的测量电路模块 *强力的控制软件,系统操作,使用简便 *完善的售后服务体系 提供免费样品测试并提供测试报告。 保修期:2年,终身维修。 对用户承诺终身免费样品测试每月1次。技术参数:我们在电化学方分布测试产品方面有超过30年的经验和世界上最先进的电路系统。全自动,特别适用于新材料,如氮化镓,碳化硅材料等。  有效检测: 外延材料、扩散 、离子注入 适用材料: CVP21应用范围宽,可以用于绝大多数的半导体材料。 IV族化合物半导体如:硅(Si)、锗(Ge)、碳化硅(SiC)等 III-V族化合物半导体如:砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)等 三元III-V族化合物半导体如:铝镓砷(AlGaAs)、镓铟磷(GaInP)、铝铟砷(AlInAs)等 四元III-V族化合物半导体如:铝镓铟磷(AlGaInP)等 氮化物如:氮化镓(GaN)、铝镓氮(AlGaN)、铟镓氮(InGaN)、铝铟氮(AlInN)等 II-VI族化合物半导体如:氧化锌(ZnO)、碲化镉(CdTe)、汞镉碲(HgCdTe)等 其他不常见半导体材料(可以联系我们进行样品测量)。   载流子浓度测量范围: *最大 1021/cm³ ; 最小 1011/cm³ 深度解析度: 最大无上限;最小可至1 nm (或更低) 模块化系统结构: 拓扑型结构,实时监控腐蚀过程,适于微小样品及大尺寸的晶圆,全自动化系统。主要特点:CVP21电化学ECV是半导体载流子浓度分布完美的解决方案: 1, CVP21应用范围宽,可以用于绝大多数的半导体材料。 * IV族化合物半导体如:硅(Si)、锗(Ge)、碳化硅(SiC)等 * III-V族化合物半导体如:砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)等 * 三元III-V族化合物半导体如:铝镓砷(AlGaAs)、镓铟磷(GaInP)、铝铟砷(AlInAs)等 * 四元III-V族化合物半导体如:铝镓铟磷(AlGaInP)等 * 氮化物如:氮化镓(GaN)、铝镓氮(AlGaN)、铟镓氮(InGaN)、铝铟氮(AlInN)等 * II-VI族化合物半导体如:氧化锌(ZnO)、碲化镉(CdTe)、汞镉碲(HgCdTe)等 * 其他不常见半导体材料(可以联系我们进行样品测量)。 2, CVP21可用于不同形态的样品:多层结构的薄膜材料、基底没有限制(基底导电或绝缘均可)、标准样品尺寸从4*2mm ~ 8英寸晶圆(更小尺寸样品请预先咨询我们)。 3, CVP21拥有很好的分辨率范围。 * 载流子浓度分辨率范围从 1012 cm-3 ~ 1021 cm-3 * 深度分辨率范围从1nm ~ 100um (依样品类型、样品质量决定) 4, CVP21是一套完整的电化学ECV测量系统。 * 系统可靠性高(仪器的电子、机械、光学、液体传动几个主要部分均经特殊设计) * 免校准的系统(完全自校准的电子系统,电缆电容均无须用户再次校准) * 易于使用(全用户管理软件优化,在实验室环境或生产环境均易于使用) * 照相机镜头控制(过程在线由彩色照相机镜头控制;每次测量后,镜头数据均可取出。) * 实验菜单(测量菜单预定义,优先权用户可以很容易修改或改进测量菜单) * Dry-In/Dry-Out: Auto-Load/Unload/Reload (电化学样品池自动装载/卸载/再装载,优先权用户易于修改,进行样品dry-in/dry-out处理。) 全自动电化学CV分布仪 CVP21光伏太阳能领域的首选! 众多科研和半导体领域用户的的首选!上海瞬渺光电官方中国最佳全自动电化学CV分布仪光伏太阳能领域代理商!服务众多知名光伏企业!本设备适用于评估和控制在半导体生产中的外延过程并且以被使用在多种不同的材料上, 例如:Silicon, Germanium, III-V including III-Nitrides.CVP21的净室和模块化的系统设计结构使得本系统可以高效率,准确的测量半导体材料(结构,层)中的掺杂浓度分布.选用合适的电解液与材料接触,腐蚀,从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软件全自动控制CVP21的系统特点? 坚固可靠的模块化系统结构 .光学,电子和化学部分相对独立.? 精确的测量电路模块? 强力的控制软件,系统操作,使用简便? 完善的售后服务体系特别推荐晶硅太阳能电池研究单位使用知名用户:(Shin-Etsu SEH or ISFH)In the field of solar cell research, the CVP21 system is currently being used at many research centres. It was first used in 1999 by the Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems (ISE) in Freiburg, Germany, and since then it has been installed at the Institute for Molecules and Materials (IMM) in Nijmegen, The Netherlands, the RWE Space Solar Power GmbH in Heilbronn, Germany, the Hahn-Meitner-Institute (HMI) in Berlin, Germany, and the Institute for Solar Energy Research (ISFH) in Hamelin/Emmerthal, Germany.在德国和日本都有很多太阳能电池用户使用,鉴于商业保密需要不能公开。产品完美结合我们在电化学方分布测试方面超过30年的经验和世界上最先进的电路系统。 全自动, 特别适用于新材料, 如氮化镓, 碳化硅材料,多晶硅等等。 有效检测:?外延材料?扩散?离子注入适用材料: CVP21应用范围宽,可以用于绝大多数的半导体材料。IV族化合物半导体如:硅(Si)、锗(Ge)、碳化硅(SiC)等…III-V族化合物半导体如:砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)等…三元III-V族化合物半导体如:铝镓砷(AlGaAs)、镓铟磷(GaInP)、铝铟砷(AlInAs)等…四元III-V族化合物半导体如:铝镓铟磷(AlGaInP)等…氮化物如:氮化镓(GaN)、铝镓氮(AlGaN)、铟镓氮(InGaN)、铝铟氮(AlInN)等…II-VI族化合物半导体如:氧化锌(ZnO)、碲化镉(CdTe)、汞镉碲(HgCdTe)等…其他不常见半导体材料(可以联系我们进行样品测量)。 载流子浓度测量范围:?最大 1021/cm3?最小 1011/cm3深度解析度:?最大无上限?最小可至1 nm (或更低)模块化系统结构:?拓扑型结构?实时监控腐蚀过程?适于微小样品及大尺寸的晶圆全自动化系统:?精密的电路,电子系统?强力的软件 金牌优质服务 提供免费样品测试并提供测试报告。对用户承诺终身免费样品测试每月1次。保修期:2年,终身维修。电化学CV分布仪(CV测试仪)
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  • 颗粒计数仪@纳米级 400-860-5168转4029
    产品介绍LUMiSpoc是一款高端的单颗粒计数仪(纳米级),类似于流式细胞仪,它以绝佳的分辨率和动态范围测量悬浊液和乳浊液中纳米和微米颗粒的粒度分布和颗粒浓度。 仪器基于单粒子光散射技术SPLS ( Single Particle Light-Scattering),该技术记录单个纳米和微米颗粒在通过具有特殊光束横截面的激光束时小角度和侧向的散射光。 SPLS Technology技术能够深入了解复杂的纳米和微米微粒系统,从而帮助您优化颗粒和分散体系产品。 LUMiSpoc - 纳米颗粒计数新标准。应用领域分散体包括:CMP浆料,炭黑,颜料,填料,医药乳浊液和悬浊液,标样/参考样,生物细胞,病毒。。。颗粒计数和粒径测定颗粒浓度测定直接测定纳米和微米颗粒的粒径分布纳米材料分级记录团聚和絮凝动力学变化过程确定颗粒尾端分布颗粒污染物检测检测分离膜和过滤介质,确定截留点优势超高分辨率的单峰、多峰和多颗粒分散体系粒度的分布优异的颗粒分级计数效率高(高频数字化、脉冲分析和分级)宽泛的动态范围(可测量40 nm到8µ m的粒径),无需切换范围或改变组件检测时间短易于操作样品量少嵌入式触屏和基于服务器/浏览器的软件通过参考粒子进行单点校
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  • 产品描述Nano Indenter G200系统是一种准确,灵活,使用方便的纳米级机械测试仪器。 G200测量杨氏模量和硬度,包括从纳米到毫米的六个数量级的形变测量。 该系统还可以测量聚合物,凝胶和生物组织的复数模量以及薄金属膜的蠕变响应(应变率灵敏度)。 模块化选项可适用于各种应用:频率特定测试,定量刮擦和磨损测试,集成的基于探头的成像,高温纳米压痕测试,扩展负载容量高达10N和自定义测试。主要功能电磁驱动可实现高动态范围下力和位移测量用于成像划痕,高温纳米压痕测量和动态测试的模块化选项直观的界面,用于快速测试设置 只需几个鼠标点击即可更改测试参数实时实验控制,简便的测试协议开发和精确的热漂移补偿屡获殊荣的高速“快速测试”选项,用于测量硬度和模量多功能成像功能,测量扫描和流程化测试方法,帮助快速得到结果简单快捷地确定压头面积函数和载荷框架刚度主要应用高速硬度和模量测量界面附着力测量断裂韧性测量粘弹性测量扫描探针显微镜(3D成像)耐磨损和耐刮擦高温纳米压痕工业应用大学,研究实验室和研究所半导体和电子工业制造业轮胎行业涂层和涂料工业生物医药行业医疗仪器更多应用:请根据您的要求与我们联系应用高速硬度和模量测量材料的机械特性表征在新材料的研究与开发中具有重要意义。 Nano Indenter G200能够以每秒一个数据点的速率测量硬度和模量。 对机械性能的高速评估使半导体和薄膜材料制造商能够将先进技术应用于生产线上的质量控制与保证。界面粘附力测量通常通过沉积能够存储弹性能量的高压缩层来诱导薄膜分层。 界面粘附力测量对于帮助用户理解薄膜的失效模式是至关重要的。Nano Indenter G200系统可以触发界面断裂并测量多层薄膜的粘附性和残余应力性质。断裂韧性断裂韧性是在平面应变条件下发生灾难性破坏的应力 – 强度因子的临界值。 较低的断裂韧性值表明存在预先存在的缺陷。 通过使用刚度映射法容易地通过纳米压痕评估断裂韧性。 (刚度映射需要连续刚度测量和NanoVision选项)粘弹特性聚合物是非常复杂的材料 它们的机械性能取决于化学,加工和热机械历史。 具体来讲,机械性能取决于材料分子母链的类型和长度,支化,交联,应变,温度和频率,并且这些依赖性通常是相互关联的。 为了采用聚合物进行研究时获得有用的信息进行决策,应在相关背景下对相关样品进行机械性能测量。 纳米压痕测试使得这种特定的测量更容易完成,对样品制备要求不高,可以很小且少量。 Nano Indenter G200系统还可用于通过在与材料接触时振荡压头来测量聚合物的复数模量和粘弹性。扫描探针显微镜(3D成像)Nano Indenter G200系统提供两种扫描探针显微镜方法,用于表征压痕印痕的裂缝长度,以测量设计应用中的断裂韧性。 断裂韧性定义为含有裂缝的缺陷材料抵抗断裂的能力。Nano Indenter G200的压电平台具有高定位精度和NanoVision选项,可提供高达1nm的步长编码器分辨率,最 大扫描尺寸为100μm×100μm。 测试扫描软件选项将X / Y运动系统与NanoSuite软件相结合,可提供500μm×500μm的最 大扫描尺寸。 NanoVision阶段和测试扫描选项都需要精确定位在样品区域来完成纳米压痕测试和断裂韧性计算。耐磨性和耐刮擦性Nano Indenter G200系统可以对各种材料进行划痕和磨损测试。 涂层和薄膜将经受许多工艺,测试这些薄膜的强度及其与基板的粘合性,例如化学和机械抛光(CMP)和引线键合。 重要的是这些材料在这些工艺过程中抵抗塑性形变并保持完整,也不会在基板上起泡。 对于介电材料,通常需要高硬度和弹性模量来支持这些制造工艺。高温机械测试高温下的纳米压痕提供了在达到塑性转变之前、之中与之上的精确测量能力,得到材料的纳米力学响应。 了解材料行为,例如形变机制和相变,可以预测材料失效并改善热机械加工过程中的控制。 在主要机械测试方法过程中改变温度是对材料进行纳米尺度测量塑形转变的一种方式。产品优势Nano Indenter G200系统专为各种材料的表征和开发过程中进行纳米级测量而设计。 该系统是一个完全可升级,可扩展且经过生产验证的平台,全自动硬度测量可应用于质量控制和实验室环境。
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  • 纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统,也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜,不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能:大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计,可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量,以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈,图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具(例如:探针、微纳米夹持器、超声切割针),操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。
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  • EVG 纳米压印光刻 400-860-5168转4552
    纳米压印光刻(NIL)EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场领先供应商。 EVG从15年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。 NIL是产生纳米尺度分辨率图案的最有前途且最具成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及最近各种衍射光学元件的各种商业应用。 UV-NIL /SmartNIL系统EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻(UV-NIL)提供完整的产品线,包括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻(UV-NIL)提供完整的产品线,包括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高效,强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度,高度均匀的图案层和最少的残留层,并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺,即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能,低成本和具有批量生产能力的技术。选择您的UV-NIL /SmartNIL系统 EVG610 UV-纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从小件到最大150毫米 EVG620NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统,采用EVG专有的SmartNIL技术,最大可达100 mm EVG6200NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统,采用EVG专有的SmartNIL技术(最大150毫米)。 EVG720 自动化的SmartNILUV纳米压印系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大可达150毫米。 EVG7200 自动化SmartNILUV纳米压印光刻系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大200毫米 EVG7200LA 自动化的大面积SmartNILUV纳米压印光刻系统大面积无与伦比的共形纳米压印光刻技术。 HERCULESNIL 完全集成的SmartNILUV-NIL系统完全集成的纳米压印光刻解决方案,用于大规模生产,具有EVG专有的SmartNIL压印技术。 EVG770 分步重复纳米压印光刻系统分步重复纳米压印光刻技术,可实现高效的母版制作。 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统高精度UV压印系统,用于晶圆级透镜成型和堆叠。热压花系统EVGroup的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。热压印是一种具有很高复制精度的经济高效且灵活的制造技术。EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。 出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。 热压印是一种经济高效且灵活的制造技术,对于尺寸低至50 nm的特征,其复制精度非常高。 该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 压模与基板对齐的组合可将热压纹与预处理的基板结构对齐。 EVG510HE 热压花系统高度灵活的热压花系统,用于研发和小批量生产。 EVG520HE 热压花系统经过通用生产验证的热压花系统可以满足最高要求。
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  • 纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统,也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜,不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计,可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手(宏动)驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴:10mm Z轴:5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手(微动)驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴:20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量,以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈,实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕,以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具(例如:探针、微纳米夹持器、超声切割针),操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构(范围从亚微米,亚100nm及亚20nm)。只需要通过计算机点击鼠标,将探针定位到目标位置。极低得定位漂移,保证数据采集得可靠性。 主要软件功能① 位置反馈:提供每个操作手XYZ精确得位置反馈,1纳米运动定位分辨率。② 保存/加载坐标:保存和加载多个操作手得坐标。③ 自动校准:限度地提高定位性能,并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④ 3D虚拟显示:实时3D虚拟空间显示操作手(粉红色方块)和样品(绿色平面)得位置。⑤ 点击-移动:通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥ 多操作手联动:连接多个操作手得运动,具有纳米级精度。⑦ 图片-视频录制:保存操作过程中的高清图片和视频。
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  • Optics11成立于2011年,是阿姆斯特丹自由大学(VU)的衍生组织。从那时起,这家初创公司的收入和员工持续增长,成为荷兰发展最快的公司之一,并具有国际影响力。Optics11 Life提供功能强大的新型纳米压痕仪,与传统的同类产品相比,使用方便、功能多样、坚固耐用。主要用于测量复杂、不规则的生物材料,如单细胞、组织、水凝胶和涂层的机械性能。Piuma Nanoindenter生物组织、软物质材料力学性能测试的新方法Piuma是功能强大的台式仪器,可探索水凝胶、生理组织和生物工程材料的微观机械特性。表征尺度从宏观直至细胞。专为分析测试软材料而设计,测量复杂和不规则材料在生理条件下的力学性能。杭州轩辕科技有限公司主要优势● 内置摄像镜头,方便实时观察样品台● 实时分析计算测量结果,原始数据并将以文本文件存储,方便任何时候导入Dataviewer软件进行复杂处理● 探针经过预先校准,即插即用。对于时间敏感的样品确保了快速测量● 光纤干涉MEMS技术能够以无损的方式测量即使是最软的材料,并保证分辨率。同时探针可以重复使用Piuma轩辕纳米压痕仪Piuma轩辕纳米压痕仪 技术参数模量测试范围5 Pa - 1 GPa探头悬臂刚度0.025 - 200 N/m探头尺寸(半径)3 - 250 μm最大压痕深度100 μm传感器最大容量200测试环境air, liquid (buffer/medium)粗调行程X*Y:12×12 mm Z:12 mm加载模式Displacement / Load* / Indentation*测试类型准静态(单点,矩阵)蠕变,应力松弛DMA动态扫描 (E', E'', tanδ)动态扫描频率*0.1 - 10 Hz内置拟合模型Young's Modulus (Hertz / Oliver-Pharr / JKR)*为可选升级配置Fiber-On-Top 探头新型光纤干涉式悬臂梁探头,利用干涉仪来监测悬臂梁形变。相较于原子力显微镜或传统纳米压痕仪创新型光纤探头,弥补了传统纳米压痕仪无法测试软物质的问题,也解决了AFM在力学测试中的波动大,操作困难、制样严苛等常见缺陷。● 背景噪音低:激光干涉仪抗干扰强于AFM反射光路● 制样更简单:对样品的粗糙度宽容度高于AFM● 刚度选择更准确:平行悬臂梁结构有利于准确判别压痕深度与压电陶瓷位移比例关系,便于选择合适刚度探头来保证弹性形变关系的稳定性,进而获得重复率更高、准确性更好的数据内置分析软件● 借助功能强大而易于操作的软件,用户可以自由控制压痕程序(载荷、位移等)。自动处理曲线的流程,可以获得数据和结果的快速分析● 原始参数完整txt导出,便于后续复杂处理的需要● 利用Hertz接触模型从加载部分计算弹性模量,与常用的Oliver&Pharr方法相比,更为适合生物组织和软物质材料特性视频介绍如果您感兴趣的话,我们可以为您提供试样服务,请联系:近期文献年 份期 刊题 目2022Advanced Functional MaterialsEngineering Vascular Self-Assembly by Controlled 3D-Printed Cell Placement2022BiomaterialsHydrogels derived from decellularized liver tissue support the growth and differentiation of cholangiocyte organoids2021Biofabrication3D bioprinting of tissue units with mesenchymal stem cells, retaining their proliferative and differentiating potential, in polyphosphate-containing bio-ink2021nature communicationsJanus 3D printed dynamic scaffolds for nanovibration-driven bone regeneration2020Environmental Science & TechnologyEffect of Nonphosphorus Corrosion Inhibitors on Biofilm Pore Structure and Mechanical Properties2020Acta BiomaterialiaA multilayer micromechanical elastic modulus measuring method in ex vivo human aneurysmal abdominal aortas
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  • 扫描俄歇纳米探针 400-860-5168转4058
    1. 使用CMA通州分析器,同时实现高灵敏度和高传输率。即使在低电流高空间分辨率情况下,都可轻松的进行分析。2. 以20kV加速电压和电流1nA进行俄歇分析,AES空间分辨率可达≤8nm3. 在保有所有CMA的优点同时,并加上了获得AVS(美国真空协会)设计奖的高能量分辨率功能,可以AES进行各种纳米级区域的化学态分析4. Windows兼容软件 同轴筒镜分析高灵敏度和高通量分析仪CMA1.同轴筒镜分析仪同轴CMA是PHI公司在其电子光谱仪的中心轴上放置电子枪。CMA能各方面360度收集产生的俄歇电子,因此具有不受样品形貌和倾角影响的优点,下图显示同轴CMA和非同轴谱仪SCA的灵敏度特点。CMA从垂直入射到角度入射均能表现出高灵敏度特点,角度依赖性低,从而采用各种入射角度,分析各种形貌的样品均可得到好的定量结果。 △同轴CMA及非同轴分析器SCA灵敏度的比较 2.比较分析形态复杂的样本下图比较CMA和SCA所采集的铜锡球SEM成像,以及俄歇成分像,SCA中俄歇成分图的阴影效果非常明显,而CMA所获得的SEM像和俄歇成分像可准确地反映真实结果。 △球状样品中CMA和SCA数据的比较SEM空间分辨率≤3nmAES成分像空间分辨率≤8nm 俄歇分析通过SEM观察确定分析位置,再进行采谱,成分分布成像和深度剖析。在SEM观察时需要细小的聚焦电子束斑,同时进行俄歇分析,需要非常稳定的电子束。SEM成像分辨率可达3纳米左右,AES710使用低噪声电源(图1),采用隔音罩以减小震动、声音和温度的影响,AES分析时分辨率可达到8nm(20kV 1nA)图2案例:球墨铸铁断面中晶间杂质的分析。图2所示:二次电子像,Ca(蓝色)Mg(绿色)Ti(红色)俄歇成分像,以及S的俄歇成分分布像,表明了AES纳米级微区的化学分析能力。 AES化学态分析图谱和分布像PHI710 AES成分像,每个像素点对应的图谱可对元素存在的化学态进行解析,进而化学态成像。高能量分辨率下图显示半导体芯片电极Si KLL的高能量分辨率成分分布图。由Si KLL谱进行 小二乘法拟合(LLS)得出三个主要成分:硅、氮氧化硅、金属硅化物,可得到这三种硅的化学态在同一表面的分布像。 △半导体芯片电极分析实例 基于Windows系统的操作软件和数据处理软件SmartSoftTM-AES(操作软件)SmartSoft AES是在Windows系统上运行的PHI710控制软件。软件设置的AES分析操作流程显示在屏幕上,即便是初学者也可以轻松掌握。为提高分析效率,实时测量位置,SEM图、俄歇分布图及谱图等都能同事呈现。Zalar旋转功能使深度剖析灵活实现,烘烤和真空控制自动化。下图是操作屏幕画面。 PHI MultiPakTM(数据分析软件)提供分析软件PHI MultiPak使俄歇分析更完善。支持快速创建报告,并提供了基于WINDOWS系统的易于使用的数据处理功能和数据分析能力。
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  • Optics11成立于2011年,是阿姆斯特丹自由大学(VU)的衍生组织。从那时起,这家初创公司的收入和员工持续增长,成为荷兰发展最快的公司之一,并具有国际影响力。Optics11 Life提供功能强大的新型纳米压痕仪,与传统的同类产品相比,使用方便、功能多样、坚固耐用。主要用于测量复杂、不规则的生物材料,如单细胞、组织、水凝胶和涂层的机械性能。Piuma Nanoindenter生物组织、软物质材料力学性能测试的新方法Piuma是功能强大的台式仪器,可探索水凝胶、生理组织和生物工程材料的微观机械特性。表征尺度从宏观直至细胞。专为分析测试软材料而设计,测量复杂和不规则材料在生理条件下的力学性能。主要优势● 内置摄像镜头,方便实时观察样品台● 实时分析计算测量结果,原始数据并将以文本文件存储,方便任何时候导入Dataviewer软件进行复杂处理● 探针经过预先校准,即插即用。对于时间敏感的样品确保了快速测量● 光纤干涉MEMS技术能够以无损的方式测量即使是最软的材料,并保证分辨率。同时探针可以重复使用 技术参数模量测试范围5 Pa - 1 GPa探头悬臂刚度0.025 - 200 N/m探头尺寸(半径)3 - 250 μm最大压痕深度100 μm测试环境air, liquid (buffer/medium)粗调行程X*Y:12×12 mm Z:12 mm加载模式Displacement / Load* / Indentation*测试类型准静态(单点,矩阵) 蠕变,应力松弛 DMA动态扫描 (E', E'', tanδ) 动态扫描频率*0.1 - 10 Hz内置拟合模型Young's Modulus (Hertz / Oliver-Pharr / JKR)*为可选升级配置Fiber-On-Top 探头新型光纤干涉式悬臂梁探头,利用干涉仪来监测悬臂梁形变 相较于原子力显微镜或传统纳米压痕仪创新型光纤探头,弥补了传统纳米压痕仪无法测试软物质的问题,也解决了AFM在力学测试中的波动大,操作困难、制样严苛等常见缺陷。● 背景噪音低:激光干涉仪抗干扰强于AFM反射光路● 制样更简单:对样品的粗糙度宽容度高于AFM● 刚度选择更准确:平行悬臂梁结构有利于准确判别压痕深度与压电陶瓷位移比例关系,便于选择合适刚度探头来保证弹性形变关系的稳定性,进而获得重复率更高、准确性更好的数据内置分析软件● 借助功能强大而易于操作的软件,用户可以自由控制压痕程序(载荷、位移等)。自动处理曲线的流程,可以获得数据和结果的快速分析● 原始参数完整txt导出,便于后续复杂处理的需要● 利用Hertz接触模型从加载部分计算弹性模量,与常用的Oliver&Pharr方法相比,更为适合生物组织和软物质材料特性近期文献年 份期 刊题 目2022Advanced Functional MaterialsEngineering Vascular Self-Assembly by Controlled 3D-Printed Cell Placement2022BiomaterialsHydrogels derived from decellularized liver tissue support the growth and differentiation of cholangiocyte organoids2021Biofabrication3D bioprinting of tissue units with mesenchymal stem cells, retaining their proliferative and differentiating potential, in polyphosphate-containing bio-ink2021nature communicationsJanus 3D printed dynamic scaffolds for nanovibration-driven bone regeneration2020Environmental Science & TechnologyEffect of Nonphosphorus Corrosion Inhibitors on Biofilm Pore Structure and Mechanical Properties2020Acta BiomaterialiaA multilayer micromechanical elastic modulus measuring method in ex vivo human aneurysmal abdominal aortas
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  • 产品详情Nano Indenter G200X可提供纳米级的力学测试功能,简单易用,能够精确进行各种力学定量分析。G200X系统中配置了高精度纳米马达样品台、最 大的样品安装系统和高分辨率光学显微镜。InView软件、InQuest控制器和InForce驱动器让KLA全线压痕产品系列具有一致的卓 越性能。 G200X系统可选功能包括连续刚度测量(CSM)、扫描探针显微成像、划痕测试、动态力学分析频率扫描,、IV电压电流特性测试、超高速压痕测试和冲击测试等等。主要功能电磁驱动器可轻松实现载荷和位移的宽动态范围的控制高分辨率光学显微镜与精密XYZ 移动系统结合,实现高精度观察与定位测试样本。便捷的样本安装台与多样本定位设置功能实现高通量测试。高度模块化设计,设备提供扫描探针成像功能、划痕及磨损测试功能、高温纳米力学测试功能、连续刚度测试(CSM) 和高速3D及4D力学图谱等模块化升级选件。直观的用户操作界面便于快速的进行测试设置;仅需点击几下鼠标即可完成复杂测试的参数设置。实时高效的实验控制,简单易用的测试流程开发和测试参数设置。全新的InView软件,提供用于分析数据的Review软件和生成各种综合性测试报告的 InFocus软件。独 家发明并获得美国R&D奖的材料表面力学图谱功能和高速测试功能,极大的提高了定量数据的可靠性。InQuest高速数字控制器,数据采集速率最 高可达100kHz,时间响应常数最快为20µ s。主要应用高速硬度和模量测量 (基于Oliver-Pharr 模型)高速材料表面力学特性分布测量ISO 14577 标准化硬度测试薄膜及涂层测试界面附着力测量断裂韧性测量粘弹性测量,储能模量和损耗模量及损耗因子扫描探针显微成像(3D 成像)定量划痕和磨损测试高温纳米压痕测试IV电学测试行业分布高校、科研实验室和研究所半导体芯片行业PVD/CVD 硬质涂层(DLC、TiN)MEMS:微机电系统/纳米级通用测试陶瓷与玻璃金属与合金制药膜层材料与油漆复合材料电池与储能汽车与航空航天应用硬度与模量测试 (Oliver-Pharr模型)在薄膜的工艺控制和制造过程中,表征其力学性能至为重要,其中包括汽车行业的涂层质量,以及半导体制造中的前道和后道工艺控制等。G200X纳米压痕仪可在宽泛材料上测量硬度和模量,对从超软凝胶类样品到硬质涂层等各种材料提供解决方案。更快,更好和更具成本效益的解决方案为生产线提供可靠的品质控制及保障。高速材料力学性能图谱功能对于包括复合材料在内的许多材料而言,不同区域之间的力学性能可能会有很大差异。 G200X系统能够在X轴和Y轴方向上各提供 100 毫米的样品台移动,并在Z轴方向上提供25毫米的移动,在大面积样本区域下轻松表征不同厚度,宽度,长度的样本。可升级选件NanoBlitz 力学形貌图谱和断层谱图 软件能够快速输出力学性能的彩色分布图。ISO 14577 硬度测试Nano Indenter G200X 包括预先内置的ISO 14577测试方法,可根据ISO 14577 标准测量材料硬度。该测试方法可以自动测量并输出杨氏模量、仪表硬度、维氏硬度和归一化压痕功。界面附着力测试膜层材料的界面粘附性的测量对于帮助用户了解薄膜的失效模式至关重要。内应力的存在常常会导致镀层样品的薄膜分层现象,Nano Indenter G200X系统可以通过膜层界面的断裂及黏附特性和残余应力等性能的测试,实现对多层界面的性能评估。断裂韧性测试断裂韧性反映了结构阻止宏观裂纹失稳扩展能力,是结构抵抗裂纹脆性扩展的参数。低断裂韧性值意味着样品存在的缺陷。G200X特有的刚度成像功能可以轻松地对材料的断裂韧性进行评估。(刚度分布测量需要连续刚度测量和NanoVision选件)粘弹材性测试聚合物是结构异常复杂的材料,力学性能易受其化学特性、加工工艺和热力学历史的影响。力学性能取决于母链的类型和长度、支化、交联、应变、温度和频率等,而这些因素通常是相互关联的。G200X可在特定测试环境中对相关聚合物样本进行力学测试,为聚合物高分子材料设计参数决策提供了有价值的数据信息。/p纳米压痕测试所需样本尺寸小,样本制备要求简单,可高效简化这种特定环境的测量。Nano Indenter G200X 系统还可以通过与材料充分接触的同时激发高频振动来测量聚合物样品的复合模量和粘弹性。扫描探针显微成像 (3D 成像)Nano Indenter G200X 系统提供两种扫描探针显微成像方式,用户可利用三维成像来表征断裂韧性研究中产生的裂纹长度等。 Nano Indenter G200X 与NanoVision选件结合,可提供高达1nm步进的横向分辨率的高精度PZT样品台,实现高精度定位,100µ m x 100µ m的最 大横向扫描范围。Nano Indenter G200X测试平台标准的高精度X/Y 纳米马达台与Inview 软件及扫描测量选件结合,可提供500µ m x 500µ m的最 大横向扫描范围。定量划痕和磨损测试G200X 系统可以对多种材料进行划痕和磨损测试。在涂层和薄膜经过化学机械抛光 (CMP) 和引线键合等的多种工艺处理的时候,其强度及其对基材的附着力会备受考验。在加工工艺中,材料是否能抵抗塑性变形并保持完整而不从衬底上起泡非常重要。理想情况下,介电材料具有高硬度和高弹性模量,因为这些参数有助于了解材料在制造工艺中的性能变化。产品优势NanoIndenter G200X纳米级力学测试平台,简单易用,能够快速准确的提供各种定量的力学测试结果。G200X系统能够轻松表征广泛的材料力学性能,从硬质涂层到超软聚合物样品,并针对不同应用提供综合全面的纳米力学测试升级选件和解决方案。
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  • 长行程压电纳米位移台基于粘滑仿生运动原理及特殊设计的驱动和纳米伺服技术,具有纳米级重复定位精度,可实现数百mm的运动行程。该促动器结构紧凑,具有较高的保持力与长期的稳定性,能够实现跨尺度的纳米定位和复杂的轨迹运动。支持面向不同应用和需求的产品开发与定制。 技术特点:超长行程:36mm高分辨率:传感器分辨率为1.2nm超高精度:重复定位精度小于5nm运动速度:可达10mm/s高稳定性:保持力可达8N超高真空兼容性;运动模式:支持开环与闭环轻量化、结构紧凑,高可靠性模块化设计,摩擦单元可替换应用领域:扫描电镜(SEM)样品操纵主动光学超分辨成像样品移动大范围电子束直写(EBL)微纳装备及制造集成电路制造与检测高真空样品精度对准及调姿纳米聚焦与扫描显微及纳米CT
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