薄膜涂料

1400℃碳化硅耐火涂料634-SIC能够降低组件的氧化，提供一个坚硬的表面和耐热循环性能。 产品型号1400℃碳化硅耐火涂料634-SIC技术参数1、湿膜覆盖：850ft22、固化温度：200°F-800°F3、工作温度：1400℃

适用领域QBB型涂料比重杯适用于测定各种涂料及辅助材料、油料等液体的比重，容积分为37ml、50ml和100ml三种。产品介绍密度杯为圆柱型，大开口，方便倒入﹑倒出及清洗。密度杯紧密的不锈钢盖有一个向上的斜坡至顶部中央的小孔，使多余的样品材料可溢出而不产生气泡，这样可增加精度。密度杯由铝合金制成，使用公制单位，密度杯可盛规定量的液体。以下提供三种不同尺寸的密度杯。符合标准GB/T6750-1986 色漆和清漆密度的测定主要技术指标 100ml体积的ISO标准尺寸；50ml的特定体积；37ml体积的GB标准尺寸保证误差在1mg (0.001%)之内。测试在23°C±2°C进行，符合ISO标准。操作步骤 - 称重并记录清洁的密度杯的重量 - 调节密度杯和测试液的温度（20°C±0.5°C/68°F±1.0°F） - 将样品装入密度杯 - 无倾斜地盖上盖子，避免空气气泡 - 用吸水的布吸去溢出的液体 - 称量装满液体的密度杯型号对照表型号容积材质137ml不锈钢250ml不锈钢3100ml不锈钢 比重杯测密度的计算方法p = （m2 - m1）/ Vm2=杯和式样总重（g）m1=空杯重（g）V =杯的容积（mL）

适用领域涂料测试马口铁板可用于附着力、硬度、冲击、柔韧性、弯曲、干燥时间测定时，作为漆膜制备的载体。符合标准GB∕T 2520-2017 冷轧电镀锡钢板及钢带技术参数镀锡量：E4硬度等级：T52厚度：0.28mm每包数量：100片规格尺寸120*50*0.28mm（约1.6kg/包）150*70*0.28mm（约3kg/包）200*100*0.28mm（约5kg/包）

别名：建筑涂料透水性试验装置（漏斗）、卡斯通管

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 4片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100 前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： ± 0.5% 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 4片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 8片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

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布鲁斯特型薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）λ/10 @ 632.8 nm平行度误差30 arcsec消光比Tp / Ts200:1典型的传输Tp 95%典型的反射Rs 99.5%入射角Brewster angle激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt布鲁斯特薄膜偏振器用于高能量应用。它们的损伤阈值高达10 J /cm2@ 1064 nm，持续8 ns。布鲁斯特偏振器被用作Glan-Taylor激光偏振棱镜或立方偏振分束器的替代品。典型地，BK7或UVFS电介质涂布的布鲁斯特型薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开，并用于腔内和腔外的使用。典型的极化比Tp / Ts是200：1，在56°AOI（布鲁斯特角）下达到。为获得zui佳传输效果，布鲁斯特型薄膜偏振器应安装在适当的支架上进行角度调节。双波段或其他尺寸的薄膜偏振器可应要求提供。1）有效分离s偏振分量和p偏振分量2）针对流行的激光波长进行了优化3）许多布鲁斯特薄膜偏光片都可以从STOCK快速交货！ Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa尺寸，mm基底材料波长，nm产品编号?25.4 x 3UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-0254?25.4 x 3UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-025420 x 40 x 5UVFS7802-BFP-0780-204020 x 40 x 5UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-204020 x 40 x 5UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-2040?25.4 x 3BK715502-BFP-1550-0254?25.4 x 3UVFS3432-BFP-0343-0254?25.4 x 3UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-0254?25.4 x 3UVFS2662-BFP-0266-025420 x 40 x 5UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-204020 x 40 x 5UVFS3552-BFP-0355-2040?25.4 x 3UVFS 5322-BFP-0532-0254?25.4 x 3UVFS10642-BFP-1064-025420 x 40 x 5UVFS2662-BFP-0266-204020 x 40 x 5UVFS5152-BFP-0515-2040?25.4 x 3UVFS7802-BFP-0780-0254?25.4 x 3UVFS4002-BFP-0400-025420 x 40 x 5UVFS4002-BFP-0400-204020 x 40 x 5BK715502-BFP-1550-204020 x 40 x 5UVFS5322-BFP-0532-204020 x 40 x 5UVFS10642-BFP-1064-204020 x 40 x 5UVFS3432-BFP-0343-2040?25.4 x 3UVFS3552-BFP-0355-0254?25.4 x 3UVFS5152-BFP-0515-0254定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

单层石墨烯膜增长方法：CVD合成、质量控制：光学显微镜&拉曼检测，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，基材铜铝箔：厚度：18μm、应用程序：石墨烯研究、多功能的电池、电子、航空航天工业、微机电系统和NEMS，微执行器，导电涂料。

高对比度45°薄膜偏振片基底材料UVFS直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）λ/8 @ 632.8 nm平行度误差30 arcsec入射角45°激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt 这些高对比度薄膜偏振器（TFP）采用先进的离子束溅射（IBS）涂层技术制造而成。 UVFS电介质涂层的高对比度薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开。由于非常低的损耗，它们非常适合内腔和外腔使用。 这些偏振器的典型偏振比远高于1000：1（Tp：Ts）。为获得zui佳性能，应将高对比度薄膜偏振器安装在适当的支架上，并进行角度调整。 1）使用IBS技术制造2）Tp：Ts 1000：13）高Tp，低吸收和散射4）由于涂层的孔隙率可忽略不计，所以没有老化效应 Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射 每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。 电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPaCoating codeCotaing typeAOILIDT2-HCTFP-1030-204055.4 deg4.28 J/cm2 (p-pol) 8.34 J/cm2 (s-pol) @1030nm 11.1ps 10 Hz免责声明激光诱导损伤阈值（LIDT）测量是在Altechna生产的实际部件上进行的。 单个组件的LIDT取决于多个参数（基材，抛光批次，涂料批次，储存条件等）。 以上各个部件达到的损伤阈值仅供参考，但并不能保证所有的光学元件。 Altechna可根据要求进行涂层损伤阈值测试服务。尺寸，mm传输p-pol传输s-pol波长，nm涂层反射GDD（s-偏振）涂层透射GDD（p偏振光）消光TP / TSLIDT产品编号10 x 20 x 598%0.2%400GDD 100 fs2GDD 200 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-102010 x 20 x 599%0.1%515GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-102010 x 20 x 599%0.1%800GDD 200 fs2GDD 400 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-1020?25.4 x 598%0.2%400GDD 100 fs2GDD 200 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-025420 x 40 x 599%0.2%1064500:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCPBTFP-1064-204010 x 20 x 599%0.1%1030GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-102020 x 40 x 597%0.3%355GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-2040?25.4 x 599%0.1%800GDD 200 fs2GDD 400fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-025420 x 40 x 598%0.2%400GDD 100 fs2GDD 200 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-204020 x 40 x 597%0.3%343GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-2040?25.4 x 597%0.3%343GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-025410 x 20 x 599%0.1%1064GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-102020 x 40 x 599%0.1%515GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-204020 x 40 x 599%0.1%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-2040?25.4 x 599%0.1%1030GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-0254?25.4 x 599%0.1%532GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-025420 x 40 x 599%0.1%800GDD 200 fs2GDD 400fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-204020 x 40 x 599%0.1%1064GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-204020 x 40 x 599%0.1%1030GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-204010 x 20 x 599%0.1%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-102010 x 20 x 597%0.3%355GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10Hz2-HCBTFP-0355-1020?25.4 x 599%0.1%1064GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-0254?25.4 x 599%0.1%515GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-0254?25.4 x 597%0.3%355GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-025410 x 20 x 597%0.3%343GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-1020 定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

高对比度布鲁斯特型薄膜偏振片基底材料UVFS直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）λ/10 @ 632.8 nm平行度误差30 arcsec入射角Brewster angle激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt这些高对比度薄膜偏振器（TFP）采用先进的离子束溅射（IBS）涂层技术制造而成。 UVFS电介质涂层的高对比度薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开。由于非常低的损耗，它们非常适合内腔和外腔使用。 这些偏振器的典型偏振比远高于1000：1（Tp：Ts）。为获得zui佳性能，应将高对比度薄膜偏振器安装在适当的支架上，并进行角度调整。1）使用IBS技术制造2）Tp：Ts 1000：13）高Tp，低吸收和散射4）由于涂层的孔隙率可忽略不计，所以没有老化效应Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI） ?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射 每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa免责声明激光诱导损伤阈值（LIDT）测量是在Altechna生产的实际部件上进行的。 单个组件的LIDT取决于多个参数（基材，抛光批次，涂料批次，储存条件等）。 以上各个部件达到的损伤阈值仅供参考，但并不能保证所有的光学元件。 Altechna可根据要求进行涂层损伤阈值测试服务。尺寸，mm传输p-pol传输s-pol波长，nm涂层反射GDD（s-偏振）涂层透射GDD（p偏振光）消光TP / TSLIDT产品编号10 x 20 x 598%0.2%400GDD 100 fs2GDD 200 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-102010 x 20 x 599%0.1%515GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-102010 x 20 x 599%0.1%800GDD 200 fs2GDD 400 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-1020?25.4 x 598%0.2%400GDD 100 fs2GDD 200 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-025420 x 40 x 599%0.2%1064500:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCPBTFP-1064-204010 x 20 x 599%0.1%1030GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-102020 x 40 x 597%0.3%355GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-2040?25.4 x 599%0.1%800GDD 200 fs2GDD 400fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-025420 x 40 x 598%0.2%400GDD 100 fs2GDD 200 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-204020 x 40 x 597%0.3%343GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-2040?25.4 x 597%0.3%343GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-025410 x 20 x 599%0.1%1064GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-102020 x 40 x 599%0.1%515GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-204020 x 40 x 599%0.1%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-2040?25.4 x 599%0.1%1030GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-0254?25.4 x 599%0.1%532GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-025420 x 40 x 599%0.1%800GDD 200 fs2GDD 400fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-204020 x 40 x 599%0.1%1064GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-204020 x 40 x 599%0.1%1030GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-204010 x 20 x 599%0.1%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-102010 x 20 x 597%0.3%355GDD 50 fs2 GDD 100 fs21000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-1020?25.4 x 599%0.1%1064GDD 200 fs2GDD 500 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-0254?25.4 x 599%0.1%515GDD 100 fs2GDD 300 fs21000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-0254?25.4 x 597%0.3%355 GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-025410 x 20 x 597%0.3%343GDD 50 fs2GDD 100 fs21000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-1020定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

单层石墨烯膜增长方法：CVD合成、质量控制：光学显微镜&拉曼检测，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，基材铜铝箔：厚度：18μm、应用程序：石墨烯研究、多功能的电池、电子、航空航天工业、微机电系统和NEMS，微执行器，导电涂料。

宽带（超快）薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变λ/6 @ 632.8 nm入射角72° (±2°)平行度误差30 arcsec激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt宽带偏振片的zui佳工作角是AOI = 72°（±2°）。我们提供4种宽带（超快）薄膜偏振器。偏振器通过传输p偏振和反射s偏振光束分量来工作。 透射偏光器 - 在输入面上具有偏光涂层，而输出面是用于p偏振的增透膜。它们可以针对p极化的zui高透射率Tp 94％进行优化，或者用于极化的zui佳对比度。 反射偏振器 - 在输入面上具有偏振涂层，而输出面是AR涂层，用于s和p偏振。它们可以被优化用于s极化Rs 98％的zui高反射或者用于极化Rs：Rp 60：1的zui佳对比。此外，偏振片的AR涂层侧具有楔形以使重影zui小化。 标准的薄膜偏振器设计用于750 - 850 nm或980 - 1090 nm范围内的zui佳性能。自定义波长范围的设计也是可用的。 1）有效地分离s和p偏振分量2）许多宽带（超快）薄膜偏振器可从STOCK以快速交货获得3）尺寸可达160x50毫米4）针对流行的激光波长进行了优化Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa波长，nm消光比透射/反射，％尺寸，mm优化产品编号750 - 850 (centered@800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%50 x 160 x 5Contrast2-UFP-0800-5016-T2750 - 850 (centered@800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%50 x 160 x 5Tp2-UFP-0800-5016-T1980 - 1090 (centered@1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%50 x 160 x 5Contrast2-UFP-1030-5016-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%?25.4 x 3Tp2-UFP-1030-0254-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%50 x 160x 5Tp2-UFP-1030-5016-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%50 x 160 x 10Rs2-UFP-0800-5016-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%50 x 160 x 10Contrast2-UFP-0800-5016-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%50 x 160 x 10Rs2-UFP-1030-5016-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%50 x 160 x 10Contrast2-UFP-1030-5016-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%40 x 120 x 5Contrast2-UFP-0800-4012-T2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%40 x 120 x 5Tp2-UFP-0800-4012-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%40 x 120 x 5Contrast2-UFP-1030-4012-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%40 x 120 x 5Tp2-UFP-1030-4012-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%40 x 120 x 10Rs2-UFP-1030-4012-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%40 x 120 x 10Contrast2-UFP-1030-4012-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%20 x 60 x 2Tp2-UFP-1030-2060-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 1.5%40 x 120 x 10Contrast2-UFP-0800-4012-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%?25.4 x 3Tp2-UFP-0800-0254-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%20 x 60 x 2Contrast2-UFP-0800-2060-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%20 x 60 x 5Rs2-UFP-1030-2060-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%20 x 60 x 2Contrast2-UFP-1030-2060-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%?25.4 x 3Rs2-UFP-1030-0254-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%20 x 60 x 5Contrast2-UFP-0800-2060-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%40 x 120 x 10Rs2-UFP-0800-4012-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%?25.4 x 3Contrast2-UFP-0800-0254-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%20 x 60 x 5Rs2-UFP-0800-2060-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%?25.4 x 3Contrast2-UFP-0800-0254-T2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 10%20 x 60 x 2Tp2-UFP-0800-2060-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20%?25.4 x 3Rs2-UFP-0800-0254-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%20 x 60 x 5Contrast2-UFP-1030-2060-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 1%?25.4 x 3Contrast2-UFP-1030-0254-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 4%?25.4 x 3Contrast2-UFP-1030-0254-T2 定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

FEP薄膜FEP薄膜：也叫特氟龙薄膜，聚全氟乙丙烯薄膜；其特征主要有：1、耐高低温:-200～205℃ ，外观透明如保鲜膜，使用方便，环保；2、具有不粘性,拼水,拼油:水接触角θ=114о 电可靠性，高绝缘，不漏电；3、高透明度:透明度参考家用保鲜膜，对紫外线、可见光有很好的穿透性；4、耐强酸强碱，耐各种有机及无机化学溶剂，丙酮、醇类等各种腐蚀性溶剂；5、多作为封口膜，用于密封一些强腐蚀型瓶口；隔离实验室的一些腐蚀性溶剂；6、典型用途实例：中科院地化所常用来野外考察收集样品时，接收雨水用，通常会配套我公司同系列的FEP 透明管使用；规格参考：品名宽度（mm）厚度mmFEP薄膜 200-2500.02-0.0150.03-0.040.05-0.150.15-0.2可按照客户要求生产250-280250-300300-35050060080010001200 9、FEP系列产品：取样瓶、大口瓶、洗瓶、滴瓶、容量瓶、烧杯、离心管、离心瓶、移液管、吸管、分液漏斗、薄膜、透明管、消解管、消解瓶以及各种定制产品等。详情请来电咨询。 专注自然成！期待与您的合作！单位：南京瑞尼克科技开发有限公司

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数： 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示，精度1度 安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压 片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单 制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数： 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示，精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

单层石墨烯膜增长方法：CVD合成、质量控制：光学显微镜&拉曼检测，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，基材铜铝箔：厚度：18μm、应用程序：石墨烯研究、多功能的电池、电子、航空航天工业、微机电系统和NEMS，微执行器，导电涂料。

薄膜偏振片英文名Thin film polarizer，薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开，适合高功率激光或高能量激光应用，适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片，是一种适合高能激光应用的偏振片，损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器（偏振立方体）的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角（布儒斯特角）情况下的 偏振比值Tp/Ts=200：1.特点：1）薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2）薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存，可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料：BK7, UVFS直径公差：+0.0/-0.12mm厚度公差：+/-0.2mm净孔径：90%表面质量： 20-10 scratch&dig表面平整度：Lambda/10 @633nm平行度：30arec sec 消光比Tp/Ts：200:1典型透过率： Tp90%典型反射率：Ts99.5%激光损伤阈值： 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品：266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

specac_迷你等厚度薄膜制样套装 等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定。根据热压制膜原理，所得到样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供了3种等厚度薄膜制样工具。不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还可以将粒状、块状或板材等不规则形状的聚合物变成可以用光谱检测的薄膜。 视频：http://v.youku.com/v_show/id_XNDg3ODI1OTc2.html 点击观看视频

chemplex样品薄膜型号：090，250品牌：chemplex产地：美国 一、产品介绍： 在用x荧光光谱仪进行rohs检测，weee检测和一般材料成分分析时，由于样品的不规则（特别是液体、粉末等），需要借助样品杯和薄膜辅助检测；但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的x射线信号和检测结果。选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中，只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料？适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础： 使用方便快捷； 避免造成待测样品污染； 优越的分析物透射比与强度； 对待测样品的耐化学性。chemplex industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是x射线光谱仪（xrf）配件耗材领域的全球知名厂商。chemplex xrf样品杯和样品薄膜用于rohs、weee专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的x射线荧光光谱仪。chemplex样品薄膜薄膜张力特性极/佳，与样品杯组合使用，适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得chemplex xrf样本杯、样品薄膜在xrf物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。chemplex的许多xrf样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。美同达作为美国chemplex公司的中国代理商，提供chemplex所有系列用于对应欧盟rohs和weee环保检测仪器——x射线荧光光谱仪（xrf）的检测实验消耗产品！我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器：德国斯派克spectro、英国牛津oxford、日本堀场horiba、飞利浦/帕纳科philips/panalytical、德国布鲁克 bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）thermo，瑞士arl及日本理学rigaku, siemens, spectrace,jordan, kevex, metorex,fisons, asoma，venus 200,valley等生产的x荧光光谱仪(xrf)。（适用x 射线荧光光谱仪品牌型号：所有x射线荧光光谱仪包括：尼通(niton)：xlt797z 、xlt794、xlt898 ；伊诺斯(innov-x)：alpha6000；牛津(oxford)：met-5000；帕纳科(panalytical)：minipal4、 minipal2；精工(seiko)：sea1000a；斯派克（spectro）：xepos、midex m；热电(thermo)：arl quant’x；日本电子（jeol）jsx－3400r；horriba等。） 三、spectromembrane® 样品薄膜随着spectromembrane® 样本支撑托架的面世，在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外，薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成，托框能够在组装过程中自动分离，留下绷紧的薄膜样本平面。spectromembrane® 薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在xrf样本杯上时，薄膜物质并不会被直接处理，这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时，薄膜将自动从托架上分离，留下绷紧的无皱样本支撑窗。

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。 电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。 微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶

试验时胶料上下侧应垫耐高温玻璃纸，防止胶料残留上下模腔的花纹沟槽中；这种高温玻璃纸厚度均匀，性能稳定，可消除普通薄膜纸（玻璃纸）误差大的弊端，即可解决模腔粘胶不易清理的难题又保证测试数据不失真。

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。 电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。 微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶

产品详情 XRF荧光光谱仪专用测试薄膜英飞思提供不同材料和厚度的专用测试薄膜，以满足应用中的测试需求样品杯的底部覆盖有X 射线透明薄膜。耐化学性取决于薄膜的材料和厚度：下表展示了不同厚度和材质的薄膜对测试不同元素的影响原则上，使用两种材料：聚酯（聚酯薄膜）和聚丙烯（商标名称包含名称片段的薄膜“丙烯”，例如以“lene”结尾的，通常与便宜得多的材料相同聚丙烯薄膜）。薄膜材料的耐化学性不同。虽然聚酯是稳定的对于溶剂、脂肪族化合物和燃料，聚丙烯提供更高的稳定性富含氧气的流体（例如水、聚乙二醇和高沸点油）。聚丙烯特别适用于固体样品的痕量分析，因为它没有主要成分其中的污染。相比之下，聚酯薄膜含有不需要的磷和钙（3.5 µmMylar 对应于纯油（例如清洁白油）中的 50 ppm Ca 和 250 ppm P。薄膜，例如Hostaphan（带有硅污染的聚酯）或聚碳酸酯（不含污染，首选用于燃料分析）受到限制或不再可用。Kapton 对轻元素的荧光辐射不是很透明，因此仅可用于分析具有更高原子序数的元素。

超快薄膜偏振片1.适用于钛：蓝宝石和镱掺杂激光器2.高达0.3 J / cm2 @ 200 fs @ 800nm损伤阈值3.优化分散S和P的最小色散超快薄膜偏振片采用薄膜涂层技术，可在近红外波长范围内实现zui佳性能。这些偏振器具有高损伤阈值，非常适用于高功率激光器，包括Ti：蓝宝石和掺镱激光源。透射偏振器可在偏振器的两侧具有偏振涂层，而反射偏振器由输入面上的偏振涂层和输出面上的抗反射涂层组成。订购信息消声系数对比度 波长范围 (nm)透射率 (%) 20:1Tp:Ts20:1750 - 850Tp85 / Ts4#88-23560:1Rs:Rp60:1750 - 850-#88-23620:1Tp:Ts20:1980 - 1090Tp85 / Ts4#88-23760:1Rs:Rp60:1980 - 1090- #88-238技术数据

SpectroMembrane® 薄膜样品载体框架由薄膜样品载体物质组成，该薄膜样品载体物质附着在用作载体的框架上。在将薄膜物质粘贴到XRF样品杯时，不直接处理薄膜材料并且完全消除污染可能性。接近或完成附着时，薄膜自动从载体框架上分离，留下一个拉紧的无褶皱样品支撑窗口。用户选择的薄膜样品支撑窗口连接到处理框架上，以便连接到Chemplex® 样品杯

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com