当前位置：其他 > 方案详情

氦质谱检漏仪光刻机检漏

检测样品其他

检测项目光刻机检漏

方案详情文

上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.

智能文字提取功能测试中

氦质谱检漏仪光刻机检漏上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.光刻机检漏方法: 采用真空模式检漏, 漏率值设定为 1x10-11pa m3/s.1. 通过波纹管与光刻机真空系统连接2. 使用喷枪, 喷扫管路, 腔体焊缝, 接头等部位, 如果存在超过设定漏率值的狭缝, 检漏仪会时时发出声光报警, 同时在屏幕上显示漏率值.便携式氦质谱检漏仪 ASM 310 主要技术参数：对氦气的最小检测漏率真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸枪模式 1E-8 Pa m3/s检测模式真空模式和吸枪模式检漏方法>>氦质谱检漏仪无油前级泵抽速1.7 m3/h检测气体4He , 3He, H2响应时间<1s对氦气的抽气速度1.1 l/s氦质谱检漏仪进气法兰DN 25 ISO-KF进气口最大压力15 hPa通讯接口RS-232工作温度10-40 °C噪音水平< 45 dB (A)尺寸350 X 245 X 141 mm重量21 kg (46 lb)鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解光刻机检漏, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗先生

关闭