氦质谱检漏仪半导体设备及材料检漏

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氦质谱检漏仪半导体设备及材料检漏应用真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛，例如真空镀膜设备（蒸发，溅射），干法雷设备（ICP,RIE,PECVD）,热处理设备（合金炉，退火炉），掺杂设备（离子注入机等）这些真空设备作为半导体技术发展不可或缺的条件必将起到越来越重要的作用。上海伯东德国 Pfeiffer 氦质谱检漏仪现已广泛应用于半导体设备检漏。半导体设备及材料需要检漏原因：1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。综上所述，上海伯东德国 Pfeiffer 氦质谱检漏仪在半导体行业起着至关重要的作用。半导体设备及材料检漏方法：半导体氦质谱检漏有两种方法1.真空法   2.吸枪法上海伯东客户某大型半导体厂商使用德国 Pfeiffer 吸枪便携式氦质谱检漏仪 ASM 102 S检漏。吸枪便携式氦质谱检漏仪 ASM 102 S 主要优势：高灵敏度：1x10-7 mbar.l/s或0.1 ppm的氦气。高水平的解决方案带来高诊断性和高灵敏性的测试 测试范围广：从0.1 ppm到100 %氦气氦质谱检漏仪快速反应时间：一秒钟内（使用5 m/16 ft吸枪探头）快速的恢复时间杰出的稳定性：氦气的信号稳定性对小型漏点检测十分关键。氦质谱检漏仪3种示踪气体选择：使氦气(He3)与氢气(H2)检漏成为可能。通过自动清零（忽略本底）功能使氦气背景信号增强，确保氦气信号始终保持在零以上。卓越的特性加上电子时代的最新标准语音分析器增添操作界面的功能1号与2号灯丝独立连接，方便分别更换。氦质谱检漏仪便携性：便于运输（干泵系统）、所有附件均内置在一个隔间，并可通过简单连接进行操作。使用方便：熟悉ASM102S的操作只需简单的几分钟时间：自动校准、自动清零（忽略本底）功能使敏感度更高、氦信号直接读出功能，无须操作者进行释读。上海伯东主营产品：德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵，干式真空泵，罗茨真空泵，旋片真空泵；应用于各种真空环境下的真空计，氦质谱检漏仪，质谱分析仪以及美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源，美国 HVA 真空阀门，Polycold 冷冻机等。