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OPTON欧同有限公司微纳米分析技术系统供应商 SEM大面积样品制备新手段 GATAN PECS II (685) 第二代精密刻蚀镀膜仪 GATAN 第二代精密刻蚀镀膜仪(PECSII)是一款桌面型宽束离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。 PECSII是一款完全独立、结构紧凑的台式设备。采用两个宽束氩离子源对样品表面进行抛光，去除损伤层，，从而得到高质量样品，用于在SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。 技术特点 *可容纳直径32mm的大样品 *集抛光、，刻蚀或镀膜于一身，样品刻蚀后立即镀膜，排除样品污染 *离子枪电压、束流、刻蚀时间及镀膜厚度可精确控制，实验重复性好 *具有平面和截面两种加工模式，满足不同应用需求 *WhisperlokTM专利技术，30s内实现样品快速更换，F，提高工作效能 *低能聚焦离子枪保证低能量下工作效率，尤其适合加工对表面损伤敏感的 样品，，对EBSD和CL类等对表面要求苛刻的样品效果尤佳 *改进低能抛光效果，减少非晶层；提供更高的能量，，以提高抛光速度 *保护样品避免离子束热损伤，消除可能的假象 *快速简便地访问所有的控制参数 适应大多数材料类型，，对大面积、表面或辐照及能量敏感样品尤佳钢铁、、地质、油页岩、 锂离子电池、拜光伏材料、 薄膜、 半导体、EBSD、生物材料等 例一大面积EBSD样品分析 微纳米分析技术系统供应商 TRIP钢试样经PECS II平面模式抛光后，直径8mm内仍可运用EBSD进行精确标定 抛光参数：8KV 3°2h and 3KV3°2h抛光参数：6KV，3°@-40℃ 例二大面积页岩样品分析 页岩试样经PECSII平面模式抛光后，保证直径16mm内仍能满足页岩分析要求 更多产品应用详情欢迎垂询：800-8900-558 微纳米分析技术系统供应商
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北京欧波同光学技术有限公司为您提供《用于SEM（EBSD)分析的大面积样品制备新手段》，该方案主要用于其他中null检测，参考标准《暂无》，《用于SEM（EBSD)分析的大面积样品制备新手段》用到的仪器有高分辨成像与光谱分析阴极发光成像系统Gatan Mono CL4 、宽束氩离子抛光系统Gatan 697 Ilion II、精密刻蚀镀膜系统Gatan PECS II 685、第二代实时彩色阴极发光成像系统Gatan ChromaCL2、原位加热台Gatan Murano 525。
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