电化学综合讨论
第1楼2005/12/15
贴个图来看看
第2楼2005/12/16
增加扫描速度,双电层电容以及吸附电容,或者你的组装膜电容的响应电流也会增加,以至于掩盖反应电流,没有峰出现.
第3楼2005/12/16
第4楼2005/12/16
那请问有什么方法可以让在快扫速下面的峰也变得很尖锐吗?我看有些文章做得就很好。我也做出来过,但大多数情况下还是峰会变顿。谢谢各位了!
第5楼2005/12/16
3楼说的有道理啊,电容性的样品在较高的扫速下,CV曲线由于脉冲信号被压缩而产生瞬时充电电流,很难被检测到,而造成试验曲线不明显;改正的方法有几种,一种是换用模拟信号输出,这样是最好的方法,从根本上解决问题;另一种就是软件修正了,方法很多,自己找吧。模拟信号输出,看你用的是Autolab吧,建议你在添加个附件,叫什么忘了,总之是输出模拟信号的。还有一种可能是楼主的反应过程比较慢,在动力学上是不完全可逆的,呵呵,随着扫描速度的增大,慢反应过程逐渐被动力学禁阻,于是反应曲线自然就不明显了。
第6楼2005/12/17
那我如果用软件修改的话,是用Autolab自带的GPES软件,还是第三方软件啊?什么软件比较好啊?
第7楼2005/12/19
我指的软件修正是说仪器的采样工作的修正,具体是指Zahner公司THALES软件包中CV模块,它在取样时是采用了超采样技术,大规模采样后将采样数据做算术平均,这样可以有效克服扭曲波信号的干扰。数据的事后修正软件我也不是很清楚,THALES软件包中还内置有一个模块,用于减去双电层电容的充电电流,很简单的功能,用Origin对原始数据修改也可以做到,建议可以试一试。Autolab的新软件听说增加了一些新功能,可以向宋老师要一份,看看有没有这些功能。其实楼主的问题到现在还没有定论,最好是用一些模拟软件拟合一下测试数据,确定原因。
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