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  • 【序號】:1

    【作者】:王春

    【篇名】:中频磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能的研究

    【期刊】:大連理工大學

    【全文連接】:http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=580&CurRec=1

    【序號】:2

    【作者】:賈曉昀

    【篇名】:磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究

    【期刊】:北京交通大學

    【全文連接】:http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=617&CurRec=14

    【序號】:3

    【作者】:王春; 牟宗信; 劉冰冰; 臧海榮; 牟曉東;

    【篇名】:中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能(英文)

    【期刊】:材料科學與工程學報 , 2011年 03期

    【全文連接】:http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=192&CurRec=4

    【序號】:4

    【作者】:景鳳娟; 張琦; 冷永祥; 孫鴻; 楊蘋; 黃楠;

    【篇名】:非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能研究

    【期刊】:真空科學與技術學報 ,2009年 05期

    【全文連接】:http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=192&CurRec=22

    【序號】:5

    【作者】:劉濤;

    【篇名】:氮化硅反应溅射源的设计及其薄膜工艺实现

    【期刊】:記錄媒體技術 ,2008年 06期

    【全文連接】:http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=192&CurRec=33
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