仪器信息网APP

选仪器、听讲座、看资讯

立即体验

当前位置：仪器社区 >电化学 > 电化学综合讨论 > 帖子详情

【资料】铜的抛光液

yuyuyuyu

2007/03/29

电化学综合讨论

抛光液化学组成为1％HN O3+1％B TA+0.2％H2O2较适宜.
研究了腐蚀介质硝酸、成膜剂苯并三唑、H2O2、磨粒g-A12O3的浓度、抛光压力及抛光转速对铜化学-机械抛光速率的影响,解释了各种因素的影响机理.
配方0.1％甲胺溶液+0.5％K3Fe(CN)6+5％Al2O3可行.

相关话题

近期热榜

热门活动

猜你喜欢最新推荐热门推荐更多推荐

品牌合作伙伴

日立科学仪器

珀金埃尔默仪器（上海）有限公司（PerkinElmer）

珀金埃尔默仪器（上海）有限公司（PerkinElmer）

日本电子株式会社

赛默飞世尔科技

马尔文帕纳科

上海仪电科仪

梅特勒托利多

布鲁克核磁

举报帖子

点赞用户

好友列表

加载中...

正在为您切换请稍后...