第19楼2006/02/10
电镜制样设备主要为蒸镀\溅射两大类;又分别有高真空\低真空之分;镀膜的靶材一般为Au,Ag,Pt,Pd,Cr,Ir,C等;如果需要镀Cr等易氧化金属,则必须选择高真空溅射镀膜仪;如果一次抽真空条件下需要在样品表面依次镀上多层不同材料的膜(也可用于半导体晶圆),则可选用多头多靶的溅射镀膜仪.如果要想一台仪器既能完成蒸镀镀碳又可以完成离子溅射金属膜(喷金),则可选择在蒸镀镀碳仪上加溅射附件,或者在离子溅射镀膜仪上加蒸碳附件.
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