您的已经通过了，请注意查收邮箱

与工程师零距离互动，机会难得。希望广大的挚（质）友们积极参与，如果您有什么问题，现在就可以提问了~

AB SCIEX 上海应用支持中心应用工程师 秦峰 博士，您好！我有以下问题想请教。
请问：LC/MS中，总有82的碎片干扰，清洗过离子源问题还是存在，是否要进一步清洗？

应助达人

天啊，这个主题不放在环境版块，实在太可惜了。

严重同意，应该召集一下环境板块的同学。

秦峰回答：看来您使用的是单级四级杆。出现干扰离子的原因很多，包括您使用的流动相，质谱的离子化方式等等。另外您可能也需要判断，这个干扰离子是新出来的，还是从一开始就有，对您的实验影响有多大等等。下面几个方法也许有助于您降低这个离子的强度。更换流动相；充分冲洗所有管路；充分清洗离子源和质谱前端部分；改变去簇电压（根据厂商的不同，这个叫法可能不同）。希望这些能对您的实验有所帮助。

我也想问一下 秦峰博士，除了安捷伦的GC-MS，国产的有没有好点的呢？

秦峰回答：不好意思，我对气相色谱用的质谱不太了解。这个也许坛子里的其他用户能帮您。

秦峰回答：感谢您对这次讲座的关注。现在主流的技术包括串联四级杆，离子阱，四级杆复合线性离子阱（QTRAP），时间飞行等，其中QTRAP技术是AB SCIEX独有的专利技术，而其它技术各大品牌都有生产，一般也有自己独特的一些设计包含在内，从而在性能和应用方面也各有不同。关于品牌和各自的优缺点，我不方便评价。建议您多浏览一下论坛，或者跟其他有经验的网友交流一下。

我很期待这次讲座，我的申请怎么还没通过呢？