宽扫就没有必要那么细了。主要是价态分析时的干扰。做试验前可预测一下有无干扰。如实在要区分，也只能再扫一次。记得今年的分析测试学报第3期有文章讲光电子峰和俄歇峰干扰问题。

跟你要分析的元素的主峰重合,这个时候您是怎么知道的?[/quote]
对于俄歇峰可以用双阳极来判定，而单色器较困难，只能根据峰形等来判定。给我email, 我帮你看看。对于光电子峰的重叠情况较少，可以用其它次强峰或用次强峰推算主峰（注意一般同一原子不同能级的位移是相等的）。或自旋轨道劈裂峰如O1s和Sb3d等。试试！最好给我一个具体的例子。[/quote]

对了,双阳极可以判断俄歇峰,但是你不能每次宽扫都要扫两次啊![/quote]

宽扫就没有必要那么细了。主要是价态分析时的干扰。做试验前可预测一下有无干扰。如实在要区分，也只能再扫一次。记得今年的分析测试学报第3期有文章讲光电子峰和俄歇峰干扰问题。[/quote]


是这样的.那我找找这本书.谢谢啊.我对XPS 知道的很少啊!郁闷

确实如此，又很大的人为因素在里面。我看文献有把CH和CCsp2分在一起的，二者明明差了近3ev。不知根据又是什么

理论总有不确定因素的◎！

同感，首先要承认仪器的准确性。
减少人为因素。

我对一些条件如L/G进行限制后，自动拟合得到结果。

如果确定峰的个数，那拟合的结果只有一个，即残差最小。也就是不停地逼近，直到不再减小。
此时，如果再放开峰位置限定，继续拟合，往往又得到另个一结果。

所以，在拟合的时候往往都作了一些限定，因为这些限定是人为的，故随意性很大。而且现在的文章只能看到他拟合的结果，无法得之其误差情况。当需要时，有人会不仅固定峰位置，甚至峰面积，这样还不是想要什么就是什么了，呵呵。
更有甚者，在一个峰下分出4、5个峰来，这个，这个：）

个人觉得这种分析和阻抗的拟合类似，只能做参考，不能做决定判断的依据。

顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶

是啊.XPS也可以做出想要的数据啊?

老师还是从头给讲讲吧，一头雾水
对于从来就不了解XPS的人来说，要分析好XPS的试验数据还真是太难了！