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  • 第43楼2008/08/01

    这些污染用离子轰击能消除吗

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  • 第44楼2008/09/01

    可以的！

    fj_blueice 发表:这些污染用离子轰击能消除吗

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  • 第45楼2008/12/29

    应该是来源于进样杆上涂的润滑油

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  • 第46楼2009/01/07

    太多了，导电胶、手摸到样品上，空气灰尘等等！

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  • 第47楼2009/04/12

    据我所知：高真空系统内部都是无油的，怎么进样杆会涂润滑油？？

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  • 第48楼2009/04/12

    《X射线与紫外光电子能谱》P.171
    污染碳峰来自样品在空气中的暴露，或来自样品的容器（特别是塑料容器），或是由于操作不仔细等原因所致。即使在很好的真空条件下也有污染碳峰；许多经验是这样的：它只在实际收谱期间发生，这种现象使人联想到污染物是由受热的X射线管套或窗口蒸发出来的，而后凝聚在附近的样品表面上。

    guanjun19860820 发表:太多了，导电胶、手摸到样品上，空气灰尘等等！

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  • 第50楼2009/05/12

    初来乍到，也学习了一下

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  • 第51楼2009/06/06

    C来源于空气中的有机物或者Ｃ颗粒等，或者手上的油脂，或者加工过程中的有机污染，一般只要暴露在空气中的样品，都会有Ｃ的污染，有机物的Ｃ—Ｃ和Ｃ－Ｈ的Ｃ一般都在２８５左右，是比较稳定的，所以一般谱图的校正都是用它来的[/B]

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  • 第52楼2009/07/08

    我也学习一下了，经常要用这仪器

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