这不是推导出来的公式，而是根据经验给出的近似公式
"In optical emission the approximate formula for DL"

chauchylan(chauchylan) 发表:

呵呵，这个公式是如何推导出来的？？

大家怎么理解检出限呢？不要公式。就是怎么理解检出限的物理意义！老头

检出限有好几种表示公式。其实都是一样的。自己慢慢导吧！我也是一点一点导出的。老头

chauchylan(chauchylan) 发表:

呵呵，这个公式是如何推导出来的？？

7#：



这个公式一般人不好理解的。这里的Int是没有基体校正的原始光强（可以用内标再换算回来的）。如果我们用分析软件的曲线公式直接计算，会有一些问题吧。系数的1、2、4、8等就是2的0次方、1次方、2次方、3次方等。也就是Int的两倍(2 x Int)再加上N次方（在帖子上写不出来）。也就是背景的光强在曲线上的光强对应的含量（注意该曲线是没有基体校正的）。我也不知道我理解的对不对。也好像一下子在帖子上讲不彻底。大家慢慢琢磨吧。（我总认为您是比较专业的人士呀。不然搞这么细致？！有些帖子您的认识非常深入呢！）老头

分析高合金钢的仪器的检出限用纯铁不对吧！用纯铁得到的数据是仪器的检出限，不是方法检出限呀。真正做好各种钢材的检出限是非常麻烦的一件事情。一般就用LOD了。老头

怎么就这几个人在讨论。真没意思！老头

多谢shguan老师指点，我之前一直都以为这个公式是根据经验得出的近似公式呢
正如shguan老师之前所说真正应用可能都是一次方程考虑的，所以我就尝试用一次方程来推导一下这个关系式，不妥之处还望各位高手指正。

7#：
我什么时候升官和你平级：少校啦！！老头

呵呵，一次拟合是多项式拟合的特例，实质对于固体分析而言，更多使用的是二拟合曲线。

chemchenxj(chemchenxj) 发表:多谢shguan老师指点，我之前一直都以为这个公式是根据经验得出的近似公式呢
正如shguan老师之前所说真正应用可能都是一次方程考虑的，所以我就尝试用一次方程来推导一下这个关系式，不妥之处还望各位高手指正。

这实质对应着AAS,ICP-OES,ICP-MS等湿法分析的仪器检出限与方法检出限，不过对于SPARK-OES而言，很少用到方法检出限这个术语。

检出限这个概念或许更侧重于数理统计的意义，它也是来源于数理统计的意义。