用激光进样系统如何？

恐怕效果不会太好的。

ICP-MS测原子量小的元素不是太好，铁有ArO干扰，我要别人用OES测我的水没有铁，但我自己用MS测用一百多的

用辉光放电质谱测吧，没有这些烦恼

国产ＵＰ级试剂并不见的就能真正达到ultrapure，杂质含量往往远远高过标示值．有条件就用国外的吧，ＭＥＲＣＫ，　Ｊ．Ｔ．ＢＡＫＥＲ，ＴＡＭＡ等，水用ＭｉｌｌｉＱ吧．另外可用亚沸方法进一步提纯．但也难提到ｐｐｔ级，因为所用的装置，容器和环境都有影响．

对半导体及高纯材料无机杂质分析，ICPMS是十分有力的工具，并已广泛应用．希望下面的链解对你有所帮助，也能消除误解．

http://www.chem.agilent.com/Scripts/Generic.ASP?lPage=3554&indcol=Y&prodcol=N
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是不是从IVSTANDARDS上看到的？

不就是酸不纯吗？
硝酸用石英亚沸蒸馏提纯，HF用Teflon 对口瓶亚沸蒸馏提纯，提纯后空白值应该没有问题。

怎么越看越糊涂？最纯的酸是什么意思，指标是多少？假设国体样品含量是1ppb（1ng/g），300g样品合计待测物300ng，定容体积10mL，则溶液中待测物浓度最少应该30ng/mL，如果混合酸最纯，杂质应控制在0.1ng/mL以下，以混合酸250mL计，混合酸中待测物合计25ng，定容体积10mL，浓度应为2.5ng/mL，大大低于样品中待测物的浓度，这样怎么会测不出来，令人大惑不解。

楼上错了，他的样品是一种耐酸碱的半导体，想通过侵泡把它表面的金属杂质溶解下来。不是溶解300g样品，侵泡下来的当然很低。