产品介绍
参数:
制备方法:锂基插层法
组成:单层二硫化钨
外观:黑色粉末或分散体
直径:0.1-4um
厚度:1纳米
单分子层比例:95%
Parameter:
Preparation Method:Lithium-based Intercalation Method
Composition: Monolayer Tungsten disulfide
Appearance: Black Powder or dispersion
Diameter: 0.1-4 μm
Thickness: ~1 nm
Monolayer ratio: >=95%
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银牌会员 第13年