光刻胶残渣去除剂.pdf
- 类别:专利
- 上传人:wuyuzegang
- 上传时间:2023/4/18 11:01:44
- 文件大小:721K
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简介:
本发明提供一种无毒、没有危险的光刻胶残渣去除剂,能使光刻胶残渣的去除进行而没有金属腐蚀或其它问题并且具有安全性。所述去除剂是一种含有磷酸铵和/或缩聚磷酸铵的水溶液,pH值在1—10范围内。
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