光刻胶图案增厚材料、包含它的光刻胶图案及其应用.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 10:29:33
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简介:

本发明提供一种光刻胶图案增厚材料,此光刻胶图案增厚材料可以增厚待增厚光刻胶图案以形成精细的中空图案,超过了现有光源的曝光极限,而不管待增厚光刻胶图案的材料或其尺寸如何。所述的光刻胶图案增厚材料包含:树脂;交联剂;以及含氮化合物。在本发明的用于形成光刻胶图案的工艺中,光刻胶图案增厚材料被施加到待增厚光刻胶图案的表面,由此形成光刻胶图案。本发明的用于制造半导体器件的工艺包括:将增厚材料施加到已形成于下层之上的待增厚光刻胶图案的表面,以增厚待增厚光刻胶图案并形成光刻胶图案;以及通过利用光刻胶图案刻蚀而对下层进行制图。

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