光刻装置.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 14:59:06
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简介:

一种具有掩模装置的光刻投影装置,所述掩模装置用于遮盖至少一个构图装置的部分,所述构图装置用于在投影光束将带图案光束成像在基底上之前对投影光束进行构图。所述掩模装置包括在第一方向遮盖所述构图装置的部分的第一掩模装置,以及在第二不同方向遮盖所述部分的第二掩模装置,其中所述第一和第二掩模装置以机械上彼此分开布置的方式设置在所述焦平面附近。

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