湿浸式光刻系统中用于清洗半导体衬底的方法和设备.pdf
- 类别:专利
- 上传人:wuyuzegang
- 上传时间:2023/4/19 18:54:01
- 文件大小:1310K
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简介:
一种方法和设备,用于减少和防止残留物的形成,并移去在湿浸式光刻工具中形成的残留物。该设备包括在湿浸式光刻系统的湿浸头内引入清洗机制,或包括在湿浸式光刻系统的清洗台中引入清洗机制。
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