具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/19 18:59:04
  4. 文件大小:1260K
  5. 下载次数:2
  6. 消耗积分 : 50积分 移动终端:免积分

收藏

简介:

光刻设备具有用来移动带有标记(M3)的对象的执行器,所述标记具有多个排列成行和列的结构(19)。对准装置包括光源、光学系统和检测器。光源和光学系统产生在与列平行的第一方向延伸的第一斑点部分(24x)和在与行平行的第二方向延伸的第二斑点部分(24y)。光学系统把对准辐射束射向标记(M3),接收从标记(M3)返回的对准辐射,并把对准辐射传送给检测器。检测器把对准信号传送给处理器,处理器根据对准信号计算标记(M3)的二维位置。

打开失败或需在电脑查看,请在电脑上的资料中心栏目,点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。

  • 注意:
  • 1、下载文件需消耗流量,最好在wifi的环境中下载,如果使用3G、4G下载,请注意文件大小
  • 2、下载的文件一般是pdf、word文件,下载后如不能直接浏览,可到应用商店中下载相应的阅读器APP。
  • 3、下载的文件如需解压缩,如果手机没有安装解压缩软件,可到应用商店中下载相应的解压缩APP。