光刻设备,器件制造方法和由此制造的器件.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/21 19:27:32
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简介:

一种光刻设备,包括:用于提供辐射投影光束的辐射系统;用于支撑构图装置的支撑结构,所述构图装置用于根据所需图案将投影光束图案化用于保持基底的基底台;用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统;洛伦兹致动器,它包括与至少一个冷却元件热接触的线圈装置。其中一个或更多个槽被设置在所述冷却元件内,所述槽被设置成可增加涡流路径的电阻;并进一步包括冷却通道,所述冷却通道与所述槽是一体的,从而提供了多个设置成可减小流动阻抗的平行路径,并且所述冷却通道形成在所述冷却元件内。本发明还提供一种器件制造方法。

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