在纳米压印光刻中的基材预处理和蚀刻均匀性.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/26 15:10:26
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简介:

一种纳米压印光刻法,其包括使由预处理组合物和压印抗蚀剂形成的复合聚合性涂层与限定凹部的纳米压印光刻模板接触。使复合聚合性涂层聚合以产生限定对应于纳米压印光刻模板的凹部的蚀刻前多个突起的复合聚合物层。将纳米压印光刻模板与复合聚合物层分离。蚀刻前多个突起中的至少一个对应于压印抗蚀剂的两个离散部分之间的边界,并且该蚀刻前多个突起的蚀刻前高度的变化为蚀刻前平均高度的±10%。使蚀刻前多个突起蚀刻以产生蚀刻后高度的变化为蚀刻后平均高度的±10%的蚀刻后多个突起,并且蚀刻前平均高度超过蚀刻后平均高度。

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