用PEALD等离子增强原子层沉积系统制备Ge2Sb2Te5薄膜

  1. 类别:仪器样本
  2. 上传人:巨力科技
  3. 上传时间:2008/9/16 9:24:52
  4. 文件大小:411K
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简介:

利用等离子增强原子层沉积系统PEALD来沉积(Ge2Sb2Te5)GST薄膜,The application of plasma power was essential in obtaining a high growth rate and stoichiometric GST thin films. The chemical composition of the films was properly controlled by the cycling ratio and sequence of each precursor pulse. The stoichiometric films grown at 200°C showed a smooth surface morphology, highest density, and lowest impurity concentration.

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