FIB-SEM双束电镜应用之Xe等离子快速切割技术

  1. 类别:分析方法/应用文章
  2. 上传人:泰思肯
  3. 上传时间:2017/11/20 18:53:35
  4. 文件大小:578K
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简介:

Xe等离子FIB能够实现微纳米,甚至毫米级的快速加工。Xe等离子FIB的最大束流为2μA,另外Xe离子的原子量更大,对纯Si的溅射效率比Ga离子约高30%。虽然Xe离子的溅射效率高,但是由于Xe离子的直径较大,Xe等离子束加工样品时产生的注入效应和损伤要比Ga离子束小。

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