DRC-ICP-MS在半导体超纯材料分析中的应用

2004/07/26   下载量： 560 次

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半导体工业的快速发展对超纯材料的分析提出了越来越高的要求，10年前SEMI要求达到10ppb的杂质水平检测就可以满足要求了，现在则必须达到100ppt（国际半导体设备与材料SEMI Grade 4），对H2O2、HNO3、HF等关键试剂则进一步要求达到SEMI Grade 5所规定的10ppt的水平。这是传统的ICP-MS所无法做到的。本文介绍了DRC-ICP-MS的基本原理及其在半导体工业的实际应用。

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珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司
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