NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析

2020/05/20   下载量： 7 次

方案摘要

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应用领域 电子/电气
检测样本 电子元器件产品
检测项目
参考标准 无

使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰，而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高，所以为了分析低浓度的Si，必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、中心管、炬管 ) 本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的最佳条件。

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配置单
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使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰，而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高，所以为了分析低浓度的Si，必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、中心管、炬管 )

本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的最佳条件。


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文献贡献者

珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司
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