去胶快速干净
对样片无损伤
操作简单安全
设计紧凑美观
产品性价比高
高剂量离子注入光刻胶的去除
湿法或干法刻蚀前后残胶去除
MEMS中牺牲层的去除
去除化学残余物
去浮渣工艺
SU-8光刻胶去除
相关产品
微波等离子去胶机
光刻胶
CERES微纳金属3D打印系统
NOVOCONTROL宽频介电阻抗谱仪
红外测温仪 CellaTemp PA系列
PLD-Workstation
Laser MBE
Klocke 纳米定位技术
Klocke精密操纵与测量仪器
Klocke 纳米级三维测量仪
纳米压印标准模板
德国KELLER红外测温仪
光学高温计 Mikro系列
铸造专用红外测温仪CellaCast
德国 Zoz Simoloyer系列高能球磨机
AVAC高通量多重单分子免疫检测分析仪
NEISYS 电化学综合分析仪
扫描针尖电子束光刻机(SPL)
Nano analytik 原子力显微镜
SCALA 扫描式激光分析仪
LAwave杨氏模量无损测量系统
等离子体表面处理仪
关注
已关注
拨打电话
留言咨询
产品求购