简易紫外曝光系统

简易紫外曝光系统

参考价:面议
型号: Near UV
产地: 德国
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核心参数
北京汇德信科技有限公司
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产品详情

高准直紫外系统可以应用在微电子领域的光刻图形化过程,适合生产和科研应用领域。我们可提供从近紫外至深紫外波段的多种方案光源系统,最大支持12英寸面积(300mm)。


紫外光源系统使用了高性能的光学模组,包含:椭球反射器、热辐射过滤镜、多元件光学积分器和准直器系统。光学积分器的使用可以实现非相干光光照,大大降低由衍射效应引起的不利影响,使曝光系统能够在厚胶表面得到更精细结构。


应用:


光学曝光、光刻胶稳定化处理、图形反转、边胶修复、光固化。


特点:


  • 高性能、高均匀性,光源系统

  • 近、中、深紫外,不同波长光源可选

  • 200W、350W、500W、1000W、2000W,不同功率可选

  • 精确控制电功率或光强,高稳定性

  • 曝光快门数字控制(0.1-999.9秒),最小控制精度0.1秒

  • 高稳定性和免维护设计

  • 光源辐照圆形或方形区域可选

  • 非相干光消除衍射效应


紫外光源系统图1
紫外光源系统图1



Near UV系统

Deep UV系统

辐照面积

100-300mm

100-300mm

波长

340-450nm

220-260nm

240-275nm

254-325nm

功率

1000W,2000W,3500W

光强均匀性

圆形:±5%(标准型);±2.5%(高均匀型)

方形:±6%(标准型);±3.5%(高均匀型)

曝光控制

0.1-999.9 sec


北京汇德信科技有限公司为您提供简易紫外曝光系统Near UV,nullNear UV产地为德国,属于进口无掩模光刻机/直写光刻机,除了简易紫外曝光系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多无掩模光刻机/直写光刻机,北京汇德信客服电话400-860-5168转0250,售前、售后均可联系。

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