不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响

2021/09/25   下载量: 3

方案摘要

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应用领域 材料
检测样本 薄膜材料
检测项目 其他
参考标准

岛津AXIS Supra具备全自动传样系统,样品预抽时便可进行目标测试位置选择与深度剖析方法的提交。可配GCIS多模式离子枪,单氩离子模式用于金属类膜材料的深度剖析,低能团簇模式适用于常规有机物的刻蚀分析,20 kV最大团簇能量可以保证无机材料的有效分析。

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配置单
方案详情

离子束溅射清洁技术经常用于去除暴露在空气中的样品表面的吸附污染,亦可用于对薄膜材料的深度分析。本文使用岛津X射线光电子能谱仪(XPS)仪器配备的多模式气体团簇离子源(GCIS)氩离子枪,针对不同类型材料进行清洁/深度分析,并对比了单氩离子模式刻蚀与团簇模式刻蚀对表面元素化学态的影响。结果表明,团簇氩离子刻蚀对材料的破坏更小,能够较大程度保留样品原始信息。    


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