利用 7700s/7900 ICP-MS 直接测量 20% 氢氧化铵中的金属杂质

2021/01/31   下载量： 5 次

方案摘要

方案下载
应用领域 电子/电气
检测样本 电子元器件产品
检测项目
参考标准 /

使用 Agilent 7700s ICP-MS 成功对 20% NH4OH 进行了直接分析。ICP-MS 的高速频率匹配 RF 发生器在吸取 20% NH4OH 后能产生稳定的等离子体，同时多干扰去除技术确保被测的所有 48 种元素均实现较低的 DL 和 BEC。将加标浓度限制在 100 ppt 可避免碱性基质形成沉淀，也证实了 MSA 可用于常规的直接测量。因此，在用 ICP-MS分析 20% 高纯度的 NH4OH 时，实验室不必去除基质，可以直接进行常规分析。

方案下载
配置单
方案详情

使用 Agilent 7700s ICP-MS 成功对 20% NH4OH 进行了直接分析。ICP-MS 的高速频率匹配 RF 发生器在吸取 20% NH4OH 后能产生稳定的等离子体，同时多干扰去除技术确保被测的所有 48 种元素均实现较低的 DL 和 BEC。将加标浓度限制在 100 ppt 可避免碱性基质形成沉淀，也证实了 MSA 可用于常规的直接测量。因此，在用 ICP-MS分析 20% 高纯度的 NH4OH 时，实验室不必去除基质，可以直接进行常规分析。

上一篇 采用液相色谱-四极杆串联飞行时间高分辨质谱分析锂电池中的碳酸酯有机溶剂组分
下一篇 采用带 ISET 功能的 Agilent 1290 Infinity II 液相色谱系统模拟 Waters Acquity H-Class 进行三元梯度分析

文献贡献者

安捷伦科技(中国)有限公司
钻石会员 丨 第23年
查看全部资料
相关仪器 更多
相关方案
更多

相关产品

当前位置： 安捷伦 方案 利用 7700s/7900 ICP-MS 直接测量 20% 氢氧化铵中的金属杂质

关注

拨打电话

留言咨询