方案摘要
方案下载| 应用领域 | 半导体 |
| 检测样本 | 集成电路 |
| 检测项目 | 化学性质>杂质含量 |
| 参考标准 | C27-0708 C 级方案 |
Agilent 8900 半导体配置ICP-MS/MS 具有灵活的反应池气体支持、独特的 MS/MS 功能和无与伦比的冷等离子体性能，进一步提高了高纯酸中各种痕量金属污染物分析的检测限。8900 ICP-MS/MS 支持的高级反应池方法允许测定氯化物基质中浓度比以往更低的 SEMI 元素，包括可能有基质干扰的元素，如K、V、Cr、Ge 和 As。
Agilent 8900 半导体配置ICP-MS/MS 具有灵活的反应池气体支持、独特的 MS/MS 功能和无与伦比的冷等离子体性能，进一步提高了高纯酸中各种痕量金属污染物分析的检测限。8900 ICP-MS/MS 支持的高级反应池方法允许测定氯化物基质中浓度比以往更低的 SEMI 元素，包括可能有基质干扰的元素，如K、V、Cr、Ge 和 As。
文献贡献者
使用 Agilent 5800 ICP-OES 测定固态 电解质锂镧锆钽氧 (LLZTO) 中的 主量元素
Agilent Vaya 手持式拉曼光谱仪的 不透明容器分析能力
使用 Agilent 8890 气相色谱和 TCD/FID 系统分析氢气中的氦气、 氩气、氮气和烃类杂质
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