使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 测定超低含量的磷、硫、硅和氯

2021/03/11   下载量: 6

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应用领域 半导体
检测样本 集成电路
检测项目 化学性质>元素分析
参考标准 -

Agilent 8900 ICP-MS/MS 采用 O2 和 H2 池气体 的 MS/MS 模式分析,成功解决了超纯水中非金属杂质 P、S、Si 和 Cl 以及 H2O2 中非金属杂质 P、S 和 Si 的光谱干扰问题。该分析结果体现了第二代 ICP-MS/MS 对挑战性元素的超强分析性能,实现了超纯水中四种元素分析截至目前报道过的最低 BEC。

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Agilent 8900 ICP-MS/MS 采用 O2 和 H2 池气体 的 MS/MS 模式分析,成功解决了超纯水中非金属杂质 P、S、Si 和 Cl 以及 H2O2 中非金属杂质 P、S 和 Si 的光谱干扰问题。该分析结果体现了第二代 ICP-MS/MS 对挑战性元素的超强分析性能,实现了超纯水中四种元素分析截至目前报道过的最低 BEC。

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