使用 ICP-MS/MS 对半导体级过氧化氢和去离子水进行自动化分析

2021/03/11   下载量: 3

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应用领域 半导体
检测样本 集成电路
检测项目 化学性质>元素分析
参考标准 SEMI C30-1110

在本研究中,利用配备 ESI prepFAST S 自动化样品引入系统的 Agilent 8900 ICP-MS/MS 开发出一种对去离子 (DI) 水和 H2O2 中的超痕量元素杂质进行定量分析的自动化程序。prepFAST S 自动完成样品前处理和校准,可节省时间并最大程度减小手动样品处理操作引起样品污染的风险。

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在本研究中,利用配备 ESI prepFAST S 自动化样品引入系统的 Agilent 8900 ICP-MS/MS 开发出一种对去离子 (DI) 水和 H2O2 中的超痕量元素杂质进行定量分析的自动化程序。prepFAST S 自动完成样品前处理和校准,可节省时间并最大程度减小手动样品处理操作引起样品污染的风险。

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