原子层沉积系统（ALD) P-300 BV

原子层沉积系统（ALD) P-300 BV

参考价：¥100万 - 200万
型号： P-300 BV
产地： 芬兰
品牌： Picosun
评分：
核心参数
北京正通远恒科技有限公司
银牌会员 丨 22年
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产品详情

PICOSUN® P-300BV ALD系统是专为生产LEDs、分立器件和MEMS器件（如打印头、传感器和麦克风）而设计的。

衬底尺寸和类型

200mm硅片25片/批次

150mm硅片50片/批次

100mm硅片75片/批次

工艺温度50-450℃
基片传送选件气动升降（手动装载）
半自动装载，用线性装载器实现
全自动转载，用工业机器人实现
前驱体液态、固态、气态、臭氧源
前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
4根独立源管线，最多加载8个前驱体源
重量400 + 300 kg
尺寸 (W x H x D)
149 cm x 191 cm x 111 cm
选件PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
工艺Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN, and metals


北京正通远恒科技有限公司为您提供Picosun原子层沉积系统（ALD) P-300 BV，Picosun P-300 BV产地为芬兰，属于进口原子层沉积设备，除了原子层沉积系统（ALD) P-300 BV的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供null,北京正通远恒客服电话400-860-5168转0338，售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期： 90天
  • 培训服务： 安装调试现场免费培训
  • 维修响应时间： 2天内
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