Neocera高级型脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced PLD Pioneer 120 Advanced PLD System

产品详情

产品简介

Pioneer 120 Advanced PLD System 是一个用于制备高质量的外延薄膜独立的系统、多层异质结构和各种材料的超晶格。这个PLD系统和the Pioneer 120 PLD System 的主要区别是衬底加热阶段。先锋120采用导电加热阶段，而Pioneer 120 Advanced PLD System 采用辐射加热阶段。加热器可兼容1大气压(760托)的氧气，这是一特性用于制备外延氧化膜，需要(i)沉积在氧气中，(ii)沉积后退火在氧气中，以及在接近1大气压的氧气中冷却。由于基底不与加热器直接连接，可以连续旋转360度。衬底也可以负载锁定。

这个脉冲激光沉积系统包括一个自动多目标转盘，带有目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013) 控制基材加热器、目标转盘、过程压力、系统泵和激光触发。由于衬底可以转移，可进行多种选择。这些包括但不限于将PLD系统与各种其他沉积平台(如超高真空溅踱系统)集成，也与超高真空分析系统(如XPS/ARPES等)集成。

产品特点

独立的交钥匙PLD系统。

外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

利用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。

氧化膜沉积的氧相容性。

升级:负载锁定，激光加热器，RF/DC溅射，组合PLD

与超高真空溅踱系统集成。

与XPS /ARPES超高真空集群工具集成。

技术指标

项目	Pioneer240	Pioneer180	Pioneer120A
最大wafer 直径	8”	6”	2”
最大靶材数量	6 个1” 或3 个2”	6 个1” 或3 个2”	6 个1” 或3 个2”
压力(Torr) *	5*10^-8	5*10^-9	5*10^-9
真空室直径	24”	18”	12”
基片加热器	360°旋转	360°旋转	360°旋转
最高样品温度	850 ℃	850 ℃	950 ℃
Turbo 泵抽速* （liters/sec）	700 软件控制	400 软件控制	260 软件控制
计算机控制	包括	包括	包括
基片旋转	包括	包括	选件
基片预真空室	包括	选件	选件
扫描激光束系统	包括	选件	-
靶预真空室	包括	选件	-
IBAD 离子束辅助沉积	选件	选件	选件
CCS 连续组成扩展	选件	选件	-
高压RHEED	选件	选件	选件
520 liters/sec 泵	N/A	选件	-

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售后服务

产品货期： 90天
培训服务：安装调试现场免费培训
维修响应时间： 2天内

型号：	Pioneer 120 Advanced PLD System
产地：	美国
品牌：	Neocera
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