Neocera脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 PLD System_价格-北京正通远恒科技有限公司

产品详情

产品简介

Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。该PLD系统与 Pioneer 120 Advanced PLD System系统的主要区别在于，具有更大的沉积模块，有助于 Pioneer 120 Advanced PLD System可能有限的一些升级。Pioneer 180 PLD系统集成了兼容氧的辐射加热台。加热器可兼容1大气压(760托)的氧气，这是一种特性助于制备外延氧化膜，即满足了(i)沉积在氧气中，(ii)沉积后退火在氧气中，以及在接近1大气压的氧气中冷却。衬底连续旋转，并可以负载锁定。Pioneer 180 PLD系统包括一个自动多目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加热器，目标转盘，过程压力，系统泵和激光触发。由于衬底可以转移，多种选择变得可行。这些包括但不限于将PLD系统与各种其他沉积平台(如特高压溅射系统)集成，也与特高压分析系统(如XPS/ARPES等)集成。

产品特点

•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

•使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。

•氧化膜沉积的氧相容性。

•升级:离子辅助PLD，组合型PLD，目标衬底负载锁定。

•其他沉积源:脉冲电子沉积(PED)，射频/直流溅射，直流离子枪。

•与XPS /ARPES特高压集群工具集成，原位特高压晶片转移。

•原位诊断:低角度x射线光谱学(LAXS)和离子能光谱学(IES)。

技术参数

	Pioneer240	Pioneer180	Pioneer120A
最大wafer 直径	8”	6”	2”
最大靶材数量	6 个1” 或3 个2”	6 个1” 或3 个2”	6 个1” 或3 个2”
压力(Torr) *	5*10^-8	5*10^-9	5*10^-9
真空室直径	24”	18”	12”
基片加热器	360°旋转	360°旋转	360°旋转
最高样品温度	850 ℃	850 ℃（升级1000 ℃）	950 ℃
Turbo 泵抽速* （liters/sec）	700 软件控制	400 软件控制	260 软件控制
计算机控制	包括	包括	包括
基片旋转	包括	包括	选件
基片预真空室	包括	选件	选件
扫描激光束系统	包括	选件	-
靶预真空室	包括	选件	-
IBAD 离子束辅助沉积	选件	选件	选件
CCS 连续组成扩展	选件	选件	-
高压RHEED	选件	选件	选件
520 liters/sec 泵	N/A	选件	-
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售后服务

产品货期： 90天
培训服务：安装调试现场免费培训
维修响应时间： 2天内

型号：	Pioneer 180 PLD System
产地：	美国
品牌：	Neocera
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