型号: | KSVDC |
产地: | 芬兰 |
品牌: | KSV |
评分: |
![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
仪器用途:用于溶液中的物质在基片上的成膜
仪器原理:
固体基片在没有表面压缩时,单一的浸入溶液,然后从溶液中退出,溶液中的材料就沉积到基片表面
沉积行程: 300 mm
基片尺寸: 最大8英寸
控制装置: 电子控制单元
控制方式: 软件控制
沉积速度: 1 to 1000 mm/min
该系统为软件控制,简单的自动操作,用户能从液相中进行独立的沉积,可以控制沉积的速度和等待时间,且沉积时运行平稳,无振动。适用于自组装薄膜、层-层组装(聚电解质吸附)、溶液-凝胶体涂膜、以及其它溶液浸渍涂膜应用。
用户单位 | 采购时间 |
长春应用化学所 | 2009/12/22 |
Comfort Limited | 2009/11/09 |
西北工业大学 | 2009/12/03 |
中国科学技术大学 | 2009/11/23 |
南京大学 | 2008/11/19 |
复旦大学 | 2008/01/14 |
3M中国上海公司 | 2008/08/18 |
3M中国上海公司 | 2007/12/14 |
相关产品
铝离子检测仪 MIPS
氟离子检测仪 MIPS
内毒素检测仪 MIPS
农药检测仪 MIPS
石英晶体微天平 MIPS
纳米等离子体传感分析仪 S2
纳米等离子体传感分析仪 M8
全晶圆工业阴极荧光CL-SEM系统 Santis 300
皮秒时间分辨阴极荧光 CL-SEM系统 Chronos
磁场成像显微镜系统 Magma EFI HiRes
磁场成像显微镜系统 Magma EFI
多参数表面等离子体共振分析仪(分子互作分析仪) MP-SPR 410A
离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System
大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems
组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System
关注
拨打电话
留言咨询