资料摘要
资料下载ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台，可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电极制作。
文献贡献者
SD-160使用说明书
简介：SD-160型离子溅射仪是采用二级（DC）直流溅射原理设计而成的离子溅射镀膜设备。二极（DC）直流溅射是一种最简单、可靠、经济的镀膜技术，是许多厂商提供的离子溅射仪的基础。 SD-160除了具有通常的基本结构外，它的特点是：配置有样品溅射室，真空显示表、溅射电流指示表、溅射电流调整控制器、微型真空阀、定时器。工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀洁净。 此外SD-160应用高稳定性、高灵敏度电磁阀，采用双气路自动控制系统，更易实现对样品的保护以及对样品成膜品质的保证。特别适用于电镜实验室的SEM样品制备和新材料研究的电极制作。
ETD-900C型离子溅射仪使用说明书
简介：ETD-900C是一款具有溅射和蒸发两种功能的镀膜设备，由一台ETD900型溅射仪和一个蒸发电源箱及样品室蒸发上盖组成，由电缆将两个机箱中的控制部件连接起来，通过面板上的按键状态，经溅射机箱中的CPU判别操作项，以确定允许与否（具体操作见说明书）。设备使用简便，性能可靠，蒸发材料为碳绳，溅射材料为金、铂等。
ETD-900 型离子溅射仪使用说明书
简介：ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。
ETD-800型全自动离子溅射仪操作说明
简介：ETD800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备； 操作简便，放入样品后可一键搞定； 数字式计数器满足精准定时要求，特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜； 外观时尚小巧，机箱大小仅 310mm x 260mm x 115mm。
ETD系列溅射仪安装指南
简介：ETD 系列离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。 适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。
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