半导体工业蚀刻碱液在线浓度测量--德国Centec

雷迪美特中国有限公司

2013/05/14 15:37

TA的动态

半导体硅晶片生产行业过程中，蚀刻晶片需要用一定浓度的碱液（NaOH和KOH)。这个浓度需要精确的和可重复的蚀刻过程测量和控制。

德国的Rhotec传感器适用于

- 硅晶片生产电子芯片

- 测量NaOH和KOH在[w/w% ]

- 蚀刻液浓度的Rhotec自动控制

测量原理
在线Rhotec-E密度传感器/传送器精确测量液体的密度，可以在极端工艺条件状态下使用。当样品经过U型管，振荡频率发生变化并测量相应的振荡频率，温度探头PT1000作温度补偿，测出的振荡频率转换为密度并显示w/w%，v/v%，Brix(白利糖度)，萃取率%或其他可测量介质的密度。使用此装置可记录分析液体的密度变化，尤其溶解性物质和非溶解性物质的混合物，如有机和无机混合物。

技术参数：

测量范围	0~3 g/cm3	过程连接	3/8”螺纹
精度	±0.0001 g/cm3	传感器连接	现场总路线DP
重现性	±0.00001 g/cm3	输入	2*digital（24VDC）
响应时间	≤ 1s	输出	3digital（24VDC） 2analog(4~20mA)
温度传感器	Pt1000	可选	现场总线DP
温度范围	-25~125℃	外壳防护等级	IP65
压力	最大50bar	电源	24VDC
接触样品的材质	哈氏合金C276，蒙乃尔合金400，耐热铬镍铁合金825，不锈钢1.4571，钽等	爆炸防护（可选）	Ex Ⅱ 2G Eex d ⅡC T6