方案摘要
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1、北京科技大学材料科学与工程学院功能材料研究所，北京（100083） 2、沈阳科晶设备制造有限公司，沈阳（110168） 1. 引 言 众所周知，金刚石是自然界目前所知最硬的材料，同时，它具有极高的热导率，高的电子和空位迁移率，并在很宽的光波段范围内（0.2~25μm）透明[1]。因此，诸多的优异性能促使人们对金刚石材料产生了浓厚的兴趣。早期，金刚石材料在刀具、磨具材料上广泛应用，其它电子、热学、光学、声学领域的应用都要求金刚石要经过抛光处才能够使用。20 世纪90 年代以来，随着化学气相沉积（CVD）技术的发展，人造金刚石自支撑膜已具有十分接近天然金刚石的各项性能。且成本也降到用户可以接受的范围，商业化应用前景可观[2]。本研究所长期致力于金刚石自支撑膜的研究和开发，已经开发出拥有我国独立知识产权的高功率100KW 级直流电弧等离子体溅射化学气相沉积系统(100KW DC Arc Plasma Jet CVD)，可以沉积出最大直径为120mm 的金刚石自支撑膜，厚度在1mm 左右[3]。然而，金刚石自支撑膜的后加工（包括切割、抛光、平整化等工序）特别困难，所以在金刚石自支撑膜抛光方面本研究所亦进行过较多的研究[4,5]，但是效果都不明显，不是效率太低，且易损坏样品，就是研磨设备成本过高，控制稳定性差，不利于进行产业化的应用。 如今金刚石膜的抛光方法已经存在多种，从早期到现在依次有：金刚石粉研磨[6]、热化学抛光[7]、离子束抛光[8]、等离子抛光[9]、化学机械抛光 [10]、激光抛光[11]等方法。这些方法当中，各有优缺点，万静[12]等综述比较了这些方法各自的特点。本文选用的方法是最古老、最方便、原理最简单的金刚石粉机械研磨抛光方法，研磨抛光的设备选用沈阳科晶 设备制造有限公司专门研制的UNIPOL－1502A 抛光机。通过研究研磨盘面形、转盘转速、金刚石粉颗粒尺寸对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响，找出新技术的工艺参数和工艺条件。
文献贡献者
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