方案摘要
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2. 试 验 金刚石自支撑膜是由本实验室的100KW 级高功率直流电弧等离子体溅射化学气相沉积系统制备而成，沉积金刚石自支撑膜的工艺参数如表1 所示。 Table 1 Depositing parameters of the diamond thin film 功率 KW 15 沉积室压强 KPa 4.2 基体温度 ℃ ～950 H2 流量 SLM 8 CH4 流量 SCCM 120 Ar 流量 SLM 2 沉积时间 hour 80 基体 Mo 金刚石自支撑膜的直径为φ60mm，厚度为1mm，生长面的最初粗糙度Ra 大于12μm，并且表面生长不均匀，呈现起伏不平的形貌特征。 抛光设备选用沈阳科晶设备制造有限公司的UNIPOL-1502A 型自动研磨抛光机，该设备可无级调速，试样加载为载物盘自身重力加载，铸铁盘选平面盘或带槽平盘，还可同时加工3 个试样达到小批量生产的能力。该设备研磨盘旋转平稳，φ380mm 的研磨抛光盘的跳动范围在5～10μm，对试样损害小。 金刚石粉选用高温高压爆炸法制备的筛选粉，粒度级别分别是100/120、140/170、200/230，采用加水研磨，金刚石粉可部分回收。 本实验旨在探索新的设备的工艺参数，故尝试不同的转速，不同的金刚石粉颗粒尺寸，不同表面形状的研磨盘，工作固定的时间段，选择最大磨削量的工艺参数作为结果参数。
文献贡献者
复合材料切割的最佳选择—金刚石线切割机
汽车橡胶密封条检测样品的切割选择
试验室用典型切割机的适用范围和选型
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