真空快速热压炉(VRHP)
1100℃小型布里奇曼晶体生长炉
小型4通道管式炉(炉管直径25mm,温度1700℃
MOCVD设备将Ⅱ或Ⅲ族金属有机化合物与Ⅳ或Ⅴ族元素的氢化物相混合后通入反应腔,混合气体流经加热的衬底表面时,在衬底表面发生热分解反应,并外延生长成化合物单晶薄膜。
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