Si/SiO2/Ta/Cu薄膜

Si/SiO2/Ta/Cu薄膜

参考价：面议
型号： Si/SiO2/Ta/Cu薄膜
产地： 美国
品牌： 合肥科晶
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合肥科晶材料技术有限公司
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产品详情

 

产品名称：

Si/SiO2/Ta/Cu薄膜?（进口?Cu?Epi?Film?Coated?on?Ta/SiO2/Si?Wafer）

技术参数：

Cu<111>参数：100nm400nm(highly?oriented?poly-crystalline?Cu)

Ta厚度：20-50nm （Ta diffusion barrier）

Si/SiO2参数：<100>  P型掺B；300nmSiO2；R:1-20ohm-cm;单抛Si/SiO2尺寸：dia 4inch x 0.525mm

表面粗糙度：As grown

 

产品尺寸：

dia4 inch or 10x10mm

 

标准包装：

1000级超净室100级超净袋真空包装或单片盒

合肥科晶材料技术有限公司为您提供合肥科晶仪表元件Si/SiO2/Ta/Cu薄膜 ，合肥科晶Si/SiO2/Ta/Cu薄膜 产地为美国，属于仪表元件/仪表材料/仪表工艺，除了Si/SiO2/Ta/Cu薄膜 的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多仪表元件/仪表材料/仪表工艺,合肥科晶客服电话400-860-5168转2205，售前、售后均可联系。

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