华维纳 纳米激光直写系统 LDW-P

纳米激光直写系统

苏州华维纳纳米科技有限公司：

成立于2011年，公司设有博士后流动站。公司曾先后获得国家科技部（国家重大大科学仪器设备开发专项)和姑苏、江苏省双创人才、以及苏州x-nano大科学装置等项目支持2015年被认定为高新技术企业。 

新型激光直写采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。

技术性能：

超衍射分辨纳米加工、图片数据直接调制激光脉冲、刻写聚焦光斑小至275nm、刻写网格间距小至75nm、最小刻写尺寸可达50nm

适用性：

◆适用掩模加工、结构与器件制备；可选不同尺寸的位移平台；

◆可根据需求灵活改变刻写参数；可配备不同数值孔径与倍率的物镜；

◆适用于无机材料与有机光刻胶

原理：激光与材料的非线性相互作用，突破衍射极限的限制在LDW系统中，聚焦激光的非线性能量分布遵循高斯分布。这种分布导致了激光斑点的中心区域和外圈之间的能量差异很大。当聚焦激光束照射一个具有反应阈值的受体薄膜时，通过激光参数的选择可保证只有中心区域内的激光能量能超过材料阈值并产生有效作用，而激光焦斑外围的能量小于材料阈值，无法对材料产生有效作用。这使得激光与材料实际作用的面积大大减小，甚至可以达到衍射极限的几十分之一，从而实现超衍射加工。

聚焦光斑对材料的有效作用区域会依照材料的阈值相应变化

主要模块：

强大的控制软件:

计算机内置的LDW-SC控制软件，实现刻写前样品分析，设计图形输入与刻写，完成刻写后的在线分析。

超精密的工件台运动控制:

采用高阶FPGA开发板，控制压电陶瓷平台在全行程进行扫描，从而获得20000*20000像素点的超精细刻写图像。

高精度工件台:

◆分辨率1nm，绝对定位精度小于10nm

◆刻写范围可选：1500*1500、1000*1000、500*500、200*200、100*100μm

◆大行程的手动XY移动台（范围25*25mm，精度0.01mm），实现大尺度样品大范围移动定位。

刻写物镜:

◆大数值孔径：工作距离近，焦深浅，视场小，适用精细刻写

◆小数值孔径：工作距离远，焦深大，视场大，适用快速大面积刻写

高精准激光功率控制:

◆功率起伏度小于1%，可实现激光功率的稳定输出及对激光脉冲的快速调控响应。

纳米激光直写系统制作实例:

浮雕型微纳圆光栅和方光栅

Ag 纳米薄膜的 SERS 芯片

纳米带阵列

灰度掩模制备菲涅尔玻璃透镜

金属表面微纳结构

有机材料微纳米隧道、高精度微电路电极

苏州华维纳纳米科技有限公司创始人刘前教授介绍：

博士生导师，中国科学院大学、南开大学教授、苏州纳米所客座研究员。

　　主要从事新型微纳加工方法、纳米光学与光子学、纳米薄膜与器件、功能纳米材料等领域的研究，作为首席科学家和课题负责人已主持完成科研项目十余个，包括国家973、863、国家重大研究计划、国家基金委重大研究计划项目等。已在Nature Commun.，Nano Letters，JACS, Adv Mater，ACS Nano，Light, OL\OE等学术刊物上发表论文200余篇，出版英文专著(Novel Optical Technologies for Nanofabrication, Springer出版)和译著各一部，获得美、日和中国授权专利以及申请中的国际国内专利30余项，研制成功纳米台阶高度国家一级标准物质5个。现任《现代物理》主编, 十余个中英文杂志的编委，澳大利亚科学研究委员会（ARC）国家基金项目的海外评审专家，2013年度被评为中国科学人材料领域年度个人、爱思唯尔2014年度中国高被引学者等。