日立高新UHPLC-ChromasterUltra Rs设计理念感想之设计现场责任人

       2013年11月,日立高新在中国推出了最新款UHPLC——ChromasterUltra Rs(简称:CMU),使制药和化学行业的研发部门对超快速、高分离度和高灵敏度分析的终极需求成为现实。

该仪器的特点可概括为:

(1)超快速分析

●可耐受140 MPa的压力,是目前世界最高的耐压水平。

(2)高分离度分析

●新研发的高分离度色谱柱 ,将超高分离度分析带入更高的水平。

●使用日立独创的部件和技术,可实现更好的混合效果和更稳定的溶剂输送。

●二极管阵列(DAD)检测器标配全新流通池,有效抑制了柱外扩散,实现了更高的分离度。

(3)高灵敏度分析

●二极管阵列(DAD)检测器选配的高灵敏度流通池,可获得极高的灵敏度。

●二极管阵列(DAD)检测器,噪音更低,漂移更小,灵敏度更优异。

●自动进样器的多种清洗模式,有效降低了样品残留。

 

        最近,我们采访了光学技术小组总工程师即此次CMU设计现场负责人--伊藤正人先生,他提出了从CMU设计到最终商品化的感想--“团队精神的重要性”。

        “组成UHPLC团队的分析系统设计部的成员们,是一群具有卓越才干的个性派。针对设计部总负责人河原井先生所提出的设计目标,作为设计现场责任人的伊藤,时刻不忘充分发挥自己的能力。为此,伊藤尽量经常提出建议,开发遇到困难,无法实现所要求的性能时,伊藤都敢于提出自己的想法。 伊藤说:“虽然UHPLC最关注的是速度,但我们认为应该以分离性能为中心。如果未知杂质的峰分析1次就可以实现分离的话,那也只不过是因为缩短了分析时间。我认为通过追求高分离度,必然能获得高灵敏度和高速度。”但是,事情没有那么简单。虽然系统耐受压力从60MPa到80MPa很顺利的通过了,但是刚超过100MPa,就非常难控制。这样看来,似乎140MPa的耐压目标就达不到了。于是团队所有成员马上开始进行重新调整。看来要追求高分离度的话,是任重而道远了。但是,整个团队发挥了最大的力量,推出了前所未有的UHPLC--ChromasterUltra Rs。”

 

关于日立超高效液相色谱仪 ChromasterUltra Rs,请参考:

http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/C191772.htm

 

 

关于日立高新技术公司:

日立高新技术公司,于2013年1月,融合了X射线和热分析等核心技术,成立了日立高新技术科学。以“光”“电子线”“X射线”“热”分析为核心技术,精工电子将本公司的全部股份转让给了株式会社日立高新,因此公司变为日立高新的子公司,同时公司名称变更为株式会社日立高新技术科学,扩大了科学计测仪器领域的解决方案。日立高新技术集团产品涵盖半导体制造、生命科学、电子零配件、液晶制造及工业电子材料,产品线更丰富的日立高新技术集团,将继续引领科学领域的核心技术。

更多信息敬请关注:http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/

 

 

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