内透镜扫描电镜-离子研磨IM4000联用原理及应用

 

    日立SU9000超高分辨冷场发射扫描电镜,达到扫描电镜世界最高二次电子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改进的真空系统和电子光学系统,不仅分辨率性能明显提升,而且作为一款冷场发射扫描电镜甚至不需要传统意义上的Flashing操作,可以高效率的快速获取样品超高分辨扫描电镜图像。


内透镜扫描电镜-离子研磨IM4000联用样品台  

不需把样品从SEM截面样品台上取下,直接用离子研磨 

不需用导电胶或固定胶固定样品  

内透镜SEM截面样品座


操作步骤

NAND闪存截面观测

   

    左图为NAND闪存切割后直接在内透镜扫描电镜SU9000下的观测结果,右图为同一区域同一条件下,再经过IM4000的氩离子束研磨后的观测结果。研磨前,如箭头所指处,由于堆积了很多其他杂质,以及原貌变形及损伤,可供观测及测量的浮栅的区域十分有限。但经过IM4000离子研磨后,样品截面十分平整干净,整个观测区域都可观测到浮栅及STI(Shallow Trench Isolation)。  



该产品更多信息请关注:

SU9000  http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/C138508.htm

IM4000   http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/C138638.htm

 

关于日立高新技术公司:

日立高新技术公司,于2013年1月,融合了X射线和热分析等核心技术,成立了日立高新技术科学。以“光”“电子线”“X射线”“热”分析为核心技术,精工电子将本公司的全部股份转让给了株式会社日立高新,因此公司变为日立高新的子公司,同时公司名称变更为株式会社日立高新技术科学,扩大了科学计测仪器领域的解决方案。日立高新技术集团产品涵盖半导体制造、生命科学、电子零配件、液晶制造及工业电子材料,产品线更丰富的日立高新技术集团,将继续引领科学领域的核心技术。更多信息敬请关注日立高新官方网站:http://www.hitachi-hightech.com/cn/

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