普罗米修斯助力 Air Liquid 开发新型 ALD 前驱体

2021/11/01   下载量： 0 次

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应用领域 电子/电气
检测样本 其他
检测项目 物理性质
参考标准 ALD,原子层沉积,粉末包覆

ALD 反应依赖于多种前驱体化学物质得到最终产物的一种气相沉积技术。由于 ALD 反应的自限制特性，前驱体通常是过量的，从而保证表面的饱和化学吸附，实现均匀包覆。在半导体工艺中，ALD 技术已经得到广泛应用。

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希腊神话中普罗米修斯窃取天机，为人类带来火焰与文明。而纳米科学家们无疑是我们时代的“普罗米修斯”。原子层沉积技术（ALD）作为一种精确到原子层面的沉积技术，探寻各种各样的配方就如同“纳米盗火者”一般，将微观世界的火种带入现实。


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ALD 反应依赖于多种前驱体化学物质得到最终产物的一种气相沉积技术。由于 ALD 反应的自限制特性，前驱体通常是过量的，从而保证表面的饱和化学吸附，实现均匀包覆。在半导体工艺中，ALD 技术已经得到广泛应用。近年来，随着粉末 ALD 包覆研究：PALD（Particle ALD）的兴起，前驱体的开发被赋予了更高的使命与要求。开发新型 ALD 前驱体，将是“纳米盗火者”们不竭的使命。


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开发各类前驱体是进行 ALD 反应的关键

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复纳科学仪器（上海）有限公司
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