2014年表面科学分析与技术应用学术会议，由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会主办，四川大学分析测试中心协办，於8月29至30日在成都四川大学红瓦宾馆成功举办。
高德英特（北京）科技有限公司积极参与了本次会议，共5人参加，同时也邀请了ULVAC-PHI工厂的专家柴崎先生和真田先生，参加了本次会议。并在会议现场设置了展台，向与会的各位专家和学者，展示了ULVAC-PHI所制造的表面分析仪器，当中包括Ｘ射线光电子能谱仪，即PHI 5000 Versaprobe II, PHI Quantera II 及 X-TOOL；俄歇电子能谱仪, PHI710；和飞行时间-二次离子质谱仪，PHI-TRIFT V。
会议期间来自ULVAC-PHI的技术专家真田先生做了题为‘Scanning XPS Microprobe to Support Advanced Inorganic and Organic Materials Analysis’，向与会的各位老师详细的介绍了扫描X-射线光电子能谱仪的原理及其优势。同时，介绍了扫描X-射线光电子能谱仪在电子封装微连接方面和燃料电池方面的应用，让国内专家了解扫描微聚焦X-ray特点。会后与会的全体人员合影留念。
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