X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)是利用X射线入射样品表面,通过探测出射的光电子来获取样品表面组成和化学态信息的一种表面分析方法。目前,XPS作为实验室中重要的表面分析技术手段,已经广泛地应用于材料、能源、催化、微电子以及半导体产业等领域中,对于理解其中的构效关系起到重要的作用。
为了帮助对XPS进一步了解及使用,PHI CHINA应用专家鞠焕鑫博士在在2021年10月21日做客贵州大学分析技术讲座,为大家带来“XPS表面分析技术原理、应用及数据处理漫谈”的精彩报告。
报告时间
2021年10月21日 14:30-16:30
会议地址
贵州大学材料与冶金学院小二楼报告厅
报告题目
XPS表面分析技术原理、应用及数据处理漫谈
重点内容
XPS原理和技术特点:表面分析、结合能、化学位移;
XPS应用:结合科学研究来分享XPS在化学态空间分辨中的应用案例,包括XPS化学态微区分析和深度分析;
XPS数据处理:结合能校准、化学态解析、谱峰拟合、数据拟合的合理性判定和数据快速批量拟合等。
报告人
鞠焕鑫 博士
简介
鞠焕鑫博士,PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司应用科学家。分别于2009年和2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位,毕业后在国家同步辐射实验室从事博士后研究。2016年6月-2018年10月,中国科学技术大学国家同步辐射实验室特任副研究员。2018年11月,加入PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司,担任应用专家。长期从事软X射线谱学方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究,在学术研究方面与用户合作在Science, Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater, Adv Funct Mater等期刊发表学术论文百余篇;主持/参与多个国家级科研项目。
PHI VersaProbe 4
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