PHI CHINA多年来一直致力于探索PHI XPS表面分析技术手段在各个研究方向的应用与发展,在开展一系列网络讲座的同时,也积极的参与各高校开展的主题会议。
为与各位专家学者、老师同学们可以面对面的交流讨论,PHI CHINA将做客贵州民族大学在2021年10月22日开展的分析技术讲座,并为大家带来主题为“XPS表面分析技术原理、应用及数据处理漫谈”,欢迎大家前往现场进行技术交流!
报告时间
2021年10月22日 9:30-11:30
会议地址
贵州民族大学材料科学与工程学院会议室
报告题目
XPS表面分析技术原理、应用及数据处理漫谈
重点内容
▷XPS原理和技术特点:表面分析、结合能、化学位移;
▷XPS应用:结合科学研究来分享XPS在化学态空间分辨中的应用案例,包括XPS化学态微区分析和深度分析;
▷XPS数据处理:结合能校准、化学态解析、谱峰拟合、数据拟合的合理性判定和数据快速批量拟合等。
主讲简介
主讲
鞠焕鑫 博士
简介
鞠焕鑫博士,PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司应用科学家。分别于2009年和2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位,毕业后在国家同步辐射实验室从事博士后研究。2016年6月-2018年10月,中国科学技术大学国家同步辐射实验室特任副研究员。2018年11月,加入PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司,担任应用专家。长期从事软X射线谱学方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究,在学术研究方面与用户合作在Science, Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater, Adv Funct Mater等期刊发表学术论文百余篇;主持/参与多个国家级科研项目。
PHI VersaProbe 4
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